CN105371752B - 条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置及测量方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置及测量方法。偏振型米勒干涉装置包括依次从上到下设置的CCD探测器、成像透镜、检偏器、四分之一波片、分光板、显微物镜、参考反射镜和纳米线栅偏振器及依次从右到左设置在分光板右侧的偏振激光器、偏振器和准直扩束系统。测量方法为：以45°旋转步长、沿同一方向对检偏器的透光轴进行5次旋转，在CCD探测器上得到5幅相位分别相差90°的移相干涉条纹图，再利用五步移相算法即可实现测量；调节偏振器的透光轴方向即可实现条纹对比度的调节。本发明能方便地调节条纹对比度，有效解决纳米线栅偏振器反射光消光比低而导致的移相干涉条纹对比度不一致问题，满足低反射率待测样品的高精度测量。
Description
技术领域
本发明属于光学测量技术领域，尤其涉及一种条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置及测量方法。
背景技术
随着现代精密测量技术发展，米勒干涉仪由于其结构紧凑、测量精度和空间分辨率高等特点在光学探测以及计量领域得到了广泛应用，比如生物医学、光学轮廓及尺寸结构等的非接触测量。米勒干涉系统的基本原理与迈克尔逊干涉仪一致，二者之间的不同之处在于其参考臂的物理位置不同，前者的参考臂位于一个由显微物镜、参考镜和分光板所组成的米勒物镜中。传统的米勒干涉仪由于其测量臂和参考臂之间的相对光强比固定不变，导致其干涉条纹对比度不可调，故无法满足不同反射率、尤其是低反射率待测样品的高精度测量。为了实现条纹对比度的可调，出现了各种偏振型米勒干涉系统，一般采用一对波片或者反射型半波片来实现对检测路或者参考路光束偏振态的变换，通过调节检测路和参考路不同偏振态光束之间的相对强度来实现干涉条纹对比度的调整。同时在系统中引入光束偏振态，可直接利用偏振特性进行多步移相干涉检测，避免了传统米勒干涉仪中需要使用价格高昂的纳米定位平台来实现高精度移相的问题，同时也减少受外界振动的影响。但目前的偏振型米勒干涉系统普遍结构复杂，都需要采用复杂的特殊偏振器件，制造成本高，调节难度大，测量较不方便，测量精确度不高，无法满足不同反射率、尤其是低反射率待测样品的高精度测量。
发明内容
本发明主要解决原有偏振型米勒干涉系统普遍结构复杂，需要采用复杂的特殊偏振器件，制造成本高，调节难度大，测量较不方便，测量精确度不高的技术问题；提供一种条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置及测量方法，其结构简单，减少成本，调节方便，便于测量，提高测量精确度，尤其满足低反射率待测样品的高精度测量。
本发明另一目的是提供一种条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置及测量方法，有效解决纳米线栅偏振器反射光消光比低而导致的移相干涉条纹对比度不一致问题，操作方便，提高测量精确度，满足低反射率待测样品的高精度测量。
本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：本发明的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置，包括偏振激光器、偏振器、准直扩束系统、分光板、显微物镜、纳米线栅偏振器、参考反射镜、四分之一波片、检偏器、成像透镜和CCD探测器，纳米线栅偏振器设在装置的最下方，参考反射镜放在纳米线栅偏振器上方，显微物镜位于参考反射镜上方，CCD探测器、成像透镜、检偏器和四分之一波片依次从上到下设置并且位于显微物镜的上方，分光板与X轴方向呈45°角倾斜设置，并且分光板位于所述的四分之一波片和所述的显微物镜之间，偏振激光器、偏振器及准直扩束系统依次从右到左设置并且位于所述的分光板的右侧。检测时，待测样品放置在纳米线栅偏振器的下方，偏振激光器发出偏振光，经偏振器、准直扩束系统到分光板，再经分光板、显微物镜、纳米线栅偏振器到待测样品，经待测样品反射后，又经纳米线栅偏振器、参考反射镜、显微物镜、分光板、四分之一波片、检偏器和成像透镜，最后在CCD探测器上得到干涉条纹。旋转检偏器的透光轴，在CCD探测器上得到5幅相位分别相差90°的移相干涉条纹图，再利用五步移相算法即可实现对待测样品的测量。通过调节偏振器的透光轴方向即可实现条纹对比度的调节。本技术方案结构简单，减少成本，调节方便，便于测量，提高测量精确度，尤其满足低反射率待测样品的高精度测量。
作为优选，所述的纳米线栅偏振器包括透明玻璃基板及镀于透明玻璃基板上的多条互相平行的金属纳米线栅，所述的金属纳米线栅的宽度相同，相邻两条金属纳米线栅之间的间距相同。
作为优选，所述的金属纳米线栅的材质为铝材质或金材质。
作为优选，所述的参考反射镜的玻璃基板的厚度和所述的纳米线栅偏振器的透明玻璃基板的厚度相同，参考反射镜的玻璃基板所用材质和纳米线栅偏振器的透明玻璃基板所用材质相同。对纳米线栅偏振器的玻璃基底对于检测光所额外引入的像差起到很好的补偿作用。
本发明的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置的测量方法为：检测时，待测样品放置在所述的纳米线栅偏振器的下方，所述的偏振激光器发出的偏振光先经过所述的偏振器再经过所述的准直扩束系统扩束后照射到所述的分光板，接着经分光板的反射进入所述的显微物镜后变为会聚光束，再经过刻线方向与X轴方向平行的所述的纳米线栅偏振器，将光速分成透射光p和反射光s，透射光p和反射光s分别作为检测光和参考光，透射光p经过待测样品反射回来为反射光p’，反射光s经过所述的参考反射镜反射回来为反射光s’，反射光p’和反射光s’分别再次经过纳米线栅偏振器的透射和反射后会合，再分别经过显微物镜后变为平行光，再经快轴方向与X轴成45°夹角的所述的四分之一波片9，变为两个旋向相反的圆偏振光，再依次经过所述的检偏器10和所述的成像透镜11，最后在所述的CCD探测器上得到干涉条纹；通过以45°旋转步长、沿同一方向对所述的检偏器的透光轴进行5次旋转，即在所述的CCD探测器上得到5幅相位分别相差90°的移相干涉条纹图，再利用五步移相算法即可实现对待测样品的测量；通过调节所述的偏振器的透光轴方向即可调整检测光和参考光之间的相对光强，实现条纹对比度的调节。调节方便，便于测量，提高测量精确度，满足不同反射率、尤其是低反射率待测样品的高精度测量。
作为优选，所述的测量方法包括移相干涉条纹对比度不一致的校正方法：旋转所述的偏振器的透光轴到对应干涉条纹对比度较理想的位置，以45°旋转步长、沿同一方向对所述的检偏器的透光轴进行5次旋转，在所述的CCD探测器上得到第一组五步移相干涉条纹再将所述的偏振器的透光轴旋转90°，然后再以45°旋转步长、沿同一方向对所述的检偏器的透光轴进行5次旋转，在所述的CCD探测器上得到第二组五步移相干涉条纹将所得到的两组五步移相干涉条纹中对应同相位的每两幅干涉条纹图进行叠加，可得到一组条纹对比度一致的五步移相干涉条纹I(jπ/2)，即
j＝-2，-1，0，1，2，上标(jπ/2)表示对应的相移量，从而完成高精度测量。有效解决纳米线栅偏振器反射光消光比低而导致的移相干涉条纹对比度不一致问题，操作方便，提高测量精确度，满足低反射率待测样品的高精度测量。
本发明的有益效果是：采用加工工艺成熟的纳米线栅偏振器作为偏振分光镜，实现检测光路和参考光路的偏振分光，进而实现干涉条纹对比度的可调，同时通过旋转偏振器实现检测光路和参考光路的光能量互换，并对旋转变换前后的两组干涉条纹进行叠加，进而校正了由于纳米线栅偏振器存在反射光消光比低而导致的移相干涉条纹对比度不一致问题，本发明不但实现条纹对比度的可调，满足不同反射率及低反射率待测样品的高精度测量需要，同时还极大地降低系统对于偏振器的性能要求、加工工艺的要求以及制作成本，操作简单，测量方便，有利于大量推广应用。
附图说明
图1是本发明条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置的一种系统连接结构示意图。
图2是本发明条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置中纳米线栅偏振器的一种结构示意图。
图3是实施例中对台阶进行测量时的第一组五步移相干涉条纹图。
图4是实施例中对台阶进行测量时校正后的对比度一致的五步移相干涉条纹图。
图5是实施例中对台阶进行测量，利用本发明五步移相算法计算得到待测标准台阶的面形分布图。
图中1.偏振激光器，2.偏振器，3.准直扩束系统，4.分光板，5.显微物镜，6.纳米线栅偏振器，7.参考反射镜，8.待测样品，9.四分之一波片，10.检偏器，11.成像透镜，12.CCD探测器，61.透明玻璃基板，62.金属纳米线栅。
具体实施方式
下面通过实施例，并结合附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。
实施例：本实施例的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置，如图1所示，包括偏振激光器1、偏振器2、准直扩束系统3、分光板4、显微物镜5、纳米线栅偏振器6、参考反射镜7、四分之一波片9、检偏器10、成像透镜11和CCD探测器12，纳米线栅偏振器6位于装置的最下方，参考反射镜7放在纳米线栅偏振器6上方，显微物镜5位于参考反射镜7上方，CCD探测器12、成像透镜11、检偏器10和四分之一波片9依次从上到下设置并且位于显微物镜5的上方，分光板4与X轴方向呈45°角倾斜设置，并且分光板4位于四分之一波片9和显微物镜5之间，偏振激光器1、偏振器2及准直扩束系统3依次从右到左设置并且位于分光板4的右侧。如图2所示，纳米线栅偏振器6包括透明玻璃基板61及镀于透明玻璃基板61上的多条互相平行的金属纳米线栅62，所有金属纳米线栅62的宽度相同，任何相邻两条金属纳米线栅62之间的间距相同，金属纳米线栅62采用铝或金制成。参考反射镜7的玻璃基板的厚度和纳米线栅偏振器6的透明玻璃基板的厚度相同，参考反射镜7的玻璃基板所用材质和纳米线栅偏振器6的透明玻璃基板所用材质相同。
上述条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置的测量方法为：检测时，待测样品8放置在纳米线栅偏振器6的下方，偏振激光器1发出的偏振光先经过偏振器2再经过准直扩束系统3扩束后照射到分光板4，接着经分光板4的反射进入显微物镜5后变为会聚光束，再经过刻线方向与X轴方向平行的纳米线栅偏振器6，将光速分成透射光p和反射光s，透射光p和反射光s分别作为检测光和参考光，透射光p经过待测样品8反射回来为反射光p’，反射光s经过参考反射镜7反射回来为反射光s’，反射光p’和反射光s’分别再次经过纳米线栅偏振器6的透射和反射后会合，再分别经过显微物镜5后变为平行光，再经快轴方向与X轴成45°夹角的四分之一波片9，变为两个旋向相反的圆偏振光，再依次经过检偏器10和成像透镜11，最后在CCD探测器12上得到干涉条纹。
通过以45°旋转步长、沿同一方向对检偏器10的透光轴进行5次旋转，即在CCD探测器12上得到5幅相位分别相差90°的移相干涉条纹图，再利用五步移相算法即可实现对待测样品8的测量。
对于不同反射率的待测样品，可通过调节偏振器的透光轴方向，即可调整入射到纳米线栅偏振器的线偏振光的偏振方向，从而达到调整检测光和参考光之间的相对光强的目的，由此实现干涉条纹对比度的可调，以满足各种不同反射率待测样品的测量。
在条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置中，纳米线栅偏振器实际起到了偏振分光镜的作用，即分别将p偏振光和s偏振光完全透射、反射分离到检测光路和参考光路中。但对于实际所使用的纳米线栅偏振器而言，p偏振光的透射率Tp一般大于80％，s偏振光的透射率Ts小于0.02％，p偏振光的反射率Rp为5％左右，s偏振光的反射率Rs大于80％，而剩余的p偏振光和s偏振光能量则被纳米线栅偏振器所吸收，透射光消光比(Tp/Ts)大于4000，反射光消光比(Rs/Rp)仅约为16。因而可认为透射光中仅含有p偏振光，可以忽略s偏振光的影响；但对于反射光而言，其消光比非常低，必须要考虑p偏振光的影响。纳米线栅偏振器所存在的反射光消光比低问题，会导致经过四分之一波片后的检测光和参考光无法同时得到旋向不同的圆偏振光，进而导致在检偏器透光轴旋转过程中会出现干涉条纹对比度的变化。
为了解决纳米线栅偏振器存在反射光消光比低而导致移相干涉条纹对比度不一致的问题，采用移相干涉条纹对比度不一致的校正方法：旋转偏振器2的透光轴到对应干涉条纹对比度较理想的位置，以45°旋转步长、沿同一方向对检偏器10的透光轴进行5次旋转，在CCD探测器12上得到第一组五步移相干涉条纹再将偏振器2的透光轴旋转90°，然后再以45°旋转步长、沿同一方向对检偏器10的透光轴进行5次旋转，在CCD探测器12上得到第二组五步移相干涉条纹将所得到的两组五步移相干涉条纹中对应同相位的每两幅干涉条纹图进行叠加，可得到一组条纹对比度一致的五步移相干涉条纹I(jπ/2)，即
j＝-2，-1，0，1，2，上标(jπ/2)表示对应的相移量，从而完成待测样品的高精度测量。
本实施例所用的偏振激光器是光波长为633nm的偏振He-Ne激光器，纳米线栅偏振器的p偏振光的最大透射率Tp大于82％，s偏振光的最大透射率Ts小于0.015％，适用波长范围为420nm～700nm，光线允许最大入射半角大于20°，采用4×准直扩束系统、1∶1分光板，显微物镜采用具有f放大倍数为4×、数值孔径NA为0.13的显微物镜。采用上述方法对一个台阶高度为460.6nm、反射率接近100％的标准台阶(VISL，)进行测量，旋转偏振器的透光轴方向，得到最佳干涉条纹对比度，再以45°旋转步长、沿同一方向对检偏器透光轴进行5次旋转，即可得到5幅相位分别相差90°的移相干涉条纹所得到的第一组五步移相干涉条纹如图3所示；接着，将偏振器的透光轴方向相对前一次测量位置沿顺时针旋转90°，对检测光路和参考光路的光能量进行互换，再以45°旋转步长、沿同一方向对检偏器透光轴进行5次旋转，得到第二组五步移相干涉条纹将所得到的两组五步移相干涉条纹中对应同相位的每两幅干涉图进行叠加，可得到一组条纹对比度一致的五步移相干涉条纹I(jπ/2)，所得到的经校正后的对比度一致的五步移相干涉条纹如图4所示，其条纹对比度皆约为0.65。利用五步移相算法计算得到待测标准台阶面形分布如图5所示，测得台阶高度为464.33nm，与标准值之间仅相差3.73nm，因此实现了优于5nm的高测量精度。
Claims (6)
1.一种条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置，其特征在于包括偏振激光器(1)、偏振器(2)、准直扩束系统(3)、分光板(4)、显微物镜(5)、纳米线栅偏振器(6)、参考反射镜(7)、四分之一波片(9)、检偏器(10)、成像透镜(11)和CCD探测器(12)，纳米线栅偏振器(6)设在装置的最下方，参考反射镜(7)放在纳米线栅偏振器(6)上方，显微物镜(5)位于参考反射镜(7)上方，CCD探测器(12)、成像透镜(11)、检偏器(10)和四分之一波片(9)依次从上到下设置并且位于显微物镜(5)的上方，分光板(4)与X轴方向呈45°角倾斜设置，并且分光板(4)位于所述的四分之一波片(9)和所述的显微物镜(5)之间，偏振激光器(1)、偏振器(2)及准直扩束系统(3)依次从右到左设置并且位于所述的分光板(4)的右侧。
2.根据权利要求1所述的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置，其特征在于所述的纳米线栅偏振器(6)包括透明玻璃基板(61)及镀于透明玻璃基板(61)上的多条互相平行的金属纳米线栅(62)，所述的金属纳米线栅(62)的宽度相同，相邻两条金属纳米线栅(62)之间的间距相同。
3.根据权利要求2所述的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置，其特征在于所述的金属纳米线栅(62)的材质为铝材质或金材质。
4.根据权利要求1或2或3所述的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置，其特征在于所述的参考反射镜(7)的玻璃基板的厚度和所述的纳米线栅偏振器(6)的透明玻璃基板的厚度相同，参考反射镜(7)的玻璃基板所用材质和纳米线栅偏振器(6)的透明玻璃基板所用材质相同。
5.一种如权利要求1所述的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置的测量方法，其特征在于检测时，待测样品(8)放置在所述的纳米线栅偏振器(6)的下方，所述的偏振激光器(1)发出的偏振光先经过所述的偏振器(2)再经过所述的准直扩束系统(3)扩束后照射到所述的分光板(4)，接着经分光板(4)的反射进入所述的显微物镜(5)后变为会聚光束，再经过刻线方向与X轴方向平行的所述的纳米线栅偏振器(6)，将光速分成透射光p和反射光s，透射光p和反射光s分别作为检测光和参考光，透射光p经过待测样品(8)反射回来为反射光p’，反射光s经过所述的参考反射镜(7)反射回来为反射光s’，反射光p’和反射光s’分别再次经过纳米线栅偏振器(6)的透射和反射后会合，再分别经过显微物镜(5)后变为平行光，再经快轴方向与X轴成45°夹角的所述的四分之一波片(9)，变为两个旋向相反的圆偏振光，再依次经过所述的检偏器(10)和所述的成像透镜(11)，最后在所述的CCD探测器(12)上得到干涉条纹；通过以45°旋转步长、沿同一方向对所述的检偏器(10)的透光轴进行5次旋转，即在所述的CCD探测器(12)上得到5幅相位分别相差90°的移相干涉条纹图，再利用五步移相算法即可实现对待测样品(8)的测量；通过调节所述的偏振器(2)的透光轴方向即可调整检测光和参考光之间的相对光强，实现条纹对比度的调节。
6.根据权利要求5所述的条纹对比度可调的偏振型米勒干涉装置的测量方法，其特征在于包括移相干涉条纹对比度不一致的校正方法：旋转所述的偏振器(2)的透光轴到对应干涉条纹对比度较理想的位置，以45°旋转步长、沿同一方向对所述的检偏器(10)的透光轴进行5次旋转，在所述的CCD探测器(12)上得到第一组五步移相干涉条纹I1 (jπ/2)；再将所述的偏振器(2)的透光轴旋转90°，然后再以45°旋转步长、沿同一方向对所述的检偏器(10)的透光轴进行5次旋转，在所述的CCD探测器(12)上得到第二组五步移相干涉条纹I2 (jπ/2)；将所得到的两组五步移相干涉条纹中对应同相位的每两幅干涉条纹图进行叠加，可得到一组条纹对比度一致的五步移相干涉条纹I(jπ/2)，即
j＝-2，-1，0，1，2，上标(jπ/2)表示对应的相移量，从而完成高精度测量。
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| CN102829733A (zh) * | 2012-08-03 | 2012-12-19 | 中国计量学院 | 一种条纹对比度可调的大数值孔径点衍射干涉装置及方法 |
| CN203298878U (zh) * | 2013-05-03 | 2013-11-20 | 内蒙古工业大学 | 条纹对比度与载频可调的环路点衍射干涉波前传感器 |
| WO2015070898A1 (en) * | 2013-11-13 | 2015-05-21 | Am2M Sp Z O.O. Sp Kom. | Interferometric method and apparatus for spatio-temporal optical coherence modulation |
| CN104949630A (zh) * | 2014-03-25 | 2015-09-30 | 南京理工大学 | 一种大数值孔径条纹对比度可调节的点衍射干涉装置 |
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