CN105974642A - 一种彩膜基板及其制备方法、显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，以实现薄型化的所述彩膜基板，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。所述彩膜基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有相对的第一面和第二面，所述衬底基板的第一面上形成有多个像素凹槽，所述像素凹槽内填充有色阻材料。本发明实施例中，将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。

Description

一种彩膜基板及其制备方法、显示面板
技术领域
本发明涉及显示领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势被广泛应用，占据了显示器领域的重要位置。目前，TFT-LCD的显示面板主要由阵列基板和彩膜基板对盒形成，阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶。现有的彩膜基板是基于红、绿、蓝三原色的，显示面板通过调节提供给阵列基板的驱动电压来控制液晶分子的排列状态，液晶分子的排列状态的改变形成开关的动作，从而能够控制入射光是否穿透，再经彩膜基板上设置的红、绿、蓝色阻，形成亮丽、鲜艳的画面。
但是，现有技术中的TFT-LCD产品，彩膜基板均是在衬底基板的表面形成黑矩阵，再形成红、绿、蓝色阻，之后再设置隔垫物。如图1所示，现有技术的彩膜基板，包括：衬底基板1，依次形成于所述衬底基板1表面的黑矩阵2和色阻3，以及形成于色阻3之上的保护层4和隔垫物5。因此，现有技术的彩膜基板的整体厚度较大，增加显示面板的响应时间，使得产品性能下降。
发明内容
本发明的目的是提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，以实现薄型化的所述彩膜基板，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
本发明实施例提供一种彩膜基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有相对的第一面和第二面，所述衬底基板的第一面上形成有多个像素凹槽，所述像素凹槽内填充有色阻材料。
本实施例中，将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。
优选的，所述色阻材料的填充厚度小于或等于所述像素凹槽的深度。本实施例中，由于所述色阻材料的填充厚度不超过所述像素凹槽的深度，因此所述色阻材料不会超所述衬底基板的第一面，能够减小所述彩膜基板的整体厚度；同时，当所述色阻材料的填充厚度小于所述像素凹槽的深度时，还可以在所述像素凹槽再填充其它必须的物质(例如树脂层)，可以进一步减小所述彩膜基板的整体厚度。
优选的，所述像素凹槽的深度为1～3微米。
优选的，所述色阻材料之上还形成有树脂层。本实施例中，由所述树脂层对所述色阻材料进行保护和封盖。
优选的，所述色阻材料为液态。本实施例中，在具有所述树脂层进行封盖和保护的情况下，所述色阻材料可以是液态的，不需要在掺杂其它物质进行固化。
优选的，所述树脂层的外表面与所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面在同一平面。本实施例中，所述色阻材料和所述树脂层的整体与所述衬底基板的第一面在同一平面，使得所述彩膜基板的整体厚度减小。
优选的，所述彩膜基板还包括黑矩阵和多个隔垫物，所述黑矩阵形成于所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面上，所述隔垫物形成于所述黑矩阵上。
本发明实施例有益效果如下：将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，减少了盒厚，减小了液晶的用量，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。
本发明实施例还提供一种显示面板，包括如上实施例提供的所述彩膜基板。
本发明实施例有益效果如下：将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。
基于同样的发明思想，本发明实施例还提供一种彩膜基板制备方法，包括：
提供具有相对的第一面和第二面的衬底基板，在所述衬底基板的第一面上形成像素凹槽；
在所述像素凹槽内填充色阻材料。
优选的，在所述衬底基板的第一面上形成所述像素凹槽，包括：
在所述衬底基板的第一面上形成保护层，所述保护层暴露要形成所述像素凹槽的区域；
将所述衬底基板经刻蚀液浸泡后，清洗所述衬底基板并去除所述保护层并形成所述像素凹槽。
优选的，所述衬底基板的材料为二氧化硅，所述刻蚀液为浓度1.4mol/L的氢氟酸，浸泡温度为25℃，浸泡时长为2～5min；或者，
所述衬底基板的材料为聚甲基丙烯酸甲酯，所述刻蚀液为浓度40％的碱性溶液，浸泡温度为50℃，浸泡时长为2～5min。
优选的，在所述像素凹槽内填充所述色阻材料，包括：
采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，直接在色阻材料上形成树脂层；或者，
采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，对所述色阻材料进行固化成形；或者，
采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，对所述色阻材料进行固化成形，在固化成形后的所述色阻材料上形成树脂层。
优选的，还包括在所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面上形成黑矩阵，在所述黑矩阵上形成多个隔垫物。
本发明实施例有益效果如下：将所述色阻材料填充于所述像素凹槽内，不需要占用所述衬底基板自身之外的空间，能够减小所述彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少所述显示面板的响应时间，提高产品性能。
附图说明
图1为现有技术的第一种彩膜基板结构示意图；
图2为本发明实施例提供的第一种彩膜基板结构示意图；
图3为本发明实施例中衬底基板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的第二种彩膜基板结构示意图；
图5为本发明实施例提供的第三种彩膜基板结构示意图；
图6为本发明实施例提供的第四种彩膜基板结构示意图；
图7为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图；
图8为本发明实施例提供彩膜基板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本发明实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
参见图2，本发明实施例提供第一种彩膜基板100，包括衬底基板10，衬底基板10具有相对的第一面和第二面，衬底基板10的第一面上形成有多个像素凹槽11，像素凹槽11内填充有色阻材料12。
参见图3，提供了衬底基板10的示意图，其中衬底基板10的第一面上形成有多个像素凹槽11。而该彩膜基板100应用于显示面板时，该些像素凹槽11是与彩膜基板100所匹配的阵列基板上的像素单元一一对应的，在此不再赘述。
本实施例中，将色阻材料12填充于像素凹槽11内，不需要占用衬底基板10自身之外的空间，能够减小彩膜基板100的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。
基于图2提供的彩膜基板100，可以进行多种变型，详细说明如下：
例如，如图4所示，本发明实施例提供第二种彩膜基板100，包括衬底基板10，衬底基板10具有相对的第一面和第二面，衬底基板10的第一面上形成有多个像素凹槽11。可以在像素凹槽11内填充固态的色阻材料12，该色阻材料12的填充厚度可以根据需要进行设计，优选的该色阻材料12的填充厚度小于或等于像素凹槽11的深度。在各像素凹槽11之间的区域形成黑矩阵14，在黑矩阵14之上形成隔垫物15。但是该种彩膜基板100，色阻材料12未被保护。
又例如，如图5所示，本发明实施例提供第三种彩膜基板100，包括衬底基板10，衬底基板10具有相对的第一面和第二面，衬底基板10的第一面上形成有多个像素凹槽11。可以在像素凹槽11内填充固态或液态的色阻材料12，该色阻材料12的填充厚度可以根据需要进行设计，优选的该色阻材料12的填充厚度小于或等于像素凹槽11的深度。在各像素凹槽11之间的区域形成黑矩阵14，在黑矩阵14之上形成隔垫物15，在黑矩阵14覆盖范围外的区域形成树脂层13，以封盖像素凹槽11内填充的色阻材料12，并对色阻材料12进行保护。由于由树脂层13对色阻材料12进行封盖，因此色阻材料12为液态时也不会影响彩膜基板100的结构稳定性，且液态的色阻材料12中不需要添加固化材料，具有更好的性能，同时液态的色阻材料具有更广阔的色度范围，具有更好的显示效果。
又例如，如图6所示，本发明实施例提供第四种彩膜基板100，包括衬底基板10，衬底基板10具有相对的第一面和第二面，衬底基板10的第一面上形成有多个像素凹槽11。可以在像素凹槽11内填充固态或液态的色阻材料12，该色阻材料12的填充厚度可小于像素凹槽11的深度，仅在色阻材料12之上形成树脂层13，以封盖像素凹槽11内填充的色阻材料12，并对色阻材料12进行保护。当然，树脂层13与色阻材料12的整体厚度可以大于像素凹槽11的深度，也可以小于或等于像素凹槽11的深度。优选的，树脂层13与色阻材料12的整体厚度等于像素凹槽11的深度，即树脂层13与衬底基板10的第一面所在平面平齐。在各像素凹槽11之间的区域形成黑矩阵14，在黑矩阵14之上形成隔垫物15。由于由树脂层13对色阻材料12进行封盖，因此色阻材料12为液态时也不会影响彩膜基板100的结构稳定性，且液态的色阻材料12中不需要添加固化材料，具有更好的性能。
在色阻材料12的填充厚度小于或等于像素凹槽11的深度情况下，由于色阻材料12的填充厚度不超过像素凹槽11的深度，因此色阻材料12不会超衬底基板10的第一面，能够减小彩膜基板100的整体厚度；同时，当色阻材料12的填充厚度小于像素凹槽11的深度时，还可以在像素凹槽11再填充其它必须的物质(例如树脂层13)，使树脂层13不必占用彩膜基板100的纵向空间，可以进一步减小彩膜基板100的整体厚度。
像素凹槽11的深度是基于衬底基板10的强度和厚度进行调整的，而基于目前常用的衬底基板10的强度和厚度，优选的，像素凹槽11的深度为1～3微米。当然，该像素凹槽11的深度仅是为了对本发明进行说明，本发明并不以此为限。
本发明实施例有益效果如下：将色阻材料填充于像素凹槽内，不需要占用衬底基板自身之外的空间，能够减小彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。
参见图7，本发明实施例还提供一种显示面板，包括如上实施例提供的彩膜基板100，还包括与彩膜基板100相对设置的阵列基板200，阵列基板200上设置像素单元阵列，彩膜基板100和阵列基板200之间还可以设置液晶300，在此不再赘述。
本发明实施例有益效果如下：将色阻材料填充于像素凹槽内，不需要占用衬底基板自身之外的空间，能够减小彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。
参见图8，基于同样的发明思想，本发明实施例还提供一种彩膜基板制备方法，包括：
801、提供具有相对的第一面和第二面的衬底基板，在衬底基板的第一面上形成像素凹槽。
802、在像素凹槽内填充色阻材料。
优选的，步骤801中，在衬底基板的第一面上形成像素凹槽，包括：
在衬底基板的第一面上形成保护层，保护层暴露要形成像素凹槽的区域；
将衬底基板经刻蚀液浸泡后，清洗衬底基板并去除保护层并形成像素凹槽。
优选的，衬底基板的材料为二氧化硅，刻蚀液为浓度1.4mol/L的氢氟酸，浸泡温度为25℃，浸泡时长为2～5min；或者，
衬底基板的材料为聚甲基丙烯酸甲酯，刻蚀液为浓度40％的碱性溶液，浸泡温度为50℃，浸泡时长为2～5min。
优选的，步骤802中，在像素凹槽内填充色阻材料，包括：
采用滴注法将液态的色阻材料滴入像素凹槽，直接在色阻材料上形成树脂层；或者，
采用滴注法将液态的色阻材料滴入像素凹槽，对色阻材料进行固化成形；或者，
采用滴注法将液态的色阻材料滴入像素凹槽，对色阻材料进行固化成形，在固化成形后的色阻材料上形成树脂层。
优选的，还包括在像素凹槽之外的衬底基板的第一面上形成黑矩阵，在黑矩阵上形成多个隔垫物。
需要说明的是，根据发明提供的方法，经过调整在像素凹槽内填充的色阻材料的厚度，以及调整制备树脂层的厚度，可以制备如图2、图4至图6任意一种彩膜基板100，在此不再赘述。
本发明实施例有益效果如下：将色阻材料填充于像素凹槽内，不需要占用衬底基板自身之外的空间，能够减小彩膜基板的整体厚度，应用于显示面板后，能够减少显示面板的响应时间，提高产品性能。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (13)

1.一种彩膜基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有相对的第一面和第二面，其特征在于，所述衬底基板的第一面上形成有多个像素凹槽，所述像素凹槽内填充有色阻材料。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料的填充厚度小于或等于所述像素凹槽的深度。
3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素凹槽的深度为1～3微米。
4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料之上还形成有树脂层。
5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻材料为液态。
6.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述树脂层的外表面与所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面在同一平面。
7.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵和多个隔垫物，所述黑矩阵形成于所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面上，所述隔垫物形成于所述黑矩阵上。
8.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至7任一项所述的彩膜基板。
9.一种彩膜基板制备方法，其特征在于，包括：
提供具有相对的第一面和第二面的衬底基板，在所述衬底基板的第一面上形成像素凹槽；
在所述像素凹槽内填充色阻材料。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板的第一面上形成所述像素凹槽，包括：
在所述衬底基板的第一面上形成保护层，所述保护层暴露要形成所述像素凹槽的区域；
将所述衬底基板经刻蚀液浸泡后，清洗所述衬底基板并去除所述保护层并形成所述像素凹槽。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述衬底基板的材料为二氧化硅，所述刻蚀液为浓度1.4mol/L的氢氟酸，浸泡温度为25℃，浸泡时长为2～5min；或者，
所述衬底基板的材料为聚甲基丙烯酸甲酯，所述刻蚀液为浓度40％的碱性溶液，浸泡温度为50℃，浸泡时长为2～5min。
12.如权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述像素凹槽内填充所述色阻材料，包括：
采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，直接在色阻材料上形成树脂层；或者，
采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，对所述色阻材料进行固化成形；或者，
采用滴注法将液态的所述色阻材料滴入所述像素凹槽，对所述色阻材料进行固化成形，在固化成形后的所述色阻材料上形成树脂层。
13.如权利要求9所述的方法，其特征在于，还包括在所述像素凹槽之外的所述衬底基板的第一面上形成黑矩阵，在所述黑矩阵上形成多个隔垫物。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107239002A (zh) * 2017-07-07 2017-10-10 深圳市华星光电技术有限公司 Uv固化粉末光阻组合物及其制作方法、彩膜基板的制作方法
CN108845447A (zh) * 2018-06-22 2018-11-20 惠科股份有限公司 彩色滤光结构、彩色滤光结构的制造方法及光刻制程

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006337389A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Sharp Corp カラーフィルタ基板の製造方法、及び、カラーフィルタ基板
CN202025167U (zh) * 2011-03-22 2011-11-02 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板
CN102707485A (zh) * 2012-05-25 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置、彩膜基板及其制作方法
CN102789089A (zh) * 2012-08-10 2012-11-21 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示基板及其制作方法、液晶面板和显示装置
CN103018948A (zh) * 2012-11-26 2013-04-03 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、设备及制造方法
CN103091905A (zh) * 2011-10-31 2013-05-08 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制作方法
CN103792720A (zh) * 2014-01-22 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006337389A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Sharp Corp カラーフィルタ基板の製造方法、及び、カラーフィルタ基板
CN202025167U (zh) * 2011-03-22 2011-11-02 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板
CN103091905A (zh) * 2011-10-31 2013-05-08 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制作方法
CN102707485A (zh) * 2012-05-25 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置、彩膜基板及其制作方法
CN102789089A (zh) * 2012-08-10 2012-11-21 京东方科技集团股份有限公司 液晶显示基板及其制作方法、液晶面板和显示装置
CN103018948A (zh) * 2012-11-26 2013-04-03 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、设备及制造方法
CN103792720A (zh) * 2014-01-22 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示屏及显示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107239002A (zh) * 2017-07-07 2017-10-10 深圳市华星光电技术有限公司 Uv固化粉末光阻组合物及其制作方法、彩膜基板的制作方法
CN107239002B (zh) * 2017-07-07 2019-12-06 深圳市华星光电技术有限公司 Uv固化粉末光阻组合物及其制作方法、彩膜基板的制作方法
CN108845447A (zh) * 2018-06-22 2018-11-20 惠科股份有限公司 彩色滤光结构、彩色滤光结构的制造方法及光刻制程
WO2019242117A1 (zh) * 2018-06-22 2019-12-26 惠科股份有限公司 彩色滤光结构、彩色滤光结构的制造方法及光刻制程

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