CN106021318A - 电路图辅助分析系统及其方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种电路图辅助分析系统。所述电路图辅助分析系统包括交底材料导入模块、电路图扫描模块、相关专利库生成模块、电路图对比模块及对比专利导出模块，所述交底材料导入模块用于导入交底材料；所述电路图扫描模块用于扫描所述交底材料中的电路图以形成待分析电路图；所述相关专利库生成模块用于根据所述检索信息从专利数据库中检索相关专利形成相关专利库；所述电路图对比模块用于计算各所述相关专利的相关度，并筛选所述相关度大于或等于预设的相关度阈值的相关专利作为对比专利；所述对比专利导出模块用于导出所述对比专利。与相关技术相比，本发明的电路图辅助分析系统自动对电路图进行对比分析，效率高且不会出错。

Description

电路图辅助分析系统及其方法
技术领域
本发明涉及专利管理技术领域，特别涉及一种电路图辅助分析系统及其方法。
背景技术
随着经济全球化的深入发展和知识经济的蓬勃兴起，专利不仅是一种重要的法权和无形资产，而且是企业的一种重要的竞争资源，是企业参与市场竞争、求得生存和发展的开路先锋和坚强后盾。专利发展水平更是成为衡量一个地区综合实力、发展能力和核心竞争力的战略性标志。随着专利申请数量持续增长和越来越多的企业需要委托代理机构代理专利撰写及其他专利事务，代理机构受理的撰写业务越来越多，如何提高工作效率是目前代理机构面临的一个重要问题。
目前，伴随电子技术的飞速发展，电子类专利的申请量也越来越大，因此，撰写电子类专利申请文件是专利代理人的日常工作。专利代理人在撰写专利申请文件时，通常会根据企业提供的交底材料进行检索分析并撰写专利申请文件。电子类的交底材料通常包含电路图，专利代理人需要通过分析交底材料和对比文件中的电路图确定该交底材料所包含的技术方案是否为新的技术方案。然而，当电路图较复杂时，存在工作量大、工作效率降低且容易出错的问题，影响企业专利申请的进度。
因此，有必要提供一种新的电路图辅助分析系统及其使用方法以解决上述问题。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种自动对电路图进行对比分析的电路图辅助分析系统。
本发明提供一种电路图辅助分析系统，包括交底材料导入模块、电路图扫描模块、相关专利库生成模块、电路图对比模块及对比专利导出模块，所述交底材料导入模块用于导入交底材料，所述交底材料包括技术方案以及与所述技术方案相关的检索信息和电路图；所述电路图扫描模块用于扫描所述电路图以形成待分析电路图；所述相关专利库生成模块用于提取所述检索信息，并根据所述检索信息从专利数据库中检索相关专利形成相关专利库；所述电路图对比模块用于从所述相关专利库中调取所述相关专利，通过所述电路图扫描模块扫描所述相关专利中的电路图形成对比电路图，对比分析所述待分析电路图与所述对比电路图以获取所述交底材料与所述相关专利之间的相关度，并筛选所述相关度大于或等于预设的相关度阈值的相关专利作为对比专利；所述对比专利导出模块用于导出所述对比专利进行查看。
优选的，所述相关专利库生成模块包括检索信息提取单元及相关专利检索单元，所述检索信息提取单元用于调取所述交底材料中的检索信息；所述相关专利检索单元用于根据所述检索信息从所述专利数据库中检索所述相关专利并形成所述相关专利库。
优选的，所述电路图辅助分析系统还包括存储模块，用于存储预设的所述相关度阈值和包含电路中各元件图的标准元件库，其中，所述待分析电路图和所述对比电路图中的元件图均为所述标准元件库中的所述元件图。
优选的，所述电路图辅助分析系统还包括电路图标识模块，用于标识所述对比电路图中与所述检索电路图中相同的元件图和各所述元件之间的连接线路。
优选的，所述电路图对比模块包括对比电路图生成单元、分析计算单元及对比专利筛选单元，所述对比电路图生成单元用于调取所述相关专利库中的所述相关专利，并将扫描的所述相关专利中的所述电路图生成所述对比电路图；所述分析计算单元用于通过对比分析所述待分析电路图与所述对比电路图，并计算所述交底材料与所述相关专利之间的相关度；所述对比专利筛选单元用于筛选所述相关度大于或等于所述相关度阈值的相关专利作为所述对比专利。
基于所述电路图辅助分析系统，本发明还提供一种电路图辅助分析方法，包括如下步骤：导入交底材料：通过所述交底材料导入模块导入所述交底材料；形成待分析电路：通过所述电路图扫描模块扫描所述交底材料中的所述电路图以形成所述待分析电路图；生成相关专利库：通过所述相关专利库生成模块提取所述检索信息检索所述相关专利以生成所述相关专利库；获取对比专利：所述电路图对比模块从所述相关专利库中调取所述相关专利，并将扫描的所述相关专利中的电路图以生成所述对比电路图，对比分析所述对比电路图和所述待分析电路图以获取所述相关度，并筛选所述相关度大于或等于预设的相关度阈值的所述相关专利作为所述对比专利；导出对比专利：通过所述对比专利导出模块导出所述对比专利以进行查看。
优选的，所述生成相关专利库步骤中包括如下步骤：调取所述交底材料中的所述检索信息，所述检索信息包括所述交底材料的所属技术领域及描述所述交底材料中所述技术方案的关键词；根据所述检索信息从专利数据库中检索相关专利并形成所述相关专利库。
优选的，所述获取对比专利步骤中包括如下步骤：调取所述相关专利并扫描所述相关专利的电路图以生成对比电路图；对比分析所述待分析电路图和所述对比电路图以计算所述交底材料与所述相关专利之间的相关度；筛选所述相关度大于或等于所述相关度阈值的相关专利作为对比专利。
优选的，通过对比分析所述待分析电路图和所述对比电路图中具有相同的元件图和各所述元件图之间的连接线路计算所述相关度。
优选的，所述导出对比专利步骤前还包括步骤：标识对比专利：标识所述对比电路图中与所述检索电路图中相同的元件图和各所述元件图之间的连接线路。
与相关技术相比，本发明提供的电路图辅助分析系统中，所述交底材料导入模块导入交底材料，所述电路图扫描模块扫描所述交底材料中的电路图形成待分析电路图，所述相关专利库生成模块根据检索信息生成相关专利库，所述电路图对比模块根据所述相关专利库中各专利的对比电路图计算相关度并根据所述相关度形成对比电路图，所述对比专利导出模块导出所述对比专利以进行查看。所述电路图辅助分析系统自动对电路图进行对比分析，效率高且不会出错。
附图说明
图1是本发明提供的电路图辅助分析系统的结构框图；
图2是本发明提供的电路图辅助分析方法的流程图；
图3是图2中电路图辅助分析方法的生成相关专利库步骤的流程图；
图4是图2中电路图辅助分析方法的获取对比专利步骤的流程图。
具体实施方式
下面将结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。
请参阅图1，图1是本发明提供的电路图辅助分析系统的结构示意图。所述电路图辅助分析系统1包括存储模块11、交底材料导入模块12、电路图扫描模块13、相关专利库生成模块14、电路图对比模块15、电路图标识模块16及对比专利导出模块17。
所述存储模块11用于存储预设的相关度阈值和包含电路中各元件的元件图的标准元件库。所述交底材料导入模块12用于导入交底材料，所述交底材料包括技术方案以及与所述技术方案相关的检索信息和电路图。所述电路图扫描模块13用于扫描所述交底材料中的电路图以形成待分析电路图。所述相关专利库生成模块14用于提取所述交底材料中的检索信息，并根据所述检索信息从专利数据库中检索相关专利，形成相关专利库。所述电路图对比模块15用于从所述相关专利库中调取所述相关专利，将扫描的所述相关专利中的电路图形成对比电路图，对比分析所述待分析电路图与所述对比电路图以获取所述交底材料与所述相关专利之间的相关度，并筛选所述相关度大于或等于所述相关度阈值的相关专利作为对比专利，其中，所述相关度阈值存储于所述存储模块11中。所述电路图标识模块16用于标识所述对比电路图中与所述检索电路图中相同的元件图和各所述元件之间的连接线路。所述对比专利导出模块17用于导出所述对比专利进行查看。
在本实施方式中，所述交底材料和所述相关专利中的电路图的元件图均为所述标准元件库中的元件图，从而加快所述电路图辅助分析系统的处理速度，并提高分析精确度。
所述相关专利库生成模块14包括检索信息提取单元141及相关专利检索单元142。所述检索信息提取单元141用于调取所述交底材料中的检索信息，其中，所述检索信息包括所述交底材料的所属技术领域以及与所述交底材料的技术方案相关的关键词和与所述关键词相近的扩展词。所述相关专利检索单元142用于根据所述检索信息从专利数据库中检索相关专利并形成相关专利库。
所述电路图对比模块15包括对比电路图生成单元151、分析计算单元152及对比专利筛选单元153。所述对比电路图生成单元151用于调取所述相关专利库中的相关专利，并将扫描的所述相关专利中的电路图以生成对比电路图。所述分析计算单元152用于对比分析所述待分析电路图与所述对比电路图，计算所述交底材料与所述相关专利之间的相关度。所述对比专利筛选单元153用于筛选所述相关度大于或等于所述相关度阈值的相关专利作为对比专利。
请参阅图2，图2为本发明提供的基于电路图辅助分析系统的使用方法的流程示意图。基于所述电路图辅助分析系统1，本发明还提供一种电路图辅助分析方法，包括如下步骤：
步骤S1、导入交底材料：通过所述交底材料导入模块12导入所述交底材料；
具体的，专利代理人通过所述交底材料导入模块12导入客户提供的所述交底材料，所述交底材料包括技术方案以及与所述技术方案相关的检索信息和电路图。
步骤S2、形成待分析电路：通过所述电路图扫描模块13扫描所述交底材料中的所述电路图以形成所述待分析电路图；
具体的，所述电路图扫描模块13扫描所述交底材料中的电路图并形成待分析电路图。
步骤S3、生成相关专利库：通过所述相关专利库生成模块14提取所述检索信息检索所述相关专利以生成所述相关专利库；
请参阅图3，图3是图2中电路图辅助分析方法的生成相关专利库步骤的流程图。所述步骤S3包括如下步骤：
步骤S31、调取所述交底材料中的所述检索信息；
具体的，所述检索信息提取单元141调取所述交底材料中的检索信息，所述检索信息包括所述交底材料的所属技术领域及描述所述交底材料中技术方案的关键词；
步骤S32、根据所述检索信息从所述专利数据库中检索所述相关专利并形成所述相关专利库。
具体的，所述相关专利检索单元142接收所述检索信息，并根据所述检索信息从专利数据库中检索相关专利并形成相关专利库。
步骤S4、获取对比专利：所述电路图对比模块15从所述相关专利库中调取所述相关专利，并将扫描的所述相关专利中的电路图以生成所述对比电路图，对比分析所述对比电路图和所述待分析电路图以获取所述相关度，并筛选所述相关度大于或等于预设的相关度阈值的所述相关专利作为所述对比专利；
请参阅图4，图4是图2中电路图辅助分析方法的获取对比专利步骤的流程图。所述步骤S4中包括如下步骤：
步骤S41、调取所述相关专利，并将扫描的所述相关专利的电路图生成对比电路图；
具体的，所述对比电路图生成单元151调取所述相关专利库中的相关专利，并将所述电路图扫描模块13扫描的所述相关专利中的电路图生成对比电路图。
步骤S42、对比分析所述待分析电路图和所述对比电路图以计算所述交底材料与所述相关专利之间的相关度；
具体的，所述分析计算单元152对比分析所述待分析电路图和所述对比电路图以计算所述交底材料与所述相关专利之间的相关度，其中，通过对比分析所述待分析电路图和所述对比电路图中具有相同的元件图和各所述元件图之间的连接线路计算所述相关度，所述相关度值越高，表示所述交底材料中的电路图与所述相关专利中的电路图越相近。
步骤S43、筛选所述相关度大于或等于预设的所述相关度阈值的相关专利作为对比专利。
所述对比专利筛选单元153从所述存储单元11中调取所述相关度阈值与各所述相关专利的相关度进行对比，筛选所述相关度大于或等于所述相关度阈值的相关专利作为对比专利。
步骤S5、标识对比电路图：通过所述电路图标识模块16标识所述对比电路图中相同的元件图和连接线路；
具体的，所述电路图标识模块16标识所述对比电路图中与所述检索电路图中相同的元件图和各所述元件图之间的连接线路，从而直观显示。
步骤S6、导出对比专利：通过所述对比专利导出模块17导出所述对比专利以进行查看。
具体的，所述对比专利导出模块17导出所述对比专利至所述专利代理人以进行查看。
与相关技术相比，本发明提供的电路图辅助分析系统中，交底材料导入模块导入交底材料，电路图扫描模块扫描交底材料中的电路图形成待分析电路图，相关专利库生成模块根据检索信息生成相关专利库，电路图对比模块根据相关专利库中各专利的对比电路图计算相关度并根据相关度形成对比电路图，对比专利导出模块导出对比专利以进行查看。电路图辅助分析系统自动对电路图进行对比分析，效率高且不会出错。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种电路图辅助分析系统，其特征在于，包括：
交底材料导入模块，用于导入交底材料，所述交底材料包括技术方案以及与所述技术方案相关的检索信息和电路图；
电路图扫描模块，用于扫描所述电路图以形成待分析电路图；
相关专利库生成模块，用于提取所述检索信息，并根据所述检索信息从专利数据库中检索相关专利，形成相关专利库；
电路图对比模块，用于从所述相关专利库中调取所述相关专利，通过扫描所述相关专利中的电路图形成对比电路图，对比分析所述待分析电路图与所述对比电路图以获取所述交底材料与所述相关专利之间的相关度，并筛选所述相关度大于或等于预设的相关度阈值的相关专利作为对比专利；及
对比专利导出模块，用于导出所述对比专利进行查看。
2.根据权利要求1所述的电路图辅助分析系统，其特征在于，所述相关专利库生成模块包括：
检索信息提取单元，用于调取所述检索信息；及
相关专利检索单元，用于根据所述检索信息从所述专利数据库中检索所述相关专利并形成所述相关专利库。
3.根据权利要求1所述的电路图辅助分析系统，其特征在于，所述电路图辅助分析系统还包括存储模块，用于存储所述预设的相关度阈值和包含电路中各元件图的标准元件库，其中，所述待分析电路图和所述对比电路图中的元件图均为所述标准元件库中的所述元件图。
4.根据权利要求3所述的电路图辅助分析系统，其特征在于，所述电路图辅助分析系统还包括电路图标识模块，用于标识所述对比电路图中与所述检索电路图中相同的元件图和各所述元件之间的连接线路。
5.根据权利要求1所述的电路图辅助分析系统，其特征在于，所述电路图对比模块包括：
对比电路图生成单元，用于调取所述相关专利库中的所述相关专利，并将扫描的所述相关专利中的所述电路图生成所述对比电路图；
分析计算单元，用于对比分析所述待分析电路图与所述对比电路图，并计算所述交底材料与所述相关专利之间的相关度；及
对比专利筛选单元，用于筛选所述相关度大于或等于预设的相关度阈值的相关专利作为所述对比专利。
6.根据权利要求1所述的电路图辅助分析系统的电路图辅助分析方法，其特征在于，包括如下步骤：
导入交底材料：通过所述交底材料导入模块导入所述交底材料；
形成待分析电路：通过所述电路图扫描模块扫描所述交底材料中的所述电路图以形成所述待分析电路图；
生成相关专利库：通过所述相关专利库生成模块提取所述检索信息检索所述相关专利以生成所述相关专利库；
获取对比专利：所述电路图对比模块从所述相关专利库中调取所述相关专利，并将扫描的所述相关专利中的电路图以生成所述对比电路图，对比分析所述对比电路图和所述待分析电路图以获取所述相关度，并筛选所述相关度大于或等于预设的相关度阈值的所述相关专利作为所述对比专利；
导出对比专利：通过所述对比专利导出模块导出所述对比专利以进行查看。
7.根据权利要求6所述的电路图辅助分析方法，其特征在于，所述生成相关专利库步骤中包括如下步骤：
调取所述交底材料中的所述检索信息；
根据所述检索信息从所述专利数据库中检索所述相关专利并形成所述相关专利库。
8.根据权利要求6所述的电路图辅助分析方法，其特征在于，所述获取对比专利步骤中包括如下步骤：
调取所述相关专利，并将扫描的所述相关专利的电路图生成对比电路图；
对比分析所述待分析电路图和所述对比电路图以计算所述交底材料与所述相关专利之间的相关度；
筛选所述相关度大于或等于预设的所述相关度阈值的相关专利作为对比专利。
9.根据权利要求8所述的电路图辅助分析系统，其特征在于，通过对比分析所述待分析电路图和所述对比电路图中具有相同的元件图和各所述元件图之间的连接线路计算所述相关度。
10.根据权利要求6所述的电路图辅助分析方法，其特征在于，所述导出对比专利步骤前还包括步骤：标识对比专利：标识所述对比电路图中与所述检索电路图中相同的元件图和各所述元件图之间的连接线路。
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