CN105404099A - Ccd曝光机冷凝废水排水结构 - Google Patents

Ccd曝光机冷凝废水排水结构 Download PDF

Info

Publication number
CN105404099A
CN105404099A CN201510937779.4A CN201510937779A CN105404099A CN 105404099 A CN105404099 A CN 105404099A CN 201510937779 A CN201510937779 A CN 201510937779A CN 105404099 A CN105404099 A CN 105404099A
Authority
CN
China
Prior art keywords
exposure machine
ccd exposure
drain
branch
main drain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510937779.4A
Other languages
English (en)
Inventor
李泽清
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
APCB Electronics Kunshan Co Ltd
Original Assignee
APCB Electronics Kunshan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by APCB Electronics Kunshan Co Ltd filed Critical APCB Electronics Kunshan Co Ltd
Priority to CN201510937779.4A priority Critical patent/CN105404099A/zh
Publication of CN105404099A publication Critical patent/CN105404099A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Sewage (AREA)

Abstract

本发明公开了一种CCD曝光机冷凝废水排水结构,每台CCD曝光机上设有用于排出冷凝废水的排放口,设有一根排水总管和若干排水支管,若干排水支管的数量与CCD曝光机的数量一致,每台CCD曝光机上的排放口皆连接有一根排水支管,所述排水支管的一端与CCD曝光机上的排放口连接且另一端与所述排水总管连接,所述排水总管的末端通入下水道,所述排水总管沿地面铺设。该CCD曝光机冷凝废水排水结构可以自动将冷凝废水排入下水道,不仅省去了人力,更是可以实现生产线连续生产,而且改善了无尘室环境。

Description

CCD曝光机冷凝废水排水结构
技术领域
本发明属于印刷电路板制造领域,具体涉及一种CCD曝光机的冷凝废水排水结构。
背景技术
PCB在制作线路时,必须先经过曝光制程。目前,曝光所采用的设备一般为CCD曝光机。为了防止CCD曝光机长时间运作导致发热受损,一般需要对CCD曝光机进行制冷,以免发生设备故障。对CCD曝光机制冷会产生冷凝废水,需要排出。目前CCD曝光机的冷凝废水排出方式是在每个CCD曝光机旁设置一个储液桶,该储液桶用于收集CCD曝光机排出的冷凝废水。当储液桶内水满后,需要停机,然后由作业人员将水倒走。此种排放方式存在以下缺陷:一、浪费生产时间,给生产带来麻烦;二、一旦员工未及时倒水,水会流到无尘车间内,带来不必要的麻烦,并且无法防呆。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种CCD曝光机冷凝废水排水结构,该CCD曝光机冷凝废水排水结构可以自动将冷凝废水排入下水道,不仅省去了人力,更是可以实现生产线连续生产,而且改善了无尘室环境。
本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种CCD曝光机冷凝废水排水结构,每台CCD曝光机上设有用于排出冷凝废水的排放口,设有一根排水总管和若干排水支管,若干排水支管的数量与CCD曝光机的数量一致,每台CCD曝光机上的排放口皆连接有一根排水支管,所述排水支管的一端与CCD曝光机上的排放口连接且另一端与所述排水总管连接,所述排水总管的末端通入下水道,所述排水总管沿地面铺设。
本发明为了解决其技术问题所采用的进一步技术方案是:
进一步地说,所述排水总管和所述排水支管皆为塑料管道。更进一步地说,所述排水总管和所述排水支管皆为PVC管道。
进一步地说,所述排水总管的内管径大于所述排水支管的内管径。
本发明的有益效果是:本发明的CCD曝光机冷凝废水排水结构,通过一根排水总管和若干排水支管替代了现有技术的储液桶,排水支管的一端与CCD曝光机上的排放口连接且另一端与排水总管连接,排水总管的末端通入下水道,该CCD曝光机冷凝废水排水结构可以自动将冷凝废水排入下水道,不仅省去了人力,更是可以实现生产线连续生产,而且改善了无尘室环境。
附图说明
图1为本发明原理示意图。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的具体实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本发明的优点及功效。本发明也可以其它不同的方式予以实施,即,在不悖离本发明所揭示的范畴下,能予不同的修饰与改变。
实施例:一种CCD曝光机冷凝废水排水结构,每台CCD曝光机1上设有用于排出冷凝废水的排放口11,如图1所示,设有一根排水总管2和若干排水支管3,若干排水支管3的数量与CCD曝光机1的数量一致,每台CCD曝光机1上的排放口11皆连接有一根排水支管3,所述排水支管3的一端与CCD曝光机1上的排放口11连接且另一端与所述排水总管2连接,所述排水总管的末端通入下水道,所述排水总管沿地面铺设,所述排水总管和所述排水支管皆为PVC管道,所述排水总管的内管径大于所述排水支管的内管径。
本发明通过一根排水总管和若干排水支管替代了现有技术的储液桶,CCD曝光机内的冷凝废水通过排水支管及排水总管自动排放至下水道,不仅省去了人力,更是可以实现生产线连续生产,而且改善了无尘室环境。

Claims (4)

1.一种CCD曝光机冷凝废水排水结构,每台CCD曝光机(1)上设有用于排出冷凝废水的排放口(11),其特征在于:设有一根排水总管(2)和若干排水支管(3),若干排水支管(3)的数量与CCD曝光机(1)的数量一致,每台CCD曝光机(1)上的排放口(11)皆连接有一根排水支管(3),所述排水支管(3)的一端与CCD曝光机(1)上的排放口(11)连接且另一端与所述排水总管(2)连接,所述排水总管的末端通入下水道,所述排水总管沿地面铺设。
2.如权利要求1所述的CCD曝光机冷凝废水排水结构,其特征在于:所述排水总管和所述排水支管皆为塑料管道。
3.如权利要求2所述的CCD曝光机冷凝废水排水结构,其特征在于:所述排水总管和所述排水支管皆为PVC管道。
4.如权利要求1所述的CCD曝光机冷凝废水排水结构,其特征在于:所述排水总管的内管径大于所述排水支管的内管径。
CN201510937779.4A 2015-12-15 2015-12-15 Ccd曝光机冷凝废水排水结构 Pending CN105404099A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510937779.4A CN105404099A (zh) 2015-12-15 2015-12-15 Ccd曝光机冷凝废水排水结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510937779.4A CN105404099A (zh) 2015-12-15 2015-12-15 Ccd曝光机冷凝废水排水结构

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105404099A true CN105404099A (zh) 2016-03-16

Family

ID=55469671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510937779.4A Pending CN105404099A (zh) 2015-12-15 2015-12-15 Ccd曝光机冷凝废水排水结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105404099A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107608180A (zh) * 2016-07-12 2018-01-19 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种多个匀胶单元的排废系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1776526A (zh) * 2005-11-10 2006-05-24 中国科学院光电技术研究所 加温闪光两用纳米压印装置
CN202823983U (zh) * 2012-08-08 2013-03-27 晶海洋半导体材料(东海)有限公司 一种多槽循环硅片清洗机
CN203190588U (zh) * 2013-04-22 2013-09-11 中国移动通信集团河南有限公司 一种空调排水系统
CN205353572U (zh) * 2015-12-15 2016-06-29 竞陆电子(昆山)有限公司 Ccd曝光机冷凝废水排水结构

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1776526A (zh) * 2005-11-10 2006-05-24 中国科学院光电技术研究所 加温闪光两用纳米压印装置
CN202823983U (zh) * 2012-08-08 2013-03-27 晶海洋半导体材料(东海)有限公司 一种多槽循环硅片清洗机
CN203190588U (zh) * 2013-04-22 2013-09-11 中国移动通信集团河南有限公司 一种空调排水系统
CN205353572U (zh) * 2015-12-15 2016-06-29 竞陆电子(昆山)有限公司 Ccd曝光机冷凝废水排水结构

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
李长安: "曝光设备的维护与保养", 《第三届全国青年印刷电路学术年会论文汇编》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107608180A (zh) * 2016-07-12 2018-01-19 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种多个匀胶单元的排废系统
CN107608180B (zh) * 2016-07-12 2021-06-29 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种多个匀胶单元的排废系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN204023750U (zh) 市政排水系统
CN105298510B (zh) 泥水盾构换管排浆装置和排浆方式
CN206143897U (zh) 一种多功能雨水收集与处理回用系统
CN104532947B (zh) 地下敞开式调蓄池
CN204139302U (zh) 一种可自清洁的矩形雨水调蓄池
CN106978820A (zh) 一种综合管廊泄露水利用系统
CN206767836U (zh) 一种污水循环利用净化系统
CN207211190U (zh) 一种综合管廊
CN105404099A (zh) Ccd曝光机冷凝废水排水结构
CN205776490U (zh) 一种雨水回收系统
CN205353572U (zh) Ccd曝光机冷凝废水排水结构
CN108678069A (zh) 一种园林景观雨水收集循环利用系统
CN102966144A (zh) 生活污水收集再次循环利用系统
CN206396856U (zh) 一种屋顶雨水收集处理回用系统
CN104501245A (zh) 一种排油污环保装置
CN204401774U (zh) 地下敞开式调蓄池
CN103741785B (zh) 一种雨水弃流分流装置
CN203213218U (zh) 一种集雨马桶
CN207244784U (zh) 一种村镇污水管网多点收集压力输送系统
CN207436177U (zh) 一种带有泵排的排水系统
CN204139301U (zh) 一种配备自动清洗设备的圆形雨水调蓄池
CN205046469U (zh) 一种露天输送物料栈桥排水系统
CN205042224U (zh) 一种排污装置
CN208815547U (zh) 地下室液体再利用系统
CN209957430U (zh) 循环冷却水塔集水池油污处理设备

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20160316