CN106023069A - 一种基于视频流的多dmd曝光方法 - Google Patents
一种基于视频流的多dmd曝光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106023069A CN106023069A CN201610376217.1A CN201610376217A CN106023069A CN 106023069 A CN106023069 A CN 106023069A CN 201610376217 A CN201610376217 A CN 201610376217A CN 106023069 A CN106023069 A CN 106023069A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- dmd
- image
- video flowing
- exposure
- bmp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 230000013011 mating Effects 0.000 claims description 6
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 3
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 3
- 230000014616 translation Effects 0.000 claims description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- 101100277917 Caenorhabditis elegans dmd-3 gene Proteins 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T3/00—Geometric image transformations in the plane of the image
- G06T3/18—Image warping, e.g. rearranging pixels individually
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
一种基于视频流的多DMD曝光方法,包括视频流的生成,视频流的使用,对BMP位图的切割,多DMD的安装与使用,多DMD同时进行曝光以及图像的畸变处理。本发明改变了市场上之前一直基于图像的曝光方法,减少了内存的使用与主控FPGA芯片的使用,成本大幅度降低,同时基于多DMD,产能快速提升。
Description
技术领域
本发明涉及精密制造PCB曝光技术领域,具体涉及一种基于视频流的多DMD曝光方法。
背景技术
目前经过调研,国内大多数的PCB制板厂家均为有掩膜曝光设备,无掩膜曝光在国内应用的少之又少,有掩膜曝光不仅生产效率比较低,而且使用掩膜板,使用成本比较高,并且还会造成污染与浪费。
无掩膜曝光直接通过紫外线或者激光成像在光刻胶上,减少了掩膜板的使用,大幅度提高了生产效率,降低了对环境的危害。
目前,主流的无掩膜曝光方法都是通过图像的单DMD曝光方法,需要主流的FPGA芯片进行控制,制作成本比较高。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足,本发明的目的是提供一种基于视频流的多DMD曝光方法,来达到降低成本提高产能的目的。
为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案为:
一种基于视频流的多DMD曝光方法,包括以下步骤:
1)Gerber图像的转换:将标准的待曝光的Gerber文件转化为BMP位图;
2)图像的预畸变处理:在曝光的过程中,采用CCD对步骤1)中的转化生成的BMP位图进行孔位的校准,由于板子的孔位不能与BMP图像孔位进行完好的匹配,对转换生成的标准的BMP位图进行畸变处理,得到能够匹配板子的曝光图像;
3)图像的切割:根据不同的DMD需要的图像像素的大小,将校正后的BMP图像切割为不同型号的DMD要求的对应的大小,所述的切割的时候需要进行分区化处理;
4)视频的生成:将分配给不同的DMD的图像按照指定的帧数生成视频流;
5)每个DMD对应的数据线与显示屏进行连接,通过数据线将视频流传输到DMD上进行投影,每个DMD对应的显示屏分辨率和DMD的分辨率相对应,每块DMD曝光一块连续区域,不同的显示屏传输不同的视频流,DMD内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
所述的步骤4)中,对于视频流的生成,可以任意的调整生成的视频流的帧数,可以选择任意的图片,可以在视频流生成前添加改动的图像。
所述的步骤1)中,对于生成的BMP位图,图像像素不缺失。
所述的步骤2)中,PCB图像畸变处理的时候能够根据CCD捕捉到的孔位的位置,设置不同的涨缩系数,达到图像的正确匹配。
本发明的有益效果是:
本发明使用了前后端分离技术,设置了服务器端与客户端,服务器端采用小红帽版本,64g内存,能够快速的完成图像的处理与视频流的生成,客户端是为了实现操作人员对整机的控制。同时使用多个DMD同时步进移动,统一采用405nm的紫外线光源照射,完成整个PCB板的曝光,极大的提高了产能。
视频流中有几个必须能够改变的元素,可以自由的改变待生成的视频流。需要在视频流中控制帧数,可以自由的完成在视频流中添加与删除切割的图像。
附图说明
图 1 是本发明的视频流工作原理图;
图 2 是本发明的图像涨缩处理原理图;
图 3 是本发明的多DMD同时曝光过程原理图;
图 4 是本发明的适应多DMD,对BMP位图进行分区;
图 5 是本发明的前后端分离整体框图;
其中,1为显示屏;2为数据连接线;3为DMD;4为标准的BMP图像;5为标准定位孔;6为进行校正后的图像;7为打偏的定位孔;8为光学引擎;9为PCB板;10为405nm的紫外线;11为在PCB板上的投影;12为服务器;13为发送数据客户端;14为控制终端。
具体实施方式
以下根据附图对本发明进一步叙述。
一种基于视频流的多DMD曝光方法,包括以下步骤:
1)Gerber图像的转换:将标准的待曝光的Gerber文件转化为BMP位图;
2)图像的预畸变处理:在曝光的过程中,采用CCD对步骤1)中的转化生成的BMP位图进行孔位的校准,由于板子的孔位不能与BMP图像孔位进行完好的匹配,对转换生成的标准的BMP位图进行畸变处理,得到能够匹配板子的曝光图像;
3)图像的切割:根据不同的DMD需要的图像像素的大小,将校正后的BMP图像切割为不同型号的DMD要求的对应的大小,所述的切割的时候需要进行分区化处理;
4)视频的生成:将分配给不同的DMD的图像按照指定的帧数生成视频流;
5)每个DMD对应的数据线与显示屏进行连接,通过数据线将视频流传输到DMD上进行投影,每个DMD对应的显示屏分辨率和DMD的分辨率相对应,每块DMD曝光一块连续区域,不同的显示屏传输不同的视频流,DMD内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
工作原理如下:
将转换过后的图像进行畸变处理,如图2所示,4是标准的BMP图像,每副图像上都有对应的定位孔,为了实现图像上的定位孔与5 PCB板上的定位孔保持一致,实现图像的正确匹配。在实际的曝光过程中,一般定位孔都会有一定的误差。7代表打偏的定位孔,定位孔在一定的误差范围内。为了满足曝光的需求,需要把4标准的BMP图像进行畸变。将图像进行一定范围的涨缩处理,使图像的定位孔能够与7打偏的定位孔进行匹配,这样,就完成了图像的预处理畸变过程。
实际的PCB板上的定位孔数据的读取是通过CCD相机进行孔位的抓取,计算出实际的孔位之间的距离,将孔位的距离与实际的进行对比,得到对应的上下左右的畸变数据,对图像进行涨缩处理,就得到预处理的图像。
如图4所示的进行分区,将图片进行切割,对BMP位图的分区图,每个DMD完成指定区域图像的曝光,将图像进行指定区域的切割,生成对应的视频流后发送到每块区域对应的DMD。
多DMD同时曝光的过程原理图如图3所示,多个DMD 3同时与8光学引擎相连接,每个DMD都有对应的光学引擎。通过405nm的紫外线进行照射,在9 PCB板上生成对应的图案。在实际曝光的过程中,DMD是固定的,PCB板是移动的,当PCB板从前侧移动到后侧之后,向左移动一个图像的距离,继续从后向前移动。依次移动下去。
如图1所示,每个DMD3对应的数据线2与显示屏1进行连接,通过数据线1将视频流传输到DMD3上进行投影,每个DMD3对应的显示屏1分辨率和DMD3的分辨率相对应,每块DMD3曝光一块连续区域,不同的显示屏1传输不同的视频流,DMD3内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
使用的图像必须是BMP位图,只有BMP位图才能实现涨缩之后的像素不失真,实现曝光过程中的精密控制。
图5是前后端分离整体框图。所有的图像处理均是在服务器12中完成的,客户端分为两个,一个是控制终端 14,一个是发送数据客户端 13。客户端将CAD室整理好的制板资料打包上传到12服务器端,服务器进行图片的预处理,切割,生成视频流等操作。14控制终端进行整体的控制,完成基板吸附,孔位校准,进行整机的参数调整等控制操作。服务器依次将生成的视频流发送到对应的1显示屏,通过DMD 3 实现曝光的整体流程。
由于有很大的数据量的图像进行处理,服务器端必须维持快速稳定高效的处理。采用小红帽的服务器端,64g内存,可以达到要求。
Claims (4)
1.一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)Gerber图像的转换:将标准的待曝光的Gerber文件转化为BMP位图;
2)图像的预畸变处理:在曝光的过程中,采用CCD对步骤1)中的转化生成的BMP位图进行孔位的校准,由于板子的孔位不能与BMP图像孔位进行完好的匹配,对转换生成的标准的BMP位图进行畸变处理,得到能够匹配板子的曝光图像;
3)图像的切割:根据不同的DMD需要的图像像素的大小,将校正后的BMP图像切割为不同型号的DMD要求的对应的大小,所述的切割的时候需要进行分区化处理;
4)视频的生成:将分配给不同的DMD的图像按照指定的帧数生成视频流;
5)每个DMD对应的数据线与显示屏进行连接,通过数据线将视频流传输到DMD上进行投影,每个DMD对应的显示屏分辨率和DMD的分辨率相对应,每块DMD曝光一块连续区域,不同的显示屏传输不同的视频流,DMD内部的微镜,对每个像素的控制,快速的进行镜片的角度变换,实现每副图像的曝光,完成整个PCB板的曝光。
2.根据权利要求1所述的一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,所述的步骤4)中,对于视频流的生成,可以任意的调整生成的视频流的帧数,可以选择任意的图片,可以在视频流生成前添加改动的图像。
3.根据权利要求1所述的一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,所述的步骤1)中,对于生成的BMP位图,图像像素不缺失。
4.根据权利要求1所述的一种基于视频流的多DMD曝光方法,其特征在于,所述的步骤2)中,PCB图像畸变处理的时候能够根据CCD捕捉到的孔位的位置,设置不同的涨缩系数,达到图像的正确匹配。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610376217.1A CN106023069B (zh) | 2016-05-31 | 2016-05-31 | 一种基于视频流的多dmd曝光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610376217.1A CN106023069B (zh) | 2016-05-31 | 2016-05-31 | 一种基于视频流的多dmd曝光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106023069A true CN106023069A (zh) | 2016-10-12 |
CN106023069B CN106023069B (zh) | 2019-04-16 |
Family
ID=57091663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610376217.1A Active CN106023069B (zh) | 2016-05-31 | 2016-05-31 | 一种基于视频流的多dmd曝光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106023069B (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108303860A (zh) * | 2018-03-26 | 2018-07-20 | 西安电子科技大学 | 一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法 |
CN109116686A (zh) * | 2018-09-29 | 2019-01-01 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种dmd多区域激光投影系统及曝光方法 |
WO2019218676A1 (zh) * | 2018-05-14 | 2019-11-21 | 中山新诺科技股份有限公司 | 数字化光刻系统和方法 |
CN112684861A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-04-20 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 一种数据处理系统及方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101790775A (zh) * | 2007-07-10 | 2010-07-28 | Lg电子株式会社 | 无掩模曝光方法 |
CN102207690A (zh) * | 2011-05-20 | 2011-10-05 | 合肥芯硕半导体有限公司 | 一种多slm曝光和数据处理方法 |
CN104199259A (zh) * | 2014-09-22 | 2014-12-10 | 苏州德龙激光股份有限公司 | 大面积无掩膜板快速曝光的装置及其方法 |
CN104516216A (zh) * | 2015-01-15 | 2015-04-15 | 厦门理工学院 | 一种多dmd拼接的曝光系统及方法 |
-
2016
- 2016-05-31 CN CN201610376217.1A patent/CN106023069B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101790775A (zh) * | 2007-07-10 | 2010-07-28 | Lg电子株式会社 | 无掩模曝光方法 |
CN102207690A (zh) * | 2011-05-20 | 2011-10-05 | 合肥芯硕半导体有限公司 | 一种多slm曝光和数据处理方法 |
CN104199259A (zh) * | 2014-09-22 | 2014-12-10 | 苏州德龙激光股份有限公司 | 大面积无掩膜板快速曝光的装置及其方法 |
CN104516216A (zh) * | 2015-01-15 | 2015-04-15 | 厦门理工学院 | 一种多dmd拼接的曝光系统及方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ERIC J. HANSOTTE等: "High speed maskless lithography of printed circuit boards using digital micromirrors", 《EMERGING DIGITAL MICROMIRROR DEVICE BASED SYSTEMS AND APPLICATIONS III》 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108303860A (zh) * | 2018-03-26 | 2018-07-20 | 西安电子科技大学 | 一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法 |
WO2019218676A1 (zh) * | 2018-05-14 | 2019-11-21 | 中山新诺科技股份有限公司 | 数字化光刻系统和方法 |
CN109116686A (zh) * | 2018-09-29 | 2019-01-01 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种dmd多区域激光投影系统及曝光方法 |
CN109116686B (zh) * | 2018-09-29 | 2021-05-07 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种dmd多区域激光投影系统及曝光方法 |
CN112684861A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-04-20 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 一种数据处理系统及方法 |
CN112684861B (zh) * | 2020-12-25 | 2024-04-16 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 一种数据处理系统及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106023069B (zh) | 2019-04-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106023069A (zh) | 一种基于视频流的多dmd曝光方法 | |
CN105425546B (zh) | 一种dlp曝光能量均匀化的方法 | |
JP2018503325A (ja) | 画素データに対して演算を実行するためのシステムおよび方法 | |
CN111460955A (zh) | 一种自动跟踪点胶设备上的图像识别及处理系统 | |
CN104657982A (zh) | 一种投影仪标定方法 | |
KR20120083854A (ko) | 조정 장치, 레이저 가공 장치 및 조정 방법 | |
TW201611569A (zh) | 影像校正系統和立體照相機的校正方法 | |
CN102801952A (zh) | 视频会议系统调整的方法及装置 | |
CN111986106A (zh) | 一种基于神经网络的高动态图像重建方法 | |
CN105881916B (zh) | 一种基于大版面的3d快捷成型拼接方法及装置 | |
CN106570907A (zh) | 一种相机标定方法及装置 | |
CN109581824B (zh) | 一种直写式光刻机光均匀性标定方法及系统 | |
US20100245545A1 (en) | Flagging of Z-Space for a Multi-Camera 3D Event | |
TW202338507A (zh) | 一種光刻機匹配方法 | |
CN101331756A (zh) | 用于从数字捕获图像中提供可再现数字影像产品的方法、装置和系统 | |
CN108305231B (zh) | 一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法 | |
WO2024007587A1 (zh) | 一种用于dlp3d打印的智能校正控制方法 | |
CN109345562A (zh) | 一种交通图片智能标注系统 | |
CN102902077B (zh) | 基于逆投影式的无螺纹自动调整镜头bfl方法 | |
CN103034032A (zh) | 一种基于球形显示的多投影机叠加自动校准方法 | |
CN106447723B (zh) | 一种烫金模板对准系统 | |
CN201957163U (zh) | 一种无缝显示系统 | |
CN111562725B (zh) | 一种基于时空协同变换曝光提高光刻分辨率的方法 | |
CN101813893A (zh) | 一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法 | |
CN203076787U (zh) | 激光直接成像加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |