CN105572768A - 基于反射原理的二维可见光隐装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种基于反射原理的二维可见光隐装置，属于可见光隐形的材料和仪器领域。它包括光导层、位于光导层内部的全反射层、装设于全反射层内部的隐形物体；光导层为矩形空心柱体，厚度约为10mm；光导层包括自外向里第一子层21、第二子层、以及第n子层，每层厚度约为2-3微米；全反射层为折射率为零的材料制作，厚度约为3微米；第一子层、与第二子层、以及第n子层的折射率不同，分别由光导层的形状决定。本发明是一种结构简单、能够在二维空间中实现可见光隐形的二维可见光隐装置。

Description

基于反射原理的二维可见光隐装置
技术领域
本发明主要涉及可见光隐形的材料和仪器领域，特指一种基于反射原理的二维可见光隐装置。
背景技术
隐形技术已经成为物理学家和材料学家的研究热点之一，尽管现有已知的材料都无法直接用于实现隐形。隐形技术从电磁波的频率段而言，可分为微波隐形、可见光隐形、雷达电波隐形等等。现有技术隐形技术无法在可见光频率阶段实现二维隐形，因此设计一种具有一维完全隐形的可见光隐形衣具有重要的价值。
发明内容
本发明需解决的技术问题是：针对现有技术存在的技术问题，本发明提供一种结构简单、能够在二维空间中实现可见光隐形的、具有反射可见光功能的二维可见光隐装置。
为了解决上述问题，本发明提出的解决方案为：一种基于反射原理的二维可见光隐装置，包括光导层、位于所述光导层内部的全反射层、装设于所述全反射层内部的隐形物体；所述光导层为矩形空心柱体，厚度约为10mm；所述光导层包括n个子层，自外向里依次为第一子层、第二子层、以及第n子层，每层厚度约为2-3微米；所述全反射层为折射率为零的材料制作，厚度约为3微米。
X向入射光线A和X向入射光线B入射到所述光导层中，经过一系列的折射，沿着所述光导层2的形状传播，最后平行于原始入射光线离开所述光导层；所述Y向入射光线A和Y向入射光线B也沿着所述光导层2的形状传播，离开所述光导层时平行于原始入射光线；所述第一子层、与所述第二子层、以及所述第n子层的折射率不同，分别由所述光导层的形状决定。
本发明与现有技术相比，具有如下优点和有益效果：
(1)本发明的基于反射原理的二维可见光隐装置，设有光导层，光导层又分为n个子层，每个子层具有不同的折射率，能够使可见光沿着光导层的形状传播，类似于电流在导线中的传播。由此可知，本发明结构简单、借助光导层实现了可见光任意弯曲传播，且实现了在二维空间中可见光隐形。
附图说明
图1是本发明的基于反射原理的二维可见光隐装置的结构原理示意图。
图2是本发明的光导层的工作原理示意图。
图中，11—X向入射光线A；12—X向入射光线B；13—Y向入射光线A；14—Y向入射光线B；2—光导层；21—第一子层；22—第二子层；23—第n子层；3—全反射层；4—隐形物体；51—第一法线；52—第二法线；60—入射光线；61—第一折射光线；62—第二折射光线；63—第n折射光线；64—出射光线。
具体实施方式
以下将结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。
结合图1和图2所示，本发明的基于反射原理的二维可见光隐装置，包括光导层2、位于光导层2内部的全反射层3、装设于全反射层3内部的隐形物体4；光导层2为矩形空心柱体，厚度约为10mm；光导层2包括自外向里第一子层21、第二子层22、以及第n子层23，每层厚度约为2-3微米；全反射层3为折射率为零的材料制作，厚度约为3微米。
参见图1和图2所示，X向入射光线A11和X向入射光线B12入射到光导层2中，经过一系列的折射，沿着光导层2的形状传播，最后平行于原始入射光线离开光导层2；Y向入射光线A13和Y向入射光线B14也沿着光导层2的形状传播，离开光导层2时平行于原始入射光线；第一子层21、与第二子层22、以及第n子层23的折射率不同，分别由光导层2的形状决定。
工作原理：假设入射光线60沿X方向入射到第一子层21中，经折射变为第一折射光线61，然后入射到第二子层22上，再次折射转变为第二折射光线62，以此类推，经过n个子层的折射，最后由第n子层23折射出来，变成出射光线64；所有的入射光线60均沿着光导层2的形状传播，绕开了隐形物体4，而且传播到了隐形物体4的另一侧，就如果隐形物体4不存在一样，从而实现了对隐形物体4的隐形。

Claims (1)

1.基于反射原理的二维可见光隐装置，其特征在于：包括光导层(2)、位于所述光导层(2)内部的全反射层(3)、装设于所述全反射层(3)内部的隐形物体(4)；所述光导层(2)为矩形空心柱体，厚度约为10mm；所述光导层(2)包括n个子层，自外向里依次为第一子层(21)、第二子层(22)、以及第n子层(23)，每层厚度约为2-3微米；所述全反射层(3)为折射率为零的材料制作，厚度约为3微米；X向入射光线A(11)和X向入射光线B(12)入射到所述光导层(2)中，经过一系列的折射，沿着所述光导层(2)的形状传播，最后平行于原始入射光线离开所述光导层(2)；所述Y向入射光线A(13)和Y向入射光线B(14)也沿着所述光导层(2)的形状传播，离开所述光导层(2)时平行于原始入射光线；所述第一子层(21)、与所述第二子层(22)、以及所述第n子层(23)的折射率不同，分别由所述光导层(2)的形状决定。
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