CN105607336A - Cf基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种CF基板及其制作方法。该CF基板包括：衬底基板(1)、第一黑色矩阵(2)、彩色色阻层(3)、第二黑色矩阵(4)、及保护层(5)。第一黑色矩阵(2)包括多个第一黑色矩阵分区(21)；彩色色阻层(3)设于每个第一黑色矩阵分区(21)的镂空处及相邻第一黑色矩阵分区(21)之间；第二黑色矩阵(4)设于相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的彩色色阻层(3)上，包括多个第二黑色矩阵分区(41)。第一黑色矩阵(2)与第二黑色矩阵(4)均采用高导电性黑色遮光材料，二者共同遮光，通过部分第二黑色矩阵分区(41)架桥连接部分第一黑色矩阵分区(21)，所述第一黑色矩阵(2)还同时用作触控发射电极与触控感应电极。

Description

CF基板及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种CF基板及其制作方法。
背景技术
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)是目前使用最多的平板显示器之一，液晶面板是液晶显示器的核心组成部分。液晶面板通常是由一彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)以及一配置于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer)所构成，其工作原理是通过在两片基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，调整入射到液晶层的光的偏振，使液晶面板显示图像。
随着显示技术的飞速发展，触控显示面板已经广泛地被人们所接受及使用，如智能手机、平板电脑等均使用了触控显示面板。触控显示面板将触控面板和液晶面板结合为一体，并将触控面板功能嵌入到液晶面板内，使得液晶面板同时具备显示和感知触控输入的功能。触控显示面板根据结构不同可划分为：触控电路覆盖于液晶盒上型(OnCell)、触控电路内嵌在液晶盒内型(InCell)、以及外挂型，其中，InCell型触控显示面板具有成本低、厚度薄、和窄边框的优点，主要应用在高端的触控显示产品中。
请参阅图1，传统液晶面板中的CF基板包括衬底基板100、设于所述衬底基板100上的整体式呈网状结构的黑色矩阵(BlackMatrix，BM)200、于所述黑色矩阵200的镂空处设于衬底基板100上的彩色色阻层300、覆盖所述彩色光阻层300与黑色矩阵200的保护层(OverCoat，OC)400、及设于所述保护层400上的光阻间隔物(PhotoSpace，PS)500。其中，所述彩色光阻层300包括重复排列的红色色阻R、绿色色阻G、及蓝色色阻B；所述黑色矩阵200仅起到遮光作用，材料选用普通的黑色树脂。若将图1所示的传统CF基板应用于InCell型触控显示面板时，还需要额外单独设置触控电极，这会造成InCell型触控显示面板的厚度增加，制作工序增多，相应的制作成本增加，且不能适应智能手机等高端触控显示产品日益薄化的需求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种CF基板，有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。
本发明的另一目的在于提供一种CF基板的制作方法，通过该方法制得的CF基板有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。
为实现上述目的，本发明首先提供一种CF基板，包括：
衬底基板；
设于所述衬底基板上的第一黑色矩阵，所述第一黑色矩阵包括多个第一黑色矩阵分区，每个第一黑色矩阵分区均呈网状结构，相邻两个第一黑色矩阵分区相互断开、间隔，所述第一黑色矩阵的材料为高导电性黑色遮光材料；
于所述第一黑色矩阵的每个第一黑色矩阵分区的镂空处及相邻两个第一黑色矩阵分区之间设于所述衬底基板上的彩色色阻层；
设于相邻第一黑色矩阵分区之间的彩色色阻层上的第二黑色矩阵，所述第二黑色矩阵包括多个第二黑色矩阵分区，每个第二黑色矩阵分区亦呈网状结构，相邻第二黑色矩阵分区相互断开、间隔，所述第二黑色矩阵的材料亦为高导电性黑色遮光材料；
以及覆盖所述第二黑色矩阵、彩色色阻层、与第一黑色矩阵的保护层；
所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵共同遮光；通过部分第二黑色矩阵分区架桥连接部分第一黑色矩阵分区，所述第一黑色矩阵还同时用作触控发射电极与触控感应电极。
位于同一横行的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区与相应的第一黑色矩阵分区接触，形成架桥连接；位于同一纵列的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区与相应的第一黑色矩阵分区接触，形成架桥连接；除此以外，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区不与相应的第一黑色矩阵分区接触；位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区不与相应的第一黑色矩阵分区接触。
位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区与相应的第一黑色矩阵分区之间通过彩色色阻层隔断；位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区与相应的第一黑色矩阵分区之间通过彩色色阻层隔断。
所述高导电性黑色遮光材料为黑色金属、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
所述保护层的材料为光感材料；所述保护层在对应CF基板边缘的位置设有过孔，暴露出部分第一黑色矩阵。
本发明还提供一种CF基板的制作方法，包括以下步骤：
步骤1、提供一洗净的衬底基板，在所述衬底基板上采用光刻工艺形成第一黑色矩阵；
所述第一黑色矩阵包括多个第一黑色矩阵分区，每个第一黑色矩阵分区均呈网状结构，相邻第一黑色矩阵分区相互断开、间隔，所述第一黑色矩阵的材料为高导电性黑色遮光材料；
步骤2、在所述衬底基板上采用光刻工艺于所述第一黑色矩阵的每个第一黑色矩阵分区的镂空处及相邻第一黑色矩阵分区之间形成彩色色阻层；
步骤3、在相邻第一黑色矩阵分区之间的彩色色阻层上采用光刻工艺形成第二黑色矩阵；
所述第二黑色矩阵包括多个第二黑色矩阵分区，每个第二黑色矩阵分区亦呈网状结构，相邻第二黑色矩阵分区相互断开、间隔，所述第二黑色矩阵的材料亦为高导电性黑色遮光材料；
所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵共同遮光；通过部分第二黑色矩阵分区架桥连接部分第一黑色矩阵分区，所述第一黑色矩阵还同时用作触控发射电极与触控感应电极；
步骤4、在所述第二黑色矩阵、彩色色阻层、与第一黑色矩阵上沉积、覆盖保护层。
所述步骤3中，位于同一横行的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区与相应的第一黑色矩阵分区接触，形成架桥连接；位于同一纵列的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区与相应的第一黑色矩阵分区接触，形成架桥连接；除此以外，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区不与相应的第一黑色矩阵分区接触；位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区之间的第二黑色矩阵分区不与相应的第一黑色矩阵分区接触。
所述CF基板的制作方法还包括步骤5、在所述保护层上采用光刻工艺形成光阻间隔物。
所述高导电性黑色遮光材料为黑色金属、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
所述保护层的材料为光感材料；所述步骤4还包括采用光刻工艺在所述保护层对应CF基板边缘的位置蚀刻出过孔，暴露出部分第一黑色矩阵。
本发明的有益效果：本发明提供的CF基板，设置有第一黑色矩阵与第二黑色矩阵，所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的材料均为高导电性黑色遮光材料，二者共同遮光，通过第二黑色矩阵的部分第二黑色矩阵分区架桥连接第一黑色矩阵的部分第一黑色矩阵分区，所述第一黑色矩阵还同时用作触控发射电极与触控感应电极，将该CF基板应用于InCell型触控显示面板时，无需额外单独设置触控电极，有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。本发明提供的CF基板的制作方法，采用高导电性黑色遮光材料制作第一黑色矩阵与第二黑色矩阵，使得第一黑色矩阵与第二黑色矩阵除共同起到遮光作用外，通过第二黑色矩阵的部分第二黑色矩阵分区架桥连接第一黑色矩阵的部分第一黑色矩阵分区，所述第一黑色矩阵还同时用作触控发射电极与触控感应电极，将通过该方法制作的CF基板应用于InCell型触控显示面板时，无需额外单独设置触控电极，有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为传统液晶面板中的CF基板的剖面结构示意图；
图2为本发明的CF基板的剖面结构示意图；
图3为本发明的CF基板中第二黑色矩阵、彩色色阻层、及第一黑色矩阵在架桥连接处的俯视示意图；
图4为对应于图3中A-A处的剖面结构示意图；
图5为本发明的CF基板中第二黑色矩阵、彩色色阻层、及第一黑色矩阵在隔断处的俯视示意图；
图6为对应于图5中D-D处的剖面结构示意图；
图7为本发明的CF基板的制作方法的流程图；
图8为本发明的CF基板的制作方法的步骤1的剖面示意图；
图9为本发明的CF基板的制作方法的步骤1的俯视示意图；
图10至图12为本发明的CF基板的制作方法的步骤2的剖面示意图；
图13为本发明的CF基板的制作方法的步骤2的俯视示意图；
图14为本发明的CF基板的制作方法的步骤3的剖面示意图；
图15为本发明的CF基板的制作方法的步骤3中第二黑色矩阵、彩色色阻层、及第一黑色矩阵在架桥连接处的俯视示意图；
图16为对应于图15中A’-A’处的剖面结构示意图；
图17为本发明的CF基板的制作方法的步骤3中第二黑色矩阵、彩色色阻层、及第一黑色矩阵在隔断处的俯视示意图；
图18为对应于图17中D’-D’处的剖面结构示意图；
图19为本发明的CF基板的制作方法的步骤4的剖面示意图；
图20为本发明的CF基板的制作方法的步骤5的剖面示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请同时参阅图2至图6，本发明首先提供一种CF基板，包括：衬底基板1、第一黑色矩阵2、彩色色阻层3、第二黑色矩阵4、以及保护层5。
具体地，所述衬底基板1为透明基板，优选的，所述衬底基板1为玻璃基板。
所述第一黑色矩阵2设于所述衬底基板1上，包括多个第一黑色矩阵分区21，每个第一黑色矩阵分区21均呈网状结构，相邻第一黑色矩阵分区21相互断开、间隔。所述第一黑色矩阵2首先作为部分遮光层，起到遮光作用，但因为相邻第一黑色矩阵分区21相互断开、间隔，所以相邻两个第一黑色矩阵分区21之间漏光。所述第一黑色矩阵2的材料为高导电性黑色遮光材料，具有良好的导电性，进一步地，所述高导电性黑色遮光材料可选择黑色金属(如铁、铬等)、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
所述彩色色阻层3设于所述衬底基板1上，且位于所述第一黑色矩阵2的每个第一黑色矩阵分区21的镂空处及相邻第一黑色矩阵分区21之间。值得一提的是，位于所述第一黑色矩阵2的每个第一黑色矩阵分区21的镂空处的彩色色阻层3被第一黑色矩阵分区21间隔开，而位于相邻第一黑色矩阵分区21之间的彩色色阻层3未被间隔，连续分布。进一步地，所述彩色色阻层3可以但不限于包括重复排列的红色色阻R、绿色色阻G、及蓝色色阻B，当然，还可包括白色色阻或青色色阻等。
所述第二黑色矩阵4设于相邻第一黑色矩阵分区21之间的彩色色阻层3上，包括多个第二黑色矩阵分区41，每个第二黑色矩阵分区41亦呈网状结构，相邻第二黑色矩阵分区41相互断开、间隔。所述第二黑色矩阵4首先作为另一部分遮光层，对相邻第一黑色矩阵分区21之间没有第一黑色矩阵2遮光的部位进行遮光。所述第二黑色矩阵4的材料亦为高导电性黑色遮光材料，具有良好的导电性，进一步地，所述高导电性黑色遮光材料可选择黑色金属(如铁、铬等)、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
通过部分第二黑色矩阵分区41架桥连接部分第一黑色矩阵分区21，所述第一黑色矩阵2还同时用作触控发射电极与触控感应电极。具体地，如图3与图4所示，位于同一横行的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21接触，形成架桥连接；类似的，位于同一纵列的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21接触形成架桥连接。除此以外，如图5与图6所示，位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41不与相应的第一黑色矩阵分区21接触；类似的，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41不与相应的第一黑色矩阵分区21接触，进一步地，位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21之间通过彩色色阻层3隔断，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21之间通过彩色色阻层3隔断。
所述保护层5覆盖所述第二黑色矩阵4、彩色色阻层3、与第一黑色矩阵2。进一步地，所述保护层5的材料为光感材料，其在对应CF基板边缘的位置设有过孔(未图示)，暴露出部分第一黑色矩阵2，这样设计的目的是在InCell型触控显示面板的后续对组制程中，即将本发明的CF基板与TFT基板对组的制程中，通过在保护层5的过孔内放置金球与硅球相掺杂的材料将所述第一黑色矩阵2与TFT基板导通。
进一步地，所述CF基板还包括设于所述保护层5上的光阻间隔物6。
本发明的CF基板设置有第一黑色矩阵2与第二黑色矩阵4，所述第一黑色矩阵2与第二黑色矩阵4的材料均为高导电性黑色遮光材料，二者共同遮光，且通过部分第二黑色矩阵分区41架桥连接部分第一黑色矩阵分区21，所述第一黑色矩阵2还同时用作触控发射电极与触控感应电极，将该CF基板应用于InCell型触控显示面板时，无需额外单独设置触控电极，有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。
基于同一发明构思，本发明还提供一种CF基板的制作方法。请参阅图7，该CF基板的制作方法包括以下步骤：
步骤1、如图8、图9所示，提供一洗净的衬底基板1，在所述衬底基板1上采用光刻工艺形成第一黑色矩阵2。
具体地，所述衬底基板1为透明基板，优选的，所述衬底基板1为玻璃基板。
所述第一黑色矩阵2包括多个第一黑色矩阵分区21，每个第一黑色矩阵分区21均呈网状结构，相邻第一黑色矩阵分区21相互断开、间隔。所述第一黑色矩阵2首先作为部分遮光层，起到遮光作用，但因为相邻第一黑色矩阵分区21相互断开、间隔，所以相邻两个第一黑色矩阵分区21之间漏光。所述第一黑色矩阵2的材料为高导电性黑色遮光材料，具有良好的导电性，进一步地，所述高导电性黑色遮光材料可选择黑色金属(如铁、铬等)、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
步骤2、如图10至图13所示，在所述衬底基板1上采用光刻工艺于所述第一黑色矩阵2的每个第一黑色矩阵分区21的镂空处及相邻第一黑色矩阵分区之间21形成彩色色阻层3。
具体地，所述彩色色阻层3可以但不限于包括重复排列的红色色阻R、绿色色阻G、及蓝色色阻B。该步骤2按图10至图12的先后顺序依次形成红色色阻R、绿色色阻G、蓝色色阻B。
如图13所示，完成该步骤2后，位于所述第一黑色矩阵2的每个第一黑色矩阵分区21的镂空处的彩色色阻层3被第一黑色矩阵分区21间隔开，而位于相邻第一黑色矩阵分区21之间的彩色色阻层3未被间隔，连续分布。
步骤3、如图14至图18所示，在相邻第一黑色矩阵分区21之间的彩色色阻层3上采用光刻工艺形成第二黑色矩阵4。
具体地，所述第二黑色矩阵4包括多个第二黑色矩阵分区41，每个第二黑色矩阵分区41亦呈网状结构，相邻第二黑色矩阵分区41相互断开、间隔。所述第二黑色矩阵4首先作为另一部分遮光层，对相邻第一黑色矩阵分区21之间没有第一黑色矩阵2遮光的部位进行遮光。所述第二黑色矩阵4的材料亦为高导电性黑色遮光材料，具有良好的导电性，进一步地，所述高导电性黑色遮光材料可选择黑色金属(如铁、铬等)、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
通过部分第二黑色矩阵分区41架桥连接部分第一黑色矩阵分区21，所述第一黑色矩阵2还同时用作触控发射电极与触控感应电极。具体地，如图15与图16所示，位于同一横行的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21接触，形成架桥连接；类似的，位于同一纵列的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21接触形成架桥连接。除此以外，如图17与图18所示，位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41不与相应的第一黑色矩阵分区21接触；类似的，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41不与相应的第一黑色矩阵分区21接触，进一步地，位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21之间通过彩色色阻层3隔断，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区21之间的第二黑色矩阵分区41与相应的第一黑色矩阵分区21之间通过彩色色阻层3隔断。
步骤4、如图19所示，在所述第二黑色矩阵4、彩色色阻层3、与第一黑色矩阵2上沉积、覆盖保护层5。
具体地，所述保护层5的材料为光感材料。所述步骤4还包括采用光刻工艺在所述保护层5对应CF基板边缘的位置蚀刻出过孔(未图示)，暴露出部分第一黑色矩阵2，这样在后续将最终制得的CF基板与TFT基板进行对组以制作InCell型触控显示面板的过程中，能够通过在保护层5的过孔内放置金球与硅球相掺杂的材料将所述第一黑色矩阵2与TFT基板导通。
进一步地，本发明的CF基板的制作方法还包括步骤5、如图20所示，在所述保护层5上采用光刻工艺形成光阻间隔物6，完成CF基板的制作。
上述CF基板的制作方法采用高导电性黑色遮光材料制作第一黑色矩阵2与第二黑色矩阵4，使得第一黑色矩阵2与第二黑色矩阵4除共同起到遮光作用外，所述第一黑色矩阵2还同时用作触控发射电极与触控感应电极，将最终制得的CF基板应用于InCell型触控显示面板时，无需额外单独设置触控电极，有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。
综上所述，本发明的CF基板，设置有第一黑色矩阵与第二黑色矩阵，所述第一黑色矩阵与第二黑色矩阵的材料均为高导电性黑色遮光材料，二者共同遮光，通过第二黑色矩阵的部分第二黑色矩阵分区架桥连接第一黑色矩阵的部分第一黑色矩阵分区，所述第一黑色矩阵还同时用作触控发射电极与触控感应电极，将该CF基板应用于InCell型触控显示面板时，无需额外单独设置触控电极，有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。本发明的CF基板的制作方法，采用高导电性黑色遮光材料制作第一黑色矩阵与第二黑色矩阵，使得第一黑色矩阵与第二黑色矩阵除共同起到遮光作用外，通过第二黑色矩阵的部分第二黑色矩阵分区架桥连接第一黑色矩阵的部分第一黑色矩阵分区，所述第一黑色矩阵还同时用作触控发射电极与触控感应电极，将通过该方法制作的CF基板应用于InCell型触控显示面板时，无需额外单独设置触控电极，有助于获得更薄的触控显示面板，且使得触控显示面板的制作流程简化，制作成本降低。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种CF基板，其特征在于，包括：
衬底基板(1)；
设于所述衬底基板(1)上的第一黑色矩阵(2)，所述第一黑色矩阵(2)包括多个第一黑色矩阵分区(21)，每个第一黑色矩阵分区(21)均呈网状结构，相邻的第一黑色矩阵分区(21)相互断开、间隔，所述第一黑色矩阵(2)的材料为高导电性黑色遮光材料；
于所述第一黑色矩阵(2)的每个第一黑色矩阵分区(21)的镂空处及相邻两个第一黑色矩阵分区之间(21)设于所述衬底基板(1)上的彩色色阻层(3)；
设于相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的彩色色阻层(3)上的第二黑色矩阵(4)，所述第二黑色矩阵(4)包括多个第二黑色矩阵分区(41)，每个第二黑色矩阵分区(41)亦呈网状结构，相邻第二黑色矩阵分区(41)相互断开、间隔，，所述第二黑色矩阵(4)的材料亦为高导电性黑色遮光材料；
以及覆盖所述第二黑色矩阵(4)、彩色色阻层(3)、与第一黑色矩阵(2)的保护层(5)；
所述第一黑色矩阵(2)与第二黑色矩阵(4)共同遮光；通过部分第二黑色矩阵分区(41)架桥连接部分第一黑色矩阵分区(21)，所述第一黑色矩阵(2)还同时用作触控发射电极与触控感应电极。
2.如权利要求1所述的CF基板，其特征在于，位于同一横行的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触，形成架桥连接；位于同一纵列的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触，形成架桥连接；除此以外，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)不与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触；位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)不与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触。
3.如权利要求2所述的CF基板，其特征在于，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)与相应的第一黑色矩阵分区(21)之间通过彩色色阻层(3)隔断；位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)与相应的第一黑色矩阵分区(21)之间通过彩色色阻层(3)隔断。
4.如权利要求1所述的CF基板，其特征在于，所述高导电性黑色遮光材料为黑色金属、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
5.如权利要求1所述的CF基板，其特征在于，所述保护层(5)的材料为光感材料；所述保护层(5)在对应CF基板边缘的位置设有过孔，暴露出部分第一黑色矩阵(2)。
6.一种CF基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供一洗净的衬底基板(1)，在所述衬底基板(1)上采用光刻工艺形成第一黑色矩阵(2)；
所述第一黑色矩阵(2)包括多个第一黑色矩阵分区(21)，每个第一黑色矩阵分区(21)均呈网状结构，相邻第一黑色矩阵分区(21)相互断开、间隔，所述第一黑色矩阵(2)的材料为高导电性黑色遮光材料；
步骤2、在所述衬底基板(1)上采用光刻工艺于所述第一黑色矩阵(2)的每个第一黑色矩阵分区(21)的镂空处及相邻第一黑色矩阵分区之间(21)形成彩色色阻层(3)；
步骤3、在相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的彩色色阻层(3)上采用光刻工艺形成第二黑色矩阵(4)；
所述第二黑色矩阵(4)包括多个第二黑色矩阵分区(41)，每个第二黑色矩阵分区(41)亦呈网状结构，相邻第二黑色矩阵分区(41)相互断开、间隔，所述第二黑色矩阵(4)的材料亦为高导电性黑色遮光材料；
所述第一黑色矩阵(2)与第二黑色矩阵(4)共同遮光；通过部分第二黑色矩阵分区(41)架桥连接部分第一黑色矩阵分区(21)，所述第一黑色矩阵(2)还同时用作触控发射电极与触控感应电极；
步骤4、在所述第二黑色矩阵(4)、彩色色阻层(3)、与第一黑色矩阵(2)上沉积、覆盖保护层(5)。
7.如权利要求6所述的CF基板的制作方法，其特征在于，所述步骤3中，位于同一横行的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触，形成架桥连接；位于同一纵列的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触，形成架桥连接；除此以外，位于分属于不同横行的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)不与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触；位于分属于不同纵列的相邻第一黑色矩阵分区(21)之间的第二黑色矩阵分区(41)不与相应的第一黑色矩阵分区(21)接触。
8.如权利要求6所述的CF基板的制作方法，其特征在于，还包括步骤5、在所述保护层(5)上采用光刻工艺形成光阻间隔物(6)。
9.如权利要求6所述的CF基板的制作方法，其特征在于，所述高导电性黑色遮光材料为黑色金属、或具有高导电率的黑色树脂、或普通黑色树脂掺杂银纳米线与碳纳米管。
10.如权利要求6所述的CF基板的制作方法，其特征在于，所述保护层(5)的材料为光感材料；所述步骤4还包括采用光刻工艺在所述保护层(5)对应CF基板边缘的位置蚀刻出过孔，暴露出部分第一黑色矩阵(2)。
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