CN105369228B - 一种用于化学铜设备的排水装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种用于化学铜设备的排水装置，其安装于化学铜设备的排水处，该排水装置包括调节机构、迫紧机构和底座，所述迫紧机构位于药水槽内，所述调节机构与所述迫紧机构连接，并调节迫紧机构间歇性与所述底座形成开或闭的状态，所述底座的内部为中通的结构，并通过一段封闭管路与排水球阀连接，所述封闭管路连通外部管路，所述外部管路用于向所述封闭管路内注入纯水。本发明通过调节机构调节使迫紧机构与底座之间压迫锁紧，从而使槽内药水与排水球阀之间形成一个封闭管路，所述封闭管路连通外部管路，通过向外部管路向封闭管路中注入纯水而形成水密封，进而保证排水球阀无药水接触，避免排水球阀结铜卡死。
Description
技术领域
本发明涉及化学铜设备，特别涉及一种用于化学铜设备的排水装置，属于湿制程设备工艺技术领域。
背景技术
化学铜工序被广泛应用于有通孔的印制线路板的生产加工中,其主要目的在于通过一系列化学处理方法在非导电的基材上沉积一层铜,继而通过后续的电镀方法加厚使之达到设计的特定厚度。化学铜工艺通过一系列必须的步骤而完成化学铜的沉积,因药液中存在一些活化剂使悬浮粒子沉淀于槽壁死角处而污染槽体，故槽体内需每日24小时不停打气搅拌。
目前在化学铜工序中,普遍采用气体搅拌的方法防止药水沉积而造成结铜。如图1-2所示的化学铜设备,通过向空气搅拌主管路K中通入气体使得药水槽A内的药水产生激荡而避免药水沉积,空气搅拌支管路K1连通空气搅拌主管路K，并作用于排水球阀4，从而达到防止药水沉积而造成排水球阀结铜卡死的目的。
但是以上所述装置存在以下缺陷：因为气体搅拌只会在出气口附近一小段范围内产生搅拌效应，而没有气体搅拌的部分，化铜液仍处于静止状态，长时间仍然会导致排水球阀结铜卡死而无法操作，必须拆除更新。
在产业界，化学铜设备每次定期保养时都会面临以上问题，因而一种可以避免排水球阀结铜卡死的排水装置亟待出现。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明的目的在于提供一种用于化学铜设备的排水装置，其通过向封闭管路中注入纯水,从而形成水密封保证排水球阀无药水接触，从根本上避免排水球阀结铜卡死。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：
一种用于化学铜设备的排水装置，其安装于化学铜设备的排水处，该排水装置包括调节机构、迫紧机构和底座，所述迫紧机构位于药水槽内，所述调节机构与所述迫紧机构连接，并调节迫紧机构间歇性与所述底座形成开或闭的状态，所述底座的内部为中通的结构，并通过一段封闭管路与排水球阀连接，所述封闭管路连通外部管路，所述外部管路用于向所述封闭管路内注入纯水。
优选的，所述调节机构包括固定座、调节把手、阀杆以及压制环，所述固定座固定于该化学铜设备上，所述阀杆插设于所述固定座中，其一端与所述调节把手连接，其另一端伸入所述药水槽内与所述压制环固定连接，所述压制环的另一端与所述迫紧机构连接。
进一步的，所述压制环的顶端开设有一方孔，所述阀杆的另一端插设于所述方孔中。
更进一步的，所述迫紧机构包括一迫紧片，所述迫紧片与所述压制环的底部连接，所述迫紧片于所述调节把手锁紧时垂直压于所述底座中，并于所述调节把手松开时脱离所述底座中。
再进一步的，所述底座的顶端部开设有一凹槽，所述迫紧片于所述调节把手锁紧时垂直压于所述凹槽中，并于所述调节把手松开时脱离所述凹槽。
优选的，所述外部管路包括透明管和注水管，所述透明管的一端连通所述封闭管路，其另一端连通所述注水管。
优选的，所述纯水为去离子水。
通过上述技术方案，本发明提供的用于化学铜设备的排水装置，通过调节机构调节使迫紧机构与底座之间压迫锁紧，从而使槽内药水与排水球阀之间形成一个封闭管路，所述封闭管路连通外部管路，通过向外部管路向封闭管路中注入纯水而形成水密封，进而保证排水球阀无药水接触，避免排水球阀结铜卡死。
附图说明
为了更清楚地说明本发明结构特征和技术要点，下面结合附图和具体实施方式对本发明进行详细说明。
图1为现有的化学铜设备的局部结构示意图；
图2为现有的化学铜设备的局部侧视图；
图3为本发明实施例所公开的一种用于化学铜设备的排水装置的结构示意图；
图4为本发明实施例所公开的一种用于化学铜设备的排水装置的侧视图。
附图标记说明：1-调节机构，11-固定座，12-调节把手，13-阀杆，14-压制环，2-迫紧机构，6-底座，61-凹槽，3-封闭管路，4-排水球阀，5-外部管路，51-透明管，52-注水管，A-药水槽，K-空气搅拌主管路，K1-空气搅拌支管路。
具体实施方式
下面将结合本实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行具体、清楚、完整地描述。
参见图3-4所示的，本发明实施例公开了一种用于化学铜设备的排水装置，其安装于化学铜设备的排水处，该排水装置包括调节机构1、迫紧机构2和底座6，迫紧机构2位于药水槽A内，调节机构1与迫紧机构2连接，并调节迫紧机构2间歇性与底座6形成开或闭的状态，底座6的内部为中通的结构，并通过一段封闭管路3与排水球阀4连接，封闭管路3连通外部管路5，外部管路5用于向封闭管路3内注入纯水。
其中，调节机构1包括固定座11、调节把手12、阀杆13以及压制环14，固定座11固定于该化学铜设备上，阀杆13插设于固定座11中，其一端与调节把手12连接，其另一端伸入药水槽A内与压制环14固定连接，压制环14的另一端与迫紧机构2连接。进一步的，压制环14的顶端开设有一方孔，阀杆13的另一端插设于方孔中，从而形成两者的固定连接。
迫紧机构2包括一迫紧片，迫紧片是具有一定弹力，其与压制环14的底部连接，迫紧片于调节把手12锁紧时垂直压于底座6中，并于调节把手12松开时脱离底座6中。
进一步的，底座6的顶端部开设有一凹槽61，迫紧片于调节把手12锁紧时垂直压于凹槽61中，从而使得底座6的顶端部呈封闭状态，迫紧片于调节把手12松开时脱离凹槽61，从而使得底座6的顶端部呈开放状态。
外部管路5包括透明管51和注水管52，透明管51的一端连通封闭管路3，其另一端连通注水管52。纯水为去离子水。
本发明的工作原理如下：在添加药水前先将旋转调节把手12锁紧,压制环14带动迫紧片垂直压于底座6的凹槽61中，从而封闭底座6的顶端的入口处，进而使得药水槽A内的药水与排水球阀4之间形成一个密闭的空间，即是封闭管路3，此时将排水球阀4关闭,然后往药水槽A内添加药水至工作液位H；接着，依次通过注水管52和透明管51向封闭管路3中注入纯水，从而形成水密封，进而充分保证排水球阀4无药水接触，避免排水球阀4出现结铜卡死的现象。通过以上技术方案，本发明从根本上解决了排水球阀4结铜卡死的现象，保证了排水装置的使用寿命。
上述具体实施方式，仅为说明本发明的技术构思和结构特征，目的在于让熟悉此项技术的相关人士能够据以实施，但以上所述内容并不限制本发明的保护范围，凡是依据本发明的精神实质所作的任何等效变化或修饰，均应落入本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种用于化学铜设备的排水装置，其安装于化学铜设备的排水处，其特征在于，该排水装置包括调节机构、迫紧机构和底座，所述迫紧机构位于药水槽内，所述调节机构与所述迫紧机构连接，并调节迫紧机构间歇性与所述底座形成开或闭的状态，所述底座的内部为中通的结构，并通过一段封闭管路与排水球阀连接，所述封闭管路连通外部管路，所述外部管路用于向所述封闭管路内注入纯水。
2.根据权利要求1所述的一种用于化学铜设备的排水装置，其特征在于，所述调节机构包括固定座、调节把手、阀杆以及压制环，所述固定座固定于该化学铜设备上，所述阀杆插设于所述固定座中，其一端与所述调节把手连接，其另一端伸入所述药水槽内与所述压制环固定连接，所述压制环的另一端与所述迫紧机构连接。
3.根据权利要求2所述的一种用于化学铜设备的排水装置，其特征在于，所述压制环的顶端开设有一方孔，所述阀杆的另一端插设于所述方孔中。
4.根据权利要求2或3所述的一种用于化学铜设备的排水装置，其特征在于，所述迫紧机构包括一迫紧片，所述迫紧片与所述压制环的底部连接，所述迫紧片于所述调节把手锁紧时垂直压于所述底座中，并于所述调节把手松开时脱离所述底座中。
5.根据权利要求4所述的一种用于化学铜设备的排水装置，其特征在于，所述底座的顶端部开设有一凹槽，所述迫紧片于所述调节把手锁紧时垂直压于所述凹槽中，并于所述调节把手松开时脱离所述凹槽。
6.根据权利要求1或2或3或5所述的一种用于化学铜设备的排水装置，其特征在于，所述外部管路包括透明管和注水管，所述透明管的一端连通所述封闭管路，其另一端连通所述注水管。
7.根据权利要求1或2或3或5所述的一种用于化学铜设备的排水装置，其特征在于，所述纯水为去离子水。
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