CN106023069A - 一种基于视频流的多dmd曝光方法 - Google Patents

一种基于视频流的多dmd曝光方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106023069A
CN106023069A CN201610376217.1A CN201610376217A CN106023069A CN 106023069 A CN106023069 A CN 106023069A CN 201610376217 A CN201610376217 A CN 201610376217A CN 106023069 A CN106023069 A CN 106023069A
Authority
CN
China
Prior art keywords
dmd
image
video flowing
exposure
bmp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610376217.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106023069B (zh
Inventor
杨刚
姜福义
孔文青
武洋
石峰
姚洪涛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
XI'AN QIANNIU ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Original Assignee
XI'AN QIANNIU ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by XI'AN QIANNIU ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical XI'AN QIANNIU ELECTRONIC TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201610376217.1A priority Critical patent/CN106023069B/zh
Publication of CN106023069A publication Critical patent/CN106023069A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106023069B publication Critical patent/CN106023069B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T3/00Geometric image transformations in the plane of the image
    • G06T3/18Image warping, e.g. rearranging pixels individually
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2057Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

一种基于视频流的多DMD曝光方法,包括视频流的生成,视频流的使用,对BMP位图的切割,多DMD的安装与使用,多DMD同时进行曝光以及图像的畸变处理。本发明改变了市场上之前一直基于图像的曝光方法,减少了内存的使用与主控FPGA芯片的使用,成本大幅度降低,同时基于多DMD,产能快速提升。

Description

一种基于视频流的多DMD曝光方法
技术领域
本发明涉及精密制造PCB曝光技术领域,具体涉及一种基于视频流的多DMD曝光方法。
背景技术
目前经过调研,国内大多数的PCB制板厂家均为有掩膜曝光设备,无掩膜曝光在国内应用的少之又少,有掩膜曝光不仅生产效率比较低,而且使用掩膜板,使用成本比较高,并且还会造成污染与浪费。
无掩膜曝光直接通过紫外线或者激光成像在光刻胶上,减少了掩膜板的使用,大幅度提高了生产效率,降低了对环境的危害。
目前,主流的无掩膜曝光方法都是通过图像的单DMD曝光方法,需要主流的FPGA芯片进行控制,制作成本比较高。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足,本发明的目的是提供一种基于视频流的多DMD曝光方法,来达到降低成本提高产能的目的。
为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案为:
一种基于视频流的多DMD曝光方法,包括以下步骤:
1)Gerber图像的转换:将标准的待曝光的Gerber文件转化为BMP位图;
2)图像的预畸变处理:在曝光的过程中,采用CCD对步骤1)中的转化生成的BMP位图进行孔位的校准,由于板子的孔位不能与BMP图像孔位进行完好的匹配,对转换生成的标准的BMP位图进行畸变处理,得到能够匹配板子的曝光图像;
3)图像的切割:根据不同的DMD需要的图像像素的大小,将校正后的BMP图像切割为不同型号的DMD要求的对应的大小,所述的切割的时候需要进行分区化处理;
4)视频的生成:将分配给不同的DMD的图像按照指定的帧数生成视频流;
5)每个DMD对应的数据线与显示屏进行连接,通过数据线将视频流传输到DMD上进行投影,每个DMD对应的显示屏分辨率和DMD的分辨率相对应,每块DMD曝光一块连续区域,不同的显示屏传输不同的视频流,DMD内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
所述的步骤4)中,对于视频流的生成,可以任意的调整生成的视频流的帧数,可以选择任意的图片,可以在视频流生成前添加改动的图像。
所述的步骤1)中,对于生成的BMP位图,图像像素不缺失。
所述的步骤2)中,PCB图像畸变处理的时候能够根据CCD捕捉到的孔位的位置,设置不同的涨缩系数,达到图像的正确匹配。
本发明的有益效果是:
本发明使用了前后端分离技术,设置了服务器端与客户端,服务器端采用小红帽版本,64g内存,能够快速的完成图像的处理与视频流的生成,客户端是为了实现操作人员对整机的控制。同时使用多个DMD同时步进移动,统一采用405nm的紫外线光源照射,完成整个PCB板的曝光,极大的提高了产能。
视频流中有几个必须能够改变的元素,可以自由的改变待生成的视频流。需要在视频流中控制帧数,可以自由的完成在视频流中添加与删除切割的图像。
附图说明
图 1 是本发明的视频流工作原理图;
图 2 是本发明的图像涨缩处理原理图;
图 3 是本发明的多DMD同时曝光过程原理图;
图 4 是本发明的适应多DMD,对BMP位图进行分区;
图 5 是本发明的前后端分离整体框图;
其中,1为显示屏;2为数据连接线;3为DMD;4为标准的BMP图像;5为标准定位孔;6为进行校正后的图像;7为打偏的定位孔;8为光学引擎;9为PCB板;10为405nm的紫外线;11为在PCB板上的投影;12为服务器;13为发送数据客户端;14为控制终端。
具体实施方式
以下根据附图对本发明进一步叙述。
一种基于视频流的多DMD曝光方法,包括以下步骤:
1)Gerber图像的转换:将标准的待曝光的Gerber文件转化为BMP位图;
2)图像的预畸变处理:在曝光的过程中,采用CCD对步骤1)中的转化生成的BMP位图进行孔位的校准,由于板子的孔位不能与BMP图像孔位进行完好的匹配,对转换生成的标准的BMP位图进行畸变处理,得到能够匹配板子的曝光图像;
3)图像的切割:根据不同的DMD需要的图像像素的大小,将校正后的BMP图像切割为不同型号的DMD要求的对应的大小,所述的切割的时候需要进行分区化处理;
4)视频的生成:将分配给不同的DMD的图像按照指定的帧数生成视频流;
5)每个DMD对应的数据线与显示屏进行连接,通过数据线将视频流传输到DMD上进行投影,每个DMD对应的显示屏分辨率和DMD的分辨率相对应,每块DMD曝光一块连续区域,不同的显示屏传输不同的视频流,DMD内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
工作原理如下:
将转换过后的图像进行畸变处理,如图2所示,4是标准的BMP图像,每副图像上都有对应的定位孔,为了实现图像上的定位孔与5 PCB板上的定位孔保持一致,实现图像的正确匹配。在实际的曝光过程中,一般定位孔都会有一定的误差。7代表打偏的定位孔,定位孔在一定的误差范围内。为了满足曝光的需求,需要把4标准的BMP图像进行畸变。将图像进行一定范围的涨缩处理,使图像的定位孔能够与7打偏的定位孔进行匹配,这样,就完成了图像的预处理畸变过程。
实际的PCB板上的定位孔数据的读取是通过CCD相机进行孔位的抓取,计算出实际的孔位之间的距离,将孔位的距离与实际的进行对比,得到对应的上下左右的畸变数据,对图像进行涨缩处理,就得到预处理的图像。
如图4所示的进行分区,将图片进行切割,对BMP位图的分区图,每个DMD完成指定区域图像的曝光,将图像进行指定区域的切割,生成对应的视频流后发送到每块区域对应的DMD。
多DMD同时曝光的过程原理图如图3所示,多个DMD 3同时与8光学引擎相连接,每个DMD都有对应的光学引擎。通过405nm的紫外线进行照射,在9 PCB板上生成对应的图案。在实际曝光的过程中,DMD是固定的,PCB板是移动的,当PCB板从前侧移动到后侧之后,向左移动一个图像的距离,继续从后向前移动。依次移动下去。
如图1所示,每个DMD3对应的数据线2与显示屏1进行连接,通过数据线1将视频流传输到DMD3上进行投影,每个DMD3对应的显示屏1分辨率和DMD3的分辨率相对应,每块DMD3曝光一块连续区域,不同的显示屏1传输不同的视频流,DMD3内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
使用的图像必须是BMP位图,只有BMP位图才能实现涨缩之后的像素不失真,实现曝光过程中的精密控制。
图5是前后端分离整体框图。所有的图像处理均是在服务器12中完成的,客户端分为两个,一个是控制终端 14,一个是发送数据客户端 13。客户端将CAD室整理好的制板资料打包上传到12服务器端,服务器进行图片的预处理,切割,生成视频流等操作。14控制终端进行整体的控制,完成基板吸附,孔位校准,进行整机的参数调整等控制操作。服务器依次将生成的视频流发送到对应的1显示屏,通过DMD 3 实现曝光的整体流程。
由于有很大的数据量的图像进行处理,服务器端必须维持快速稳定高效的处理。采用小红帽的服务器端,64g内存,可以达到要求。

Claims (4)

1.一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)Gerber图像的转换:将标准的待曝光的Gerber文件转化为BMP位图;
2)图像的预畸变处理:在曝光的过程中,采用CCD对步骤1)中的转化生成的BMP位图进行孔位的校准,由于板子的孔位不能与BMP图像孔位进行完好的匹配,对转换生成的标准的BMP位图进行畸变处理,得到能够匹配板子的曝光图像;
3)图像的切割:根据不同的DMD需要的图像像素的大小,将校正后的BMP图像切割为不同型号的DMD要求的对应的大小,所述的切割的时候需要进行分区化处理;
4)视频的生成:将分配给不同的DMD的图像按照指定的帧数生成视频流;
5)每个DMD对应的数据线与显示屏进行连接,通过数据线将视频流传输到DMD上进行投影,每个DMD对应的显示屏分辨率和DMD的分辨率相对应,每块DMD曝光一块连续区域,不同的显示屏传输不同的视频流,DMD内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
2.根据权利要求1所述的一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,所述的步骤4)中,对于视频流的生成,可以任意的调整生成的视频流的帧数,可以选择任意的图片,可以在视频流生成前添加改动的图像。
3.根据权利要求1所述的一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,所述的步骤1)中,对于生成的BMP位图,图像像素不缺失。
4.根据权利要求1所述的一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,所述的步骤2)中,PCB图像畸变处理的时候能够根据CCD捕捉到的孔位的位置,设置不同的涨缩系数,达到图像的正确匹配。
CN201610376217.1A 2016-05-31 2016-05-31 一种基于视频流的多dmd曝光方法 Active CN106023069B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610376217.1A CN106023069B (zh) 2016-05-31 2016-05-31 一种基于视频流的多dmd曝光方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610376217.1A CN106023069B (zh) 2016-05-31 2016-05-31 一种基于视频流的多dmd曝光方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106023069A true CN106023069A (zh) 2016-10-12
CN106023069B CN106023069B (zh) 2019-04-16

Family

ID=57091663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610376217.1A Active CN106023069B (zh) 2016-05-31 2016-05-31 一种基于视频流的多dmd曝光方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106023069B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108303860A (zh) * 2018-03-26 2018-07-20 西安电子科技大学 一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法
CN109116686A (zh) * 2018-09-29 2019-01-01 苏州源卓光电科技有限公司 一种dmd多区域激光投影系统及曝光方法
WO2019218676A1 (zh) * 2018-05-14 2019-11-21 中山新诺科技股份有限公司 数字化光刻系统和方法
CN112684861A (zh) * 2020-12-25 2021-04-20 无锡影速半导体科技有限公司 一种数据处理系统及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101790775A (zh) * 2007-07-10 2010-07-28 Lg电子株式会社 无掩模曝光方法
CN102207690A (zh) * 2011-05-20 2011-10-05 合肥芯硕半导体有限公司 一种多slm曝光和数据处理方法
CN104199259A (zh) * 2014-09-22 2014-12-10 苏州德龙激光股份有限公司 大面积无掩膜板快速曝光的装置及其方法
CN104516216A (zh) * 2015-01-15 2015-04-15 厦门理工学院 一种多dmd拼接的曝光系统及方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101790775A (zh) * 2007-07-10 2010-07-28 Lg电子株式会社 无掩模曝光方法
CN102207690A (zh) * 2011-05-20 2011-10-05 合肥芯硕半导体有限公司 一种多slm曝光和数据处理方法
CN104199259A (zh) * 2014-09-22 2014-12-10 苏州德龙激光股份有限公司 大面积无掩膜板快速曝光的装置及其方法
CN104516216A (zh) * 2015-01-15 2015-04-15 厦门理工学院 一种多dmd拼接的曝光系统及方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ERIC J. HANSOTTE等: "High speed maskless lithography of printed circuit boards using digital micromirrors", 《EMERGING DIGITAL MICROMIRROR DEVICE BASED SYSTEMS AND APPLICATIONS III》 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108303860A (zh) * 2018-03-26 2018-07-20 西安电子科技大学 一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法
WO2019218676A1 (zh) * 2018-05-14 2019-11-21 中山新诺科技股份有限公司 数字化光刻系统和方法
CN109116686A (zh) * 2018-09-29 2019-01-01 苏州源卓光电科技有限公司 一种dmd多区域激光投影系统及曝光方法
CN109116686B (zh) * 2018-09-29 2021-05-07 苏州源卓光电科技有限公司 一种dmd多区域激光投影系统及曝光方法
CN112684861A (zh) * 2020-12-25 2021-04-20 无锡影速半导体科技有限公司 一种数据处理系统及方法
CN112684861B (zh) * 2020-12-25 2024-04-16 无锡影速半导体科技有限公司 一种数据处理系统及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN106023069B (zh) 2019-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106023069A (zh) 一种基于视频流的多dmd曝光方法
CN105425546B (zh) 一种dlp曝光能量均匀化的方法
JP2018503325A (ja) 画素データに対して演算を実行するためのシステムおよび方法
CN111460955A (zh) 一种自动跟踪点胶设备上的图像识别及处理系统
CN104657982A (zh) 一种投影仪标定方法
KR20120083854A (ko) 조정 장치, 레이저 가공 장치 및 조정 방법
TW201611569A (zh) 影像校正系統和立體照相機的校正方法
CN102801952A (zh) 视频会议系统调整的方法及装置
CN111986106A (zh) 一种基于神经网络的高动态图像重建方法
CN105881916B (zh) 一种基于大版面的3d快捷成型拼接方法及装置
CN106570907A (zh) 一种相机标定方法及装置
CN109581824B (zh) 一种直写式光刻机光均匀性标定方法及系统
US20100245545A1 (en) Flagging of Z-Space for a Multi-Camera 3D Event
TW202338507A (zh) 一種光刻機匹配方法
CN101331756A (zh) 用于从数字捕获图像中提供可再现数字影像产品的方法、装置和系统
CN108305231B (zh) 一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法
WO2024007587A1 (zh) 一种用于dlp3d打印的智能校正控制方法
CN109345562A (zh) 一种交通图片智能标注系统
CN102902077B (zh) 基于逆投影式的无螺纹自动调整镜头bfl方法
CN103034032A (zh) 一种基于球形显示的多投影机叠加自动校准方法
CN106447723B (zh) 一种烫金模板对准系统
CN201957163U (zh) 一种无缝显示系统
CN111562725B (zh) 一种基于时空协同变换曝光提高光刻分辨率的方法
CN101813893A (zh) 一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法
CN203076787U (zh) 激光直接成像加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant