CN105847635A - 成像实现方法、摄像装置及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种成像实现方法、摄像装置及电子设备，利用二元掩模替代电子设备摄像装置中的传统光学镜头，方便了电子设备及其摄像装置的超薄化设计，且在实际拍摄过程中，基于二元掩模的特性，使得拍摄对象经该二元掩模生成多个相互叠加的光学图像，经图像传感器对这多个光学图像进行光电处理后得到拍摄对象的复合图像后，由处理器利用该二元掩模相应的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，从而得到高质量的拍摄对象的目标图像，以满足用户的拍摄需求。

Description

成像实现方法、摄像装置及电子设备

技术领域

本申请主要涉及图像处理技术领域，更具体地说是涉及一种成像实现方法、摄像装置及电子设备。

背景技术

目前，随着电子技术的发展，手机、笔记本、平板电脑等电子设备上的摄像头尺寸不断缩小，且这些电子设备也都向超薄化发展，来满足用户对电子设备超薄、便携等方面的要求。

然而，由于电子设备上设置的通常是基于光学镜头的摄像头，在缩小摄像头的镜头口径后，将会使射入镜头的可用光减少，从而影响成像质量，所以说，为了保证电子设备拍摄时的成像质量，镜头厚度及口径的减小都是有限的，这将会影响电子设备的超薄设计。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种成像实现方法、摄像装置及电子设备，利用二元掩模替代电子设备中传统摄像头内的光学镜头，降低了硬件系统厚度的同时增加了射入图像传感器的光量，保证了成像质量，且降低了成本。

为了实现上述目的，本申请提供了以下技术方案：

一种成像实现方法，应用于电子设备，所述方法包括：

获取图像传感器得到的拍摄对象的复合图像，所述复合图像是所述图像传感器对所述拍摄对象经二元掩模生成的多个相互叠加光学图像进行光电处理得到的；

获取所述二元掩模相应的掩模矩阵；

利用所述掩模矩阵对所述复合图像进行还原处理，获得所述拍摄对象的目标图像。

优选的，所述方法还包括：

判断获得的所述目标图像是否满足预设要求；

当所述目标图像不满足所述预设要求时，调整所述掩模矩阵；

利用调整后的掩模矩阵重新对所述复合图像进行还原处理，直至获得的所述目标图像满足所述预设要求。

优选的，所述方法还包括：

对预设的两个一维最大长度序列进行外积，获得掩模矩阵；

利用所述掩模矩阵，确定透明区域与不透明区域的分布，生成二元掩模。

优选的，所述方法还包括：

获取所述图像传感器的入射光的波长信息；

从所述入射光的波长信息中选定位于预设波长范围内的波长；

利用选定的波长以及所述图像传感器的当前尺寸，确定所述二元掩模与所述图像传感器之间的距离。

一种摄像装置，应用于电子设备，所述摄像装置包括：二元掩模、图像传感器、以及处理器，其中：

所述二元掩模，用于设置在所述图像传感器的感应区域上方，以使拍摄对象经所述二元掩模生成多个相互叠加的光学图像；

所述图像传感器，用于对所述多个相互叠加的光学图像进行光电处理，得到拍摄对象的复合图像，并将所述复合图像发送至所述处理器；

所述处理器，用于获取所述二元掩模相应的掩模矩阵，并利用所述掩模矩阵对所述复合图像进行还原处理，获得所述拍摄对象的目标图像。

优选的，所述处理器还用于判断获得的所述目标图像是否满足预设要求，并在所述目标图像不满足所述预设要求时，调整所述掩模矩阵，利用调整后的掩模矩阵重新对所述复合图像进行还原处理，直至获得的所述目标图像满足所述预设要求。

优选的，所述处理器还用于对预设的两个一维最大长度序列进行外积，获得掩模矩阵，并利用所述掩模矩阵，确定透明区域与不透明区域的分布，生成二元掩模。

一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：

如上所述的摄像装置；

显示器，用于显示所述摄像装置获得的拍摄对象的目标图像。

优选的，所述电子设备还包括：

存储器，用于存储所述二元掩模相应的掩模矩阵。

由此可见，与现有技术相比，本申请提供了一种成像实现方法、摄像装置及电子设备，本申请利用二元掩模替代电子设备中传统摄像头中的光学镜头，方便了电子设备及其摄像装置的超薄化设计，而且，基于二元掩模的特性，使得拍摄对象经该二元掩模生成多个相互叠加的光学图像，经图像传感器对这多个光学图像进行光电处理后得到拍摄对象的复合图像后，由处理器利用该二元掩模相应的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，从而得到高质量的拍摄对象的目标图像，以满足用户的拍摄需求。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请提供的一种成像实现方法实施例的流程图；

图2为本申请提供的一种二元掩模图像示意图；

图3为本申请提供的另一种成像实现方法实施例的流程图；

图4为本申请提供的一种摄像装置实施例的结构示意图；

图5为本申请提供的一种电子设备实施例的结构示意图；

图6为本申请提供的另一种电子设备实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如今，如手机、平板电脑以及笔记本等电子设备中的摄像头通常采用的是基于光学镜头的摄像头，拍摄对象通过镜头，将生成的光学图像投射到图像传感器上，然后，由图像传感器将光学图像转换为电信号，再对电信号进行模数转换处理得到相应的数字信号，经处理器的处理后，即可在电子设备的显示器的屏幕上显示拍摄对象的图像。

其中，光学镜头通常是由多片透镜组成，通常与图像传感器平行对应设置，结合光学成像原理可知，在减小透镜的尺寸后，射入该光学镜头的可用光会减少，从而影响成像质量，这就为电子设备的超薄化设计带来很大困难。

为了方便对电子设备进行超薄化设计，申请人提出利用特制的二元掩模来替代传统摄像头中的光学镜头，具体的，本申请提出的成像实现方法、摄像装置及电子设备，将二元掩模设置在拍摄对象和图像传感器之间，不再需要光学镜头，而是直接利用二元掩模的特性，使得拍摄对象经该二元掩模生成多个相互叠加的光学图像，经图像传感器对这多个光学图像进行光电处理后得到拍摄对象的复合图像后，由处理器利用该二元掩模相应的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，从而得到高质量的拍摄对象的目标图像，以满足用户的拍摄需求。而且，由于二元掩模能够制成如胶片或滤光片等非常薄的挡板，从而使其不会对降低电子设备厚度的设计带来困难，方便了技术人员对电子设备的超薄化设计。

为了使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

如图1所示，为本申请提供的一种成像实现方法实施例的流程图，该方法可以应用于电子设备，如手机、笔记本电脑以及平板电脑等，本申请对该电子设备的具体类型不作限定。该方法可以包括：

步骤S11：获取图像传感器得到的拍摄对象的复合图像。

在本实施例中，由于电子设备的摄像装置使用二元掩模替代传统的光学镜头进行拍摄，而该二元掩模是利用预设掩模矩阵生成的，通常可以包括透明区域以及围绕在该透明区域周围的不透明区域，其中，该透明区域的分布位置以及形状大小等参数可以根据预设的掩模矩阵确定。

基于小孔成像的原理可知，拍摄对象通过该二元掩模后，将生成多个相互叠加的光学图像投射到图像传感器的感应区域，由图像传感器对各光学图像进行光电转换处理，从而获得该拍摄对象的复合图像。可见，该复合图像可以是图像传感器对拍摄对象经二元掩模生成的多个相互叠加的光学图像进行光电处理得到的。

可选的，本申请可以通过两个一维最大长度序列进行外积(即向量积)，得到上述掩模矩阵，也就是说，本实施例可以利用最大长度序列生成两个一维向量，计算这两个一维向量的外积，得到一个二维数组作为掩模矩阵，大大降低了构造本申请所用二元掩模的掩模矩阵的计算负荷。

在实际应用中，利用生成的掩模矩阵可以确定透明区域和不透明区域的分布，即生成相应的掩模图像，如图2所示，从而制成与该掩模图像相同的二元掩模。

如图2所示，二元掩模上具有多个不规则的孔，所以，为了克服衍射以及几何模糊问题，本申请可以适应调整所制成的二元掩模与图像传感器之间的距离，具体可以根据该图像传感器的尺寸以及入射光的波长确定二元掩模与图像传感器之间的距离。

基于此，在确定二元掩模的位置时，本申请可以通过获取图像传感器的入射光的波长信息，并从中选定位于预设波长范围内的波长，之后，利用选定的波长以及图像传感器的当前尺寸，计算二元掩模与图像传感器之间的距离。

其中，预设波长范围可以根据用户对不同波长光的敏感程度进行设定，以使用户对选定的波长对应的光是当前入射光中较为敏感的光，本申请对选定波长的具体数值不作限定，可以根据是情况进行适应性调整。

基于上述分析，本申请可以利用公式D＝d²/(2.44+λ)，计算二元掩模与图像传感器之间的距离，但并不局限于这一种计算公式。其中，该公式中的D表示二元掩模与图像传感器之间的距离，d表示图像传感器当前尺寸，λ表示光的波长，该波长可以通过上述方式选定，也可以是预设的敏感光的波长，本申请其数值不作限定。

步骤S12：获取二元掩模相应的掩模矩阵。

步骤S13：利用该掩模矩阵对复合图像进行还原处理，获得拍摄对象的目标图像。

对于本申请提供的这种利用二元掩模成像的方式，在图像传感器得到拍摄对象的复合图像后，利用哪个掩模矩阵生成的该二元掩模，此时就需要利用哪个掩模矩阵对该复合图像进行还原处理。所以，本申请可以利用预存的生成二元掩模的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，从而得到拍摄对象的目标图像。

需要说明的是，本申请对利用掩模矩阵对属于电信号的复合图像进行还原处理的具体方法过程不作限定。

可选的，在实际应用中，电子设备处理器按照上述方式得到拍摄对象的目标图像后，将会在显示器的显示区域进行显示，以使用户能够直观看到拍摄对象的目标图像。

综上所述，本申请通过制作二元掩模替换传统光学镜头，并将二元掩模设置在拍摄对象和图像传感器之间，从而直接利用二元掩模的特性，使得拍摄对象经该二元掩模生成多个相互叠加的光学图像，经图像传感器对这多个光学图像进行光电处理后得到拍摄对象的复合图像后，由处理器利用该二元掩模相应的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，从而得到高质量的拍摄对象的目标图像，以满足用户的拍摄需求。

而且，由于二元掩模能够制成如胶片或滤光片等非常薄的挡板，从而使其不会对降低电子设备厚度的设计带来困难，方便了技术人员对电子设备的超薄化设计。

进一步地，在上述实施例实际应用中，通常情况下利用生成二元掩模的掩模矩阵对复合图像进行还原处理，得到的拍摄对象的目标图像并不是很理想，所以，申请还可以对该掩模矩阵进行适应性调整，来提高该目标图像的质量，如图3所示的本申请提出的另一种成像实现方法实施例的流程图，该方法的步骤S31～步骤S33与上述实施例的步骤S11～步骤S13相同，具体可以参照上述实施例步骤S11～步骤S13的描述，本实施例在此仅对于上述实施例的区别步骤进行详细描述，所以，在上述实施例的基础上，本实施例提供的成像实现还可以包括：

步骤S34：判断获得的目标图像是否满足预设要求，若否，进入步骤S35；若是，结束流程。

其中，该预设要求可以包括对目标图像的质量要求，如可以包括拍摄对象的轮廓、纹理是否清晰，图像中前景和背景区分是否明显等等，本申请可以针对每一项判断目标图像质量的参数设定一个参考标准，进而，检测该目标图像的相应参数是否满足相应的参考标准。

需要说明的是，本申请对该预设要求包含的具体内容不作限定，即判断目标图像质量的具体标准不作限定，可以根据实际情况确定，用户可以根据自身需要预设摄像该判断标准，也就是说，上述预设要求可以根据用户实际需要设定，其包含的具体内容是可调的。

可选的，在实际应用中，可由处理器自动检测所得目标图像是否满足预设要求，也可以由用户观看电子设备显示器的输出的目标图像，来判断该目标图像是否满足预设要求，本申请对此不作限定。

步骤S35：调整该二元掩模相应的掩模矩阵；

在本实施例实际应用中，当得到的拍摄对象的目标图像不满足预设要求时，可以适当调整得到该目标图像所用掩模矩阵的元素值，具体可以根据该目标图像不满足预设要求的具体内容，确定调整该掩模矩阵的哪一个或多个元素值。在此之前，本申请可以先确定该掩模矩阵的各元素值具体影响目标图像哪些质量要求，从而根据该结果实现对掩模矩阵的调整，但并不局限于这一种调整方式。

可选的，当用户看到显示器输出的目标图像不满足预设要求时，可以触发预设按键，从而使触发处理器按照预设规则调整掩模矩阵；也可以触发显示器输出调整界面，以使用户在该调整界面上选定对掩模矩阵的调整方式或调整参数等信息，从而使处理器根据用户输入的信息实现对掩模矩阵的调整等等。需要说明的是，本申请对显示器输出的调整界面包含的具体内容不作限定，可以根据试验结果或实际需要设定。

步骤S36：利用调整后的掩模矩阵重新对复合图像进行还原处理，直至获得的目标图像满足预设要求。

继上文描述，在调整理论上得到的掩模矩阵后，可以利用调整后的掩模矩阵重新对复合图像进行还原处理，从而得到新的拍摄对象的目标图像，此时，仍可以按照上述方式判断新得到的目标图像是否满足预设要求，即返回上述步骤S34，直至得到的目标图像满足预设要求为止。

其中，由于对复合图像进行处理过程是在电子设备对同一拍摄对象拍摄期间完成的，所以，拍摄对象会持续经二元掩模生成多个相互叠加的光学图像，图像传感器也会不断生成相应的复合图像，而且，在此期间电子设备的拍摄姿态通常会保持不变，从而使得不断得到的复合图像基本相同，所以，处理器可以利用调整后的掩模矩阵对重新得到的复合图像进行还原处理，以获得新的目标图像。

当然，本申请也可以对得到复合图像进行存储，这样，处理器在得到调整后的掩模矩阵后，可以获取存储的复合图像，并利用该调整后的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，本申请对调整后的掩模矩阵处理的复合图像的获取方式不作限定。

综上所述，本实施例在利用二元掩模获取拍摄图像的目标图像的过程中，处理器对利用生成该二元掩模所用的掩模矩阵对复合图像进行处理，得到拍摄对象的目标图像后，将进一步判断该目标图像是否满足预设要求，并在目标图像不满足该预设要求时，将对该掩模矩阵进行调整，从而利用调整后的掩模矩阵重新对拍摄对象的复合图像进行处理，直至所得目标图像满足预设要求。由此可见，本申请利用二元掩模替代传统光学镜头，降低了摄像装置的厚度，解决了传统光学镜头对电子设备超薄化设计的限制，而且，通过调整上一次对复合图像进行还原处理的掩模矩阵的元素值，进一步提高了所得拍摄对象的目标图像质量，

另外，由于二元掩模可参照所得掩模图像，直接通过半导体工艺制造而成，降低了电子设备的摄像装置的成本。

如图4所示，为本申请提供的一种摄像装置实施例的结构示意图，该摄像装置可以应用于电子设备，如手机、笔记本电脑以及平板电脑等，本申请对该电子设备的具体类型不作限定，在本实施例中，该摄像装置可以包括：图二元掩模41、像传感器42以及处理器43，其中：

二元掩模41可以设置在图像传感器42的感应区域上方，如图5所示，替代传统的光学镜头，从而使拍摄对象经该二元掩模41生成多个相互叠加的光学图像。

其中，关于生成二元掩模41的方式可以参照上述方法实施例对应部分的描述，本实施例在此不再赘述。

之后，基于该摄像装置的图像传感器42的尺寸以及预设或选定光的波长，计算得到二元掩模41应该距离该图像传感器42的感应区域多远设置，才能解决光衍射以及几何模糊问题，从而按照该距离将该二元掩模41固定在图像传感器42的感应区域上方，这样，在实际拍摄过程中，光线将会穿过该二维掩模在图像传感器上形成多个相互叠加的光学图像。

图像传感器42，用于对这多个相互叠加的光学图像进行光电处理，得到拍摄对象的复合图像，并将该复合图像发送至处理器43。

可选的，对于图像传感器42得到的拍摄对象的复合图像，根据实际需要可以保存到电子设备的存储器中，以便后续据此获得该二元掩模及其对应的掩模矩阵的成像效果等，但并不局限于此。

处理器43，用于获取该二元掩模相应的掩模矩阵，并利用该掩模矩阵对拍摄对象的复合图像进行还原处理，获得拍摄对象的目标图像。

由此可见，本申请通过制作二元掩模替换传统光学镜头，由于二元掩模能够制成如胶片或滤光片等非常薄的挡板，从而使其不会对降低电子设备厚度的设计带来困难，方便了技术人员对电子设备的超薄化设计。而且，在实际拍摄过程中，基于二元掩模的特性，拍摄对象经该二元掩模将会生成多个相互叠加的光学图像，经图像传感器的光电处理后得到拍摄对象的复合图像后，进而由处理器利用该二元掩模相应的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，得到高质量的拍摄对象的目标图像，满足了用户的拍摄需求。

可选的，在上述实施例的基础上，处理器43还可以用于判断获得的目标图像是否满足预设要求，并在该目标图像不满足所述预设要求时，调整二元掩模相应的掩模矩阵，从而利用调整后的掩模矩阵重新对复合图像进行还原处理，如此循环，直至获得的目标图像满足预设要求。

可见，在上述实施例的基础上，处理器43通过调整上一次对复合图像进行还原处理的掩模矩阵的元素值，进一步提高了所得拍摄对象的目标图像质量。

另外，对于上述二元掩模可以利用最大程度序列得到，具体的，处理器可以通过对预设的两个一维最大长度序列进行外积，从而获得掩模矩阵，进而利用该掩模矩阵，确定透明区域与不透明区域的分布，生成二元掩模。需要说明的是，在得到二元掩模的掩模图像后，本申请对制作该二元掩模的方式不作限定，可以利用胶片、滤光片等挡板制作而成，但并不局限于此。

其中，对于摄像装置中的处理器43可以是电子设备系统的处理器，通常具有较强的处理能力，从而提高了拍摄对象的成像效率。

如图5所示，为本申请提供的一种电子设备实施例的结构示意图，该电子设备可以是手机、笔记本电脑、平板电脑等等，本申请此不作限定。在本实施例中，该电子设备可以包括摄像装置51以及显示器52，其中：

摄像装置51的结构与上述装置实施例提供的摄像装置的结构相同，具体可以参照上述实施例的描述，本实施在此不再赘述。

显示器52，用于显示摄像装置51获得的拍摄对象的目标图像。

可选的，如图6所示，该电子设备还可以包括：

存储器53，用于存储二元掩模相应的掩模矩阵，这样，摄像装置51中的处理器得到拍摄对象的复合图像后，可以从该存储器53中获取二元掩模相应的掩模矩阵，以实现对复合图像的还原处理。

另外，对于摄像装置51中的图像传感器得到的拍摄对象的复合图像和/或处理器调整后的掩模矩阵等信息，也可以保存在该存储器53中，以便后续根据这些历史信息，获得该二元掩模的成像效果等应用。

综上可知，本申请电子设备的摄像装置采用二元掩模替换传统光学镜头，解决了传统光学镜头对降低电子设备厚度的设计带来的困难，方便了技术人员对电子设备的超薄化设计。而且，在实际拍摄过程中，基于二元掩模的特性，拍摄对象经该二元掩模将会生成多个相互叠加的光学图像，经图像传感器的光电处理后得到拍摄对象的复合图像后，进而由处理器利用该二元掩模相应的掩模矩阵对该复合图像进行还原处理，得到高质量的拍摄对象的目标图像，满足了用户的拍摄需求。

进一步地，电子设备的处理器还能够通过调整用于对复合图像进行还原处理的掩模矩阵，从而提高还原处理所得目标图像的质量。

最后，需要说明的是，关于上述各实施例中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法或者系统不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法或者系统中还存在另外的相同要素。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置以及电子设备而言，由于其与实施例公开的方法对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (9)

1.一种成像实现方法，其特征在于，应用于电子设备，所述方法包括：

获取图像传感器得到的拍摄对象的复合图像，所述复合图像是所述图像传感器对所述拍摄对象经二元掩模生成的多个相互叠加光学图像进行光电处理得到的；

获取所述二元掩模相应的掩模矩阵；

利用所述掩模矩阵对所述复合图像进行还原处理，获得所述拍摄对象的目标图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

判断获得的所述目标图像是否满足预设要求；

当所述目标图像不满足所述预设要求时，调整所述掩模矩阵；

利用调整后的掩模矩阵重新对所述复合图像进行还原处理，直至获得的所述目标图像满足所述预设要求。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

对预设的两个一维最大长度序列进行外积，获得掩模矩阵；

利用所述掩模矩阵，确定透明区域与不透明区域的分布，生成二元掩模。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

获取所述图像传感器的入射光的波长信息；

从所述入射光的波长信息中选定位于预设波长范围内的波长；

利用选定的波长以及所述图像传感器的当前尺寸，确定所述二元掩模与所述图像传感器之间的距离。

5.一种摄像装置，其特征在于，应用于电子设备，所述摄像装置包括：二元掩模、图像传感器、以及处理器，其中：

所述二元掩模，用于设置在所述图像传感器的感应区域上方，以使拍摄对象经所述二元掩模生成多个相互叠加的光学图像；

所述图像传感器，用于对所述多个相互叠加的光学图像进行光电处理，得到拍摄对象的复合图像，并将所述复合图像发送至所述处理器；

所述处理器，用于获取所述二元掩模相应的掩模矩阵，并利用所述掩模矩阵对所述复合图像进行还原处理，获得所述拍摄对象的目标图像。

6.根据权利要求5所述的摄像装置，其特征在于，所述处理器还用于判断获得的所述目标图像是否满足预设要求，并在所述目标图像不满足所述预设要求时，调整所述掩模矩阵，利用调整后的掩模矩阵重新对所述复合图像进行还原处理，直至获得的所述目标图像满足所述预设要求。

7.根据权利要求5或6所述的摄像装置，其特征在于，所述处理器还用于对预设的两个一维最大长度序列进行外积，获得掩模矩阵，并利用所述掩模矩阵，确定透明区域与不透明区域的分布，生成二元掩模。

8.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：

如权利要求5～7任意一项所述的摄像装置；

显示器，用于显示所述摄像装置获得的拍摄对象的目标图像。

9.根据权利要求8所述的电子设备，其特征在于，所述电子设备还包括：

存储器，用于存储所述二元掩模相应的掩模矩阵。