CN105572982B - 显示装置及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

一种显示装置包含显示面板、透明导电层、至少一不透明连接线、至少一绝缘块以及图案化遮光层。透明导电层设置于显示面板的表面上。透明导电层包含至少二第一透明电极、至少一透明连接线以及至少二第二透明电极。透明连接线连接第一透明电极。不透明连接线连接第二透明电极，不透明连接线与透明连接线交错。绝缘块设置于不透明连接线与透明连接线之间。图案化遮光层覆盖于不透明连接线。

Description

显示装置及其制作方法
技术领域
本发明是关于一种显示装置及其制作方法。
背景技术
近年来，触控感测装置与显示面板结合，而可以同时达到触控与显示的功能。举例而言，触控感测装置与显示面板结合后被广泛地应用于各种电子设备，例如智能型手机、平板、笔记型计算机等等。
触控感测装置较佳设计具有较高的穿透率，以便于与显示面板结合，但是实际上，触控感测装置内部设有部份区域可能反射光线。在结合触控感测装置与显示面板的触控显示装置中，如何避免因触控感测装置反射光线而影响使用者视觉效果是重要的课题。
发明内容
根据本发明的一态样提供显示装置，包含显示面板、透明导电层、至少一不透明连接线、至少一绝缘块以及图案化遮光层。透明导电层设置于显示面板的表面上。透明导电层包含至少二第一透明电极、至少一透明连接线以及至少二第二透明电极。透明连接线连接第一透明电极。不透明连接线连接第二透明电极，不透明连接线与透明连接线交错。绝缘块设置于不透明连接线与透明连接线之间。图案化遮光层覆盖于不透明连接线。
于本发明的一或多个实施方式中，显示面板包含至少一子像素，子像素包含至少一彩色滤光单元于其中，图案化遮光层于垂直显示面板的方向的投影与彩色滤光单元至少部分重迭。
于本发明的一或多个实施方式中，子像素包含至少一黑色矩阵围绕彩色滤光单元，图案化遮光层于垂直显示面板的方向的投影与黑色矩阵至少部分重迭。
于本发明的一或多个实施方式中，图案化遮光层于垂直显示面板的方向的投影完全落在彩色滤光单元内。
于本发明的一或多个实施方式中，图案化遮光层为彩色滤光层，且图案化遮光层与彩色滤光单元具有大致相同的可见光穿透频谱。
于本发明的一或多个实施方式中，图案化遮光层为彩色滤光层，且显示面板包含至少一子像素，子像素包含至少一黑色矩阵围绕子像素的周围，彩色滤光层于垂直显示面板的方向的投影与黑色矩阵重迭。
于本发明的一或多个实施方式中，显示面板包含可视区与位于可视区至少一侧的非可视区，显示装置更包含多个不透明引线以及多个引线遮光层，不透明引线对应非可视区设置，不透明引线分别电性连接第一透明电极与第二透明电极，引线遮光层分别覆盖不透明引线。
于本发明的一或多个实施方式中，引线遮光层与图案化遮光层属于同一图案化层。
于本发明的一或多个实施方式中，显示装置更包含多个透明引线，设置于显示面板的表面上，并对应非可视区设置，不透明引线分别与透明引线相迭。
根据本发明的一态样提供显示装置的制造方法，包含下列步骤：提供彩色滤光基板；形成至少二第一透明电极、至少一透明连接线与至少二第二透明电极于彩色滤光基板上，其中透明连接线连接第一透明电极；形成至少一绝缘块，其中绝缘块至少部份覆盖透明连接线；形成不透明导体层至少于绝缘块上；形成图案化遮光层于不透明导体层上；以及以图案化遮光层为掩膜图案化不透明导体层，以形成不透明连接线，不透明连接线连接第二透明电极，且不透明连接线位于绝缘块上，使得绝缘块介于不透明连接线与透明连接线之间。
于本发明的一或多个实施方式中，彩色滤光基板包含一可视区与位于可视区至少一侧的一非可视区，其中形成图案化遮光层的步骤更包含形成多个引线遮光层。
于本发明的一或多个实施方式中，图案化不透明导体层的步骤包含以引线遮光层为掩膜，图案化不透明导体层，以形成多个不透明引线，不透明引线对应非可视区设置，且分别电性连接第一透明电极与第二透明电极。
于本发明的一或多个实施方式中，形成第一透明电极、透明连接线与第二透明电极的步骤包含形成多个透明引线于彩色滤光基板上，且透明引线对应非可视区设置，后续形成的不透明引线将分别与透明引线相迭。
于本发明的一或多个实施方式中，彩色滤光基板包含一对准标记于其上，其中形成第一透明电极、透明连接线与第二透明电极的步骤包含：形成透明导电层于彩色滤光基板上；以及图案化透明导电层，以形成第一透明电极、透明连接线与第二透明电极。
于本发明的一或多个实施方式中，制造方法更包含在形成第一透明电极、透明连接线与第二透明电极之前，将彩色滤光基板与主动元件阵列基板对组而形成显示面板。
于本发明的一或多个实施方式中，形成第一透明电极、透明连接线与第二透明电极的步骤在摄氏温度范围大约100度至大约200度进行。
于本发明的一或多个实施方式中，彩色滤光基板包含至少一子像素，子像素包含至少一彩色滤光单元于其中，图案化遮光层系与彩色滤光基板的彩色滤光单元重迭。
于本发明的一或多个实施方式中，图案化遮光层为彩色滤光层，图案化遮光层与彩色滤光单元具有大致相同的可见光穿透频谱。
于本发明的一或多个实施方式中，其中彩色滤光基板包含至少一子像素，子像素包含至少一黑色矩阵围绕子像素的周围，图案化遮光层系与黑色矩阵重迭。
于本发明的一或多个实施方式中，图案化遮光层为黑色矩阵光刻胶或彩色光刻胶。
附图说明
图1A为根据本发明的一实施方式的触控元件的上视图。
图1B为根据本发明的又一实施方式的显示装置的部份元件的局部上视图。
图1C为沿图1B的线1C-1C的剖面图。
图1D为沿图1C的线1D-1D的剖面图。
图2A为根据本发明的另一实施方式的显示装置的局部剖面图。
图2B为图2A的显示装置的局部上视图。
图3A为根据本发明的再一实施方式的显示装置的部份元件的上视图。
图3B为沿图3A的线3B-3B的剖面图。
图4A至图4H为根据本发明的又一实施方式的显示装置的制造方法于多个步骤的剖面图。
图5A至图5E为根据本发明的另一实施方式的显示装置的制造方法于多个步骤的剖面图。
100：显示装置 226：第二透明电极
110：显示面板 228：透明引线
110P：像素 230：绝缘块
110PR：子像素 240：不透明导体层
110PG：子像素 242：不透明连接线
110PB：子像素 244：不透明引线
112：表面 250：遮光层
114：彩色滤光基板 252：图案化遮光层
116：液晶层 254：引线遮光层
118：主动元件阵列基板 260：主动元件阵列基板
120：透明导电层 270：液晶层
122：第一透明电极 280：盖板玻璃
124：透明连接线 290：偏光片
126：第二透明电极 300：光学胶层
128：透明引线 310：显示面板
132：不透明连接线 S1：第一表面
134：不透明引线 S2：第二表面
140：绝缘块 M1：对准标记
152：图案化遮光层 M2：对准标记
154：引线遮光层 M3：对准标记
160：偏光片 NA：非可视区
170：光学胶层 VA：可视区
180：盖板玻璃 BA：蓝色滤光单元
200：显示装置 GA：绿色滤光单元
210：彩色滤光基板 RA：红色滤光单元
212：子像素 KA：黑色矩阵
212G：绿色滤光单元 1C-1C：线
212K：黑色矩阵 1D-1D：线
220：透明导电层 3B-3B：线
222：第一透明电极
224：透明连接线
具体实施方式
以下将以图式揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些现有惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式为之。
图1A为根据本发明的一实施方式的触控元件的上视图。本发明的多个实施方式的显示装置包含显示面板(未绘示)以及触控元件，于此仅绘示显示装置100的触控元件。显示装置的触控元件包含透明导电层120、多个不透明连接线(未绘示)、多个绝缘块140以及图案化遮光层152。透明导电层120设置于显示面板(未绘示)的表面上。透明导电层120包含多个第一透明电极122、多数透明连接线124以及多个第二透明电极126。透明连接线124用以连接第一透明电极122。不透明连接线132(绘示于后续图示中)用以连接第二透明电极126，不透明连接线与透明连接线124交错，绝缘块140设置于不透明连接线与透明连接线124之间，图案化遮光层152覆盖于不透明连接线132上。
同时参照第图1B与图1C。图1B根据本发明的一实施方式的显示装置100的部份元件的上视图。图1C为沿图1B的线1C-1C的剖面图。于此，绘示显示装置100的显示面板110与触控元件，以说明其配置关系。触控元件(例如透明导电层120)设置于显示面板110的表面112上。于本发明的一或多个实施方式中，显示面板110可包含彩色滤光基板114、液晶层116以及主动元件阵列基板118。液晶层116设置于彩色滤光基板114与主动元件阵列基板118之间。
于此，为方便说明起见，图1B中并未完整绘示显示面板110，而仅绘示显示面板110的部分彩色滤光基板114与触控元件。应了解到，图中所绘仅为了方便说明彩色滤光基板114的配置与透明导电层120或图案化遮光层152的相对关系，实际配置上，可将透明导电层120与其它元件设计于彩色滤光基板114的上方。
于本实施方式中，显示面板110可包含多个像素110P，每一像素110P包含至少一子像素，每一子像素包含至少一彩色滤光单元以及至少一黑色矩阵KA。黑色矩阵KA围绕彩色滤光单元。举例而言，每一像素110P可包含三个子像素110PR、110PG、110PB，其中子像素110PR的彩色滤光单元可以是红色滤光单元RA，子像素110PG的彩色滤光单元可以是绿色滤光单元GA，子像素110PB的彩色滤光单元可以是蓝色滤光单元BA。于此，红色滤光单元RA、绿色滤光单元GA、蓝色滤光单元BA可成行地设置于彩色滤光基板114上。于本发明的一或多个实施方式中，主动元件阵列基板118上可以设有多个薄膜晶体管(未绘示)，以控制液晶层116。
于本实施方式中，透明导电层120的材料可以是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、其它合适的氧化物或上述至少二者的堆栈层。不透明连接线132的材料可以是相较于透明导电层120具有较佳导电率的金属材料，例如银、铜、铝、钼或钛、其它合适的材料、或上述至少二种材料的堆栈层，以传递触控感测信息。实际上，具有较佳导电率的金属材料可能亦具有较高的反射率，而容易产生反射光干扰使用者的视觉效果。
于本实施方式中，图案化遮光层152具有调整穿透光线波长的能力。于部分实施方式中，图案化遮光层152可为彩色滤光层。可透过喷墨涂布、转印或其它涂布方法形成，并于其上设置光刻胶层以进行图案化曝光工艺，藉以形成具有多个图案化的彩色滤光层，例如红色滤光层、蓝色滤光层、绿色滤光层。或者，于部分实施方式中，彩色滤光层可为彩色光刻胶，例如红色光刻胶、蓝色光刻胶、绿色光刻胶，可以作为图案化不透明连接线132时的图案化掩膜使用。藉由图案化遮光层152的设计可以调整不透明连接线132的反射光线，使反射的光线波长近似于显示面板110输出的光线波长，避免反光干扰到使用者的视觉效果。
详细而言，于本发明的一或多个实施方式中，图案化遮光层152于垂直显示面板110的方向的投影可完全落在黑色矩阵KA以及某一特定颜色的彩色滤光单元之内。于此，图案化遮光层152与某一特定颜色的彩色滤光单元可具有大致相同的可见光穿透频谱。举例而言，于此实施方式中，图案化遮光层152可为绿色光刻胶，其与绿色滤光单元GA具有大致相同的可见光穿透频谱，图案化遮光层152于垂直显示面板110的方向的投影可完全落在黑色矩阵KA与绿色滤光单元GA之内。
如此一来，不透明连接线132反射的光线可经过图案化遮光层152调整而具有特定波长(于此可为绿光)。一方面，一部分经图案化遮光层152调整的反射光线对应于显示面板110输出特定光线的区域(例如绿色滤光单元GA的位置)，人眼接收到经图案化遮光层152调整的反射光线(即前述的绿光)近似于显示面板110的输出光线，如此一来，反射的光线不会干扰视觉效果，且此反射的光线还可以提升显示装置100的整体亮度。另一方面，另一部分经图案化遮光层152的反射光线对应于显示面板110不输出光线的区域(即黑色矩阵KA的位置)。如此一来，此部分图案化遮光层152与不透明连接线132的设置不遮挡或影响显示面板110的输出光线，而提升整体亮度，且此部分不透明连接线132反射的光线可经过图案化遮光层152(例如绿色光刻胶)调整而具有特定波长(例如绿光)，进而降低反射的光线强度(例如阻挡红光与蓝光)，以免干扰视觉效果。
如此一来，透过图案化遮光层152的设置，可以避免反射的光线影响视觉效果，并提升显示装置100的整体亮度。
虽然在此以图案化遮光层152为绿色光刻胶为例，但不应以此限制本发明的范围。于部分实施方式中，图案化遮光层152可以为红色光刻胶，且此红色光刻胶于垂直显示面板110的方向的投影与红色滤光单元RA至少部分重迭。或者，于其它实施方式中，图案化遮光层152可以为蓝色光刻胶，且此蓝色光刻胶于垂直显示面板110的方向的投影与蓝色滤光单元BA至少部分重迭。
于此，图案化遮光层152于垂直显示面板110的方向的投影与此特定颜色的彩色滤光单元(与图案化遮光层152具有大致相同可见光穿透频谱)至少部分重迭，且图案化遮光层152于垂直显示面板110的方向的投影与黑色矩阵KA至少部分重迭。于其它实施方式中，若不考虑实际配置上尺寸相符的问题，亦可以设计图案化遮光层152与不透明连接线132于垂直显示面板110的方向的投影与黑色矩阵KA完全重迭。如此一来，图案化遮光层152与不透明连接线132的设置不遮挡显示面板110的输出光线。
于此，显示装置100还可包含偏光片160、光学胶层170以及盖板玻璃180。偏光片160设置于透明导电层120、引线遮光层154以及图案化遮光层152上，以使来自显示面板的光线能经过偏光片160而有亮暗变化。偏光片160内可以含有胶体，而使其可以贴附于有高度差的触控元件上。举例而言，胶体的厚度为大约5微米至30微米，大于不透明连接线132的高度(例如约0.5微米)，而能够使偏光片不受触控元件的高度差的影响。光学胶层170设置于偏光片160与盖板玻璃180之间，以将显示面板110、触控元件与盖板玻璃180结合固定。
图1D为沿图1B的线1D-1D的剖面图。同时参照图1B与图1D，彩色滤光基板114的黑色矩阵KA可以于边缘处涵盖较大的范围，使显示面板110包含可视区VA与位于可视区VA至少一侧的非可视区NA。显示装置100更包含透明导电层120的多个透明引线128、不透明引线134以及多个引线遮光层154。
透明引线128设置于显示面板110的表面112上，并对应非可视区NA设置，分别连接第一透明电极122与第二透明电极126。不透明引线134分别与透明引线128相迭，而对应非可视区NA设置。由于不透明引线134分别连接透明引线128，而分别电性连接第一透明电极122与第二透明电极126。不透明引线134往往设计相较于透明引线128具有较佳的导电率，以将触控信息传递至外部处理芯片。引线遮光层154分别覆盖不透明引线134，以调整不透明引线134的反射光线。于此，透明引线128并非必要的配置，于部分实施方式中可以省略透明引线128而仅以不透明引线134电性连接第一透明电极122与第二透明电极126。
于本发明的一或多个实施方式中，引线遮光层154与图案化遮光层152属于同一图案化层。于部分实施方式中，引线遮光层154与图案化遮光层152可由同一材料经图案化工艺而形成。于部分实施方式中，如前所述，引线遮光层154也可以是彩色滤光层，例如绿色滤光层、蓝色滤光层或红色滤光层。或者，于部分实施方式中,彩色滤光层亦可以是彩色光刻胶，例如绿色光刻胶、蓝色光刻胶或红色光刻胶。
于本发明的一或多个实施方式中，不透明引线134与不透明连接线132属于同一图案化层。于部分实施方式中，不透明引线134可以与不透明连接线132具有相同的材料，举例而言，不透明引线134可以与不透明连接线132的材料可以是各种导电率良好的金属，例如银、铜、铝、钼或钛、其它合适的材料、或上述至少二种材料的堆栈层。
如同前述的图案化遮光层152的功效，不透明引线134反射的光线可经过引线遮光层154调整而具有特定波长(例如绿光)，进而降低反射的光线(例如阻挡红光与蓝光)，以免干扰视觉效果。
于此，显示面板110还可包含封装材料117，以确保彩色滤光基板114与主动元件阵列基板118之间的间距，并封装液晶层116。举例而言，封装材料117可以是树脂。本实施方式的其它细节大致上如前所述，在此不再赘述。
图2A为根据本发明的另一实施方式的显示装置100的局部剖面图。图2B为图2A的显示装置100的局部上视图。本实施方式与前述图1B的实施方式相似，差别在于：本实施方式的图案化遮光层152于垂直显示面板110的方向的投影完全落在彩色滤光单元内。于此，同样以图案化遮光层152为绿色光刻胶为例，绿色光刻胶投影完全落在绿色滤光单元GA内。
如此一来，如前所述，不透明连接线132反射的光线可经过图案化遮光层152调整而具有特定波长(于此可为绿光)。由于此光线对应于显示面板110输出绿色光线的区域(即绿色滤光单元GA的位置)，因此人眼接收到不透明连接线132反射的光线(即前述的绿光)近似于显示面板110的输出光线，因此不会干扰视觉效果。本实施方式的其它细节大致上如前所述，在此不再赘述。
图3A为根据本发明的再一实施方式的显示装置100的部份元件的上视图。图3B为沿图3A的线3B-3B的剖面图。本实施方式与前述图1B的实施方式相似，差别在于：本实施方式的图案化遮光层152与引线遮光层154为黑色矩阵光刻胶，且本实施方式的图案化遮光层152于垂直显示面板110的方向的投影与黑色矩阵KA完全重迭。
如此一来，图案化遮光层152可遮挡不透明连接线132，而不产生反光，因此不会干扰使用者的视觉效果。且，不透明连接线132与图案化遮光层152的位置与黑色矩阵KA对应，而可以避免遮挡显示装置的光线，不会因为配置图案化遮光层152而造成显示亮度下降的问题。本实施方式的其它细节大致上如前所述，在此不再赘述。
图4A至图4B为根据本发明的又一实施方式的显示装置的制造方法于多个步骤的剖面图。首先，参照图4A，提供彩色滤光基板210，并形成透明导电层220于彩色滤光基板210的第一表面S1上。彩色滤光基板210包含可视区VA与位于可视区VA至少一侧的非可视区NA。彩色滤光基板210包含多个像素，每一像素包含至少一子像素(未绘示)，子像素(未绘示)包含多个彩色滤光单元(例如绿色滤光单元212G)于其中以及黑色矩阵212K，黑色矩阵212K围绕子像素(未绘示)的周围。
于部分实施方式中，彩色滤光基板210可包含对准标记M1于其第二表面S2上。对准标记M1可以是与彩色滤光基板210上任一层体或元件一同形成的图案，具有一定的对比度以供辨识。举例而言，于彩色滤光单元的工艺中，可以以沉积与图案化方式形成各个颜色的彩色滤光单元以及黑色矩阵212K，对准标记M1可以与黑色矩阵212K一同沉积与图案化形成。
接着，参照图4B，图案化透明导电层220(见图4A)而形成多个第一透明电极(未绘示)、多个透明连接线224、多个第二透明电极226以及多个透明引线228于彩色滤光基板210上。透明连接线224连接第一透明电极(未绘示)。透明引线228对应非可视区NA设置。
于此，图案化此透明导电层220(见图4A)的步骤可包含微影蚀刻工艺，且微影蚀刻工艺所使用的光掩膜系与彩色滤光基板210的第二表面S2上的对准标记M1对齐。此外，本次微影蚀刻工艺还可以设置另一对准标记M2于第一表面S1上。对准标记M2可以是由透明导电层220(见图4A)形成的图案。
然后，参照图4C，形成多个绝缘块230于任两第二透明电极226之间，其中绝缘块230至少部份覆盖透明连接线224。
参照图4D，形成不透明导体层240于图案化的透明导电层220以及基板210的第一表面S1上，且至少位于绝缘块230与透明引线228上。于此，不透明导体层240的材料可以是具有良好导电率的金属，例如银、铜、铝、钼或钛、其它合适的材料、或上述至少二种材料的堆栈层。
参照图4E，形成遮光层250于不透明导体层240上。于本实施方式中，遮光层250大致覆盖不透明导体层240，遮光层250可以由彩色滤光层或黑色矩阵光刻胶形成。
同时参照图4E与图4F，接着，图案化遮光层250以分别形成多个图案化遮光层252与多个引线遮光层254于绝缘块230与透明引线228上。
于此，图案化遮光层250的步骤可包含微影蚀刻工艺，且此微影蚀刻工艺所使用的光掩膜可与彩色滤光基板210的对准标记M1对齐或与前次图案化透明导电层220(见图4A)所形成的对准标记M2对齐。于部分实施方式中，可以设置额外的光刻胶层于遮光层250上，以帮助图案化遮光层250。
于部分实施方式中，当遮光层250的材料为彩色滤光层时，图案化遮光层252于垂直彩色滤光基板210的方向的投影可完全落在黑色矩阵212K以及前述的特定颜色的彩色滤光单元(于此为绿色滤光单元212G)之内，此特定颜色的彩色滤光单元与遮光层250具有大致相同的穿透频谱。更甚者，图案化遮光层252于垂直彩色滤光基板210的方向的投影可完全落在前述的特定颜色的彩色滤光单元之内，使图案化遮光层252与彩色滤光基板210的彩色滤光单元重迭。
于部分实施方式中，虽然在此并未绘示，当遮光层250为黑色矩阵光刻胶时，图案化遮光层252于垂直彩色滤光基板210的方向的投影亦可完全落在黑色矩阵212K内，图案化遮光层252与黑色矩阵212K重迭。
参照图4G，以图案化遮光层252以及引线遮光层254为图案化掩膜而图案化不透明导体层240(见图4F)，以分别形成多个不透明连接线242与多个不透明引线244于绝缘块230与透明引线228上。不透明连接线242用以连接任两第二透明电极226，绝缘块230介于不透明连接线242与透明连接线224之间而使不透明连接线242与透明连接线224互相绝缘。不透明引线244对应非可视区NA设置，且分别电性连接第一透明电极(未绘示)与第二透明电极226至外部电路。
于此虽然配置遮光层250(见图4E)的材料为光刻胶，而先以图案化位于上方的遮光层250(见图4E)而形成图案化遮光层252以及引线遮光层254，再以图案化遮光层252以及引线遮光层254作为图案化掩膜而蚀刻不透明导体层240(见图4F)，但本发明不以此为限。于另一实施方式中，可以设置额外的光刻胶层于遮光层250(见图4E)上，再于同一步骤中蚀刻不透明导体层240与遮光层250，而形成不透明连接线242、不透明引线244、图案化遮光层252以及引线遮光层254。
接着，参照图4H，将上述承载有多个元件的彩色滤光基板210与主动元件阵列基板260对组，以封装材料280确保间距并填入液晶层270于其中，而形成显示装置200。于此，主动元件阵列基板260可包含对准标记M3，用以与彩色滤光基板210的对准标记M1对准，以确定对准精度。
此外，还可以设置偏光片290与光学胶层300于彩色滤光基板210的第一表面S1上，并将此结构与盖板玻璃280贴合，以保护触控感测结构免于刮伤。
图5A至图5E为根据本发明的另一实施方式的显示装置的制造方法于多个步骤的剖面图。本实施方式与第4A至图4H的实施方式相似，差别在于：本实施方式中，先形成显示面板310，再于显示面板310的彩色滤光基板210的外表面上设置透明导电层220、绝缘块230、不透明导体层240、遮光层250，且图案化透明导电层220的微影蚀刻工艺中，所使用的光掩膜与彩色滤光基板210的对准标记M1或主动元件阵列基板260的对准标记M3对齐。
参照图5A，显示面板310包含彩色滤光基板210、主动元件阵列基板260、液晶层270以及封装材料280。彩色滤光基板210可包含对准标记M1于其上，主动元件阵列基板260包含对准标记M3于其上。于部份实施方式中，可将对准标记M1与对准标记M3重迭而对准组合，并以封装材料280确保液晶层270间距，而形成显示面板310。彩色滤光基板210包含彩色滤光单元(例如绿色滤光单元212G)以及黑色矩阵212K，黑色矩阵212K围绕彩色滤光单元。
接着，将透明导电层220形成于显示面板310的彩色滤光基板210的外表面上。如前所述，透明导电层220的材料可以是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、或其它合适的氧化物、或者是上述至少二者的堆栈层。于本发明的一或多个实施方式中，由于显示面板310包含液晶层270，因此需控制后续的工艺温度。举例而言，上述的形成透明导电层220的步骤在摄氏温度范围大约100度至大约200度进行，或者大约在摄氏温度120度至180度进行。
其后，参照图5B，图案化透明导电层220而形成多个第一透明电极(未绘示)、多个透明连接线224、多个第二透明电极226以及多个透明引线228于彩色滤光基板210上。透明连接线224连接第一透明电极(未绘示)。
于此，图案化此透明导电层220的步骤可包含微影蚀刻工艺，且微影蚀刻工艺所使用的光掩膜系可与彩色滤光基板210的对准标记M1或主动元件阵列基板260的对准标记M3对齐。此外，本次微影蚀刻工艺还可以设置另一对准标记M2于显示面板310的表面上。
参照图5C，形成多个绝缘块230、不透明导体层240以及遮光层250。绝缘块230形成于任两第二透明电极226之间且至少部份覆盖透明连接线224。不透明导体层240设置于图案化的透明导电层220以及基板210上。于本实施方式中，遮光层250大致覆盖不透明导体层240，且遮光层250至少位于绝缘块230与透明引线228上。于此，遮光层250可以由彩色滤光层或黑色光刻胶形成。
接着，参照图5D，图案化不透明导体层240与遮光层250(见图5C)，以形成多个不透明连接线242、多个不透明引线244、多个图案化遮光层252以及多个引线遮光层254。如前所述，于部分实施方式中，配置遮光层250的材料为光刻胶材料，并以图案化遮光层252以及引线遮光层254作为图案化掩膜，而图案化不透明导体层240。于部分实施方式中，可以以另一光掩膜进行不透明导体层240与遮光层250(见图5C)的图案化，其相关细节大致上如前所述，在此不再赘述。
于此，不透明连接线242用以连接任两第二透明电极226，使得绝缘块230介于不透明连接线242与透明连接线224之间。不透明引线244用以分别电性连接第一透明电极(未绘示)与第二透明电极226至外部电路。图案化遮光层252以及引线遮光层254分别设置于不透明连接线242与不透明引线244上，以遮蔽或调整不透明连接线242与不透明引线244的反光。
参照图5E，接着，可在显示面板310上形成偏光片290与光学胶层300，以使显示面板310可调整光线亮暗，并使其具有平坦表面以与盖板玻璃280贴合，进而形成显示装置200
参照图5A至图5E，应注意到，上述的多个步骤，例如形成第一透明电极222、透明连接线224与第二透明电极226以及透明引线228，或图案化遮光层250以形成图案化遮光层252以及引线遮光层254，可在摄氏温度范围大约100度至大约200度下进行，其中可在120度至180度的范围内进行，以免使液晶层270过冷或过热而无法恢复能正常运作的性质。
本实施方式的其它相关细节大致上如图4A至图4H的实施方式所述，在此不再赘述。
于本发明的多个实施方式中，设计遮光层于触控感测装置的反射光线的区域，以阻挡或调整反射光线，使其不影响使用者视觉效果。于此，可设计触控感测装置的反射光线的区域与显示面板的内部配置对应，例如对应于彩色滤光基板的黑色矩阵，以避免因触控感测装置而造成亮度下降，或者，例如对应于特定颜色的彩色滤光单元，以使调整后的反射光线颜色近似于此彩色滤光单元的颜色，而让使用者不易受遮光层影响视觉效果。且，可设计遮光层的材料为光刻胶，而作为图案化掩膜，以节省工艺工序。此外，可直接在显示面板或彩色滤光基板上形成触控感测装置，并利用其上的对准标记，以确保触控感测装置与显示面板或彩色滤光基板的对准。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (18)

1.一种显示装置，其特征在于，包含：
一显示面板；
一透明导电层，设置于该显示面板的表面上，该透明导电层包含：
至少二第一透明电极；
至少一透明连接线，该透明连接线连接该至少二第一透明电极；以及
至少二第二透明电极；
至少一不透明连接线，该不透明连接线连接该至少二第二透明电极，该不透明连接线与该透明连接线交错；
至少一绝缘块，设置于该不透明连接线与该透明连接线之间；以及
一图案化遮光层，覆盖于该不透明连接线；
其中，该显示面板包含至少一子像素，该子像素包含至少一彩色滤光单元于其中，该图案化遮光层于垂直该显示面板的方向的投影与该彩色滤光单元至少部分重迭。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该子像素包含至少一黑色矩阵围绕该彩色滤光单元，该图案化遮光层于垂直该显示面板的方向的投影与该黑色矩阵至少部分重迭。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该图案化遮光层于垂直该显示面板的方向的投影完全落在该彩色滤光单元内。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该图案化遮光层为一彩色滤光层，且该图案化遮光层与该彩色滤光单元具有大致相同的可见光穿透频谱。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该图案化遮光层为一彩色滤光层，且该显示面板包含至少一子像素，该子像素包含至少一黑色矩阵围绕该子像素的周围，该彩色滤光层于垂直该显示面板的方向的投影与该黑色矩阵重迭。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该显示面板包含一可视区与位于该可视区至少一侧的一非可视区；
该显示装置更包含：
多个不透明引线，对应该非可视区设置，该些不透明引线分别电性连接该些第一透明电极与该些第二透明电极；以及
多个引线遮光层，分别覆盖该些不透明引线。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，该些引线遮光层与该图案化遮光层属于同一图案化层。
8.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，更包含：
多个透明引线，设置于该显示面板的表面上，并对应该非可视区设置，该些不透明引线分别与该些透明引线相迭。
9.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包含：
提供一彩色滤光基板；
形成至少二第一透明电极、至少一透明连接线与至少二第二透明电极于该彩色滤光基板上，该透明连接线连接该至少二第一透明电极；
形成至少一绝缘块，该绝缘块至少部份覆盖该透明连接线；
形成一不透明导体层至少于该绝缘块上；
形成一图案化遮光层于该不透明导体层上；以及
以该图案化遮光层为掩膜图案化该不透明导体层，以形成一不透明连接线，该不透明连接线连接该至少二第二透明电极，且该不透明连接线位于该绝缘块上，使得该绝缘块介于该不透明连接线与该透明连接线之间；
其中，该彩色滤光基板包含至少一子像素，该子像素包含至少一彩色滤光单元于其中，该图案化遮光层与该彩色滤光基板的该彩色滤光单元重迭。
10.根据权利要求9所述的显示装置的制造方法，其特征在于，该彩色滤光基板包含一可视区与位于该可视区至少一侧的一非可视区；
形成该图案化遮光层的步骤更包含形成多个引线遮光层。
11.根据权利要求10所述的显示装置的制造方法，其特征在于，图案化该不透明导体层的步骤包含：
以该些引线遮光层为掩膜，图案化该不透明导体层，以形成多个不透明引线，该些不透明引线对应该非可视区设置，且分别电性连接该些第一透明电极与该些第二透明电极。
12.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其特征在于，形成该些第一透明电极、该透明连接线与该些第二透明电极的步骤包含：
形成多个透明引线于该彩色滤光基板上，且该些透明引线对应该非可视区设置，后续形成的该些不透明引线将分别与该些透明引线相迭。
13.根据权利要求9所述的显示装置的制造方法，其特征在于，形成该些第一透明电极、该透明连接线与该些第二透明电极的步骤包含：
形成一透明导电层于该彩色滤光基板上；以及
图案化该透明导电层，以形成该些第一透明电极、该透明连接线与该些第二透明电极。
14.根据权利要求9所述的显示装置的制造方法，其特征在于，更包含：
在形成该些第一透明电极、该透明连接线与该些第二透明电极之前，将该彩色滤光基板与一主动元件阵列基板对组而形成一显示面板。
15.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其特征在于，形成该些第一透明电极、该透明连接线与该些第二透明电极的步骤在摄氏温度范围大约100度至大约200度进行。
16.根据权利要求9所述的显示装置的制造方法，其特征在于，该图案化遮光层为一彩色滤光层，且该图案化遮光层与该彩色滤光单元具有大致相同的可见光穿透频谱。
17.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包含：
提供一彩色滤光基板；
形成至少二第一透明电极、至少一透明连接线与至少二第二透明电极于该彩色滤光基板上，该透明连接线连接该至少二第一透明电极；
形成至少一绝缘块，该绝缘块至少部份覆盖该透明连接线；
形成一不透明导体层至少于该绝缘块上；
形成一图案化遮光层于该不透明导体层上；以及
以该图案化遮光层为掩膜图案化该不透明导体层，以形成一不透明连接线，该不透明连接线连接该至少二第二透明电极，且该不透明连接线位于该绝缘块上，使得该绝缘块介于该不透明连接线与该透明连接线之间，其中该彩色滤光基板包含至少一子像素，该子像素包含至少一黑色矩阵围绕该子像素的周围，该图案化遮光层系与该黑色矩阵重迭。
18.根据权利要求17所述的显示装置的制造方法，其特征在于，该图案化遮光层为一黑色矩阵光刻胶或一彩色光刻胶。
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