CN105312851A

CN105312851A - 一种引线针的表面处理方法

Info

Publication number: CN105312851A
Application number: CN201410382616.XA
Authority: CN
Inventors: 范赛红
Original assignee: WUXI GUOSONG ENVIRONMENTAL PROTECTION MACHINERY CO Ltd
Current assignee: WUXI GUOSONG ENVIRONMENTAL PROTECTION MACHINERY CO Ltd
Priority date: 2014-08-05
Filing date: 2014-08-05
Publication date: 2016-02-10

Abstract

本发明公开了一种引线针的表面处理方法，包括：A.通过拉丝工艺获得引线针坯体；B.对引线针坯体进行粗磨获得引线针本体；C.在碾磨设备上碾磨引线针本体的表面，在引线针本体的表面形成纳米晶体结构，纳米晶体结构为从表至里分为三层：0～0.01mm深度内、0.01～0.05mm深度内、0.05～0.15mm深度内，晶粒粒尺分别为20～40nm、40～80nm、80～120nm；D.将引线针本体进行化学镍钯金处理，镍层的晶粒尺寸为50～100nm。纳米结构的镍层与引线针本体的表面的纳米结构结合，结合强度高，能够最大可能的消除引线针表面的微裂纹，降低纺织过程中由于微裂纹引起质量缺陷的概率。

Description

一种引线针的表面处理方法

技术领域

本发明涉及纺织机械辅助设备技术领域，尤其涉及一种引线针的表面处理方法。

背景技术

引线针是纺织机械的重要零部件，引线针通常采用拉丝工艺制作，拉丝工艺制作的引线针容易出现微裂纹，这种微裂纹在纺织过程中容易刮擦待纺织的布匹造成质量缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提出一种引线针的表面处理方法，能够最大可能的消除引线针表面的微裂纹，降低纺织过程中由于引线针的微裂纹引起质量缺陷的概率。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种引线针的表面处理方法，包括：A.通过拉丝工艺获得引线针坯体；B.对引线针坯体进行粗磨获得引线针本体；C.在碾磨设备上碾磨引线针本体的表面，在引线针本体的表面形成纳米晶体结构，纳米晶体结构为从表至里分为三层：0～0.01mm深度内，晶粒粒尺为20～40nm；0.01～0.05mm深度内，晶粒尺寸为40～80nm；0.05～0.15mm深度内，晶粒尺寸为80～120nm；D.将引线针本体进行化学镍钯金处理，获得镍层、钯层和金层，镍层的晶粒尺寸为50～100nm。

优选的，化学镍钯金的各层的厚度分别为：镍层1.5～3.5μm，钯层0.1～0.2μm，金层0.03～0.04μm。

优选的，引线针本体由铝合金制作，步骤B之后，步骤C之前还包括锌化处理、化铜和电镀铜处理，获得锌化层、化铜层和电镀铜层；锌化层的厚度为0.5～1.5μm；电镀铜层的厚度在10μm以上。

优选的，锌化处理使用的溶液重量配比为：50g氧化锌、100g重量比为50％的硝酸。

优选的，锌化处理前还包括去氧化层处理，去氧化层处理使用的溶液为浓度为5～10％的氢氧化钠溶液。

优选的，锌化处理的温度为40～60℃，电镀铜层的晶粒尺寸在5μm以下。

优选的，步骤C中在碾磨设备上碾磨所述引线针本体的表面，包括：将引线针本体置于两研磨盘之间进行碾磨，两研磨盘在绕共转轴公转的同时绕各自的自转轴自转，

优选的，步骤C用到的碾磨设备包括内齿轮盘、共转轴、连轴杆、第一研磨盘、第二研磨盘、第一研磨盘自转轴和第二研磨盘自转轴；共转轴以内齿轮盘的轴线为轴进行公转，公转轴连接连轴杆，连轴杆的两端分别连接第一研磨盘和第二研磨盘；第一研磨盘连接第一研磨盘自转轴，第二研磨盘连接第二研磨盘自转轴，第一研磨盘自转轴和第二研磨盘自转轴与内齿轮盘啮合；共转轴公转驱动第一研磨盘和第二研磨盘在自转的同时公转；研磨引线针时，待研磨的引线针置于第一研磨盘和第二研磨盘之间。

优选的，连轴杆为伸缩杆，连轴杆两端的距离是可调节的。

优选的，连轴杆包括第一连轴杆和第二连轴杆，第一连轴杆和第二连轴杆套接；第一研磨盘自转的线速度大于其公转的线速度；第二研磨盘自转的线速度大于其公转的线速度。

本发明的有益效果为：一种引线针的表面处理方法，包括：A.通过拉丝工艺获得引线针坯体；B.对引线针坯体进行粗磨获得引线针本体；C.在碾磨设备上碾磨引线针本体的表面，在引线针本体的表面形成纳米晶体结构，纳米晶体结构为从表至里分为三层：0～0.01mm深度内，晶粒粒尺为20～40nm；0.01～0.05mm深度内，晶粒尺寸为40～80nm；0.05～0.15mm深度内，晶粒尺寸为80～120nm；D.将引线针本体进行化学镍钯金处理，获得镍层、钯层和金层，镍层的晶粒尺寸为50～100nm。纳米结构的镍层与碾磨后的引线针本体的纳米结构结合，结合强度高，不产生微裂纹，能够最大可能的消除引线针表面的微裂纹，降低纺织过程中由于引线针的微裂纹引起质量缺陷的概率。

附图说明

为了更清楚、有效地说明本发明实施例的技术方案，将实施例中所需要使用的附图作简单介绍，不言自明的是，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域中的普通技术人员来讲，无需付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图做出其它附图。

图1是本发明一种引线针的表面处理方法的流程示意图。

图2是本发明一种引线针的表面处理方法的的碾磨设备的俯视图。

图3是本发明一种引线针的表面处理方法的的碾磨设备的前视图。

图4是本发明一种引线针的表面处理方法的碾磨设备的连轴杆的结构示意图。

图中：

1-内齿轮盘；2-公转轴；3-连轴杆；31-第一连轴杆；32-第二连轴杆；4-第一研磨盘；5-第二研磨盘；6-第一研磨盘自转轴；7-第二研磨盘自转轴；8-第一齿轮；9-第二齿轮。

具体实施方式

本发明提供了一种引线针的表面处理方法，为了使本领域中的技术人员更清楚的理解本发明方案，并使本发明上述的目的、特征、有益效果能够更加明白、易懂，下面结合附图1～4和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

一种引线针的表面处理方法，包括：

步骤101.通过拉丝工艺获得引线针坯体。

步骤102.对引线针坯体进行粗磨获得引线针本体。

步骤103.在碾磨设备上碾磨引线针本体的表面，在引线针本体的表面形成纳米晶体结构，纳米晶体结构为从表至里分为三层：0～0.01mm深度内，晶粒粒尺为20～40nm；0.01～0.05mm深度内，晶粒尺寸为40～80nm；0.05～0.15mm深度内，晶粒尺寸为80～120nm。

步骤104.将引线针本体进行化学镍钯金处理，获得镍层、钯层和金层，镍层的晶粒尺寸为50～100nm。

纳米结构的镍层与碾磨后的引线针本体的纳米结构结合，结合强度高，不产生微裂纹，能够最大可能的消除引线针表面的微裂纹，降低纺织过程中由于引线针的微裂纹引起质量缺陷的概率。

本实施例中，化学镍钯金的各层的厚度分别为：镍层1.5～3.5μm，钯层0.1～0.2μm，金层0.03～0.04μm。

本实施例中，引线针本体由铝合金制作，步骤102之后，步骤103之前还包括锌化处理、化铜和电镀铜处理，获得锌化层、化铜层和电镀铜层；锌化层的厚度为0.5～1.5μm；电镀铜层的厚度在10μm以上。

本实施例中，锌化处理使用的溶液重量配比为：50g氧化锌、100g重量比为50％的硝酸。

本实施例中，锌化处理前还包括去氧化层处理，去氧化层处理使用的溶液为浓度为5～10％的氢氧化钠溶液。

本实施例中，锌化处理的温度为40～60℃，电镀铜层的晶粒尺寸在5μm以下。

本实施例中，步骤103中在碾磨设备上碾磨所述引线针本体的表面，包括：将引线针本体置于两研磨盘之间进行碾磨，两研磨盘在绕共转轴公转的同时绕各自的自转轴自转，

本实施例中，步骤103用到的碾磨设备包括内齿轮盘1、共转轴2、连轴杆3、第一研磨盘4、第二研磨盘5、第一研磨盘自转轴6和第二研磨盘自转轴7；共转轴2以内齿轮盘1的轴线为轴进行公转，公转轴2连接连轴杆3，连轴杆3的两端分别连接第一研磨盘4和第二研磨盘5；第一研磨盘4连接第一研磨盘自转轴6，第二研磨盘5连接第二研磨盘自转轴7，第一研磨盘自转轴6和第二研磨盘自转轴7与内齿轮盘1啮合；共转轴2公转驱动第一研磨盘4和第二研磨盘5在自转的同时公转；研磨引线针时，待研磨的引线针置于第一研磨盘4和第二研磨盘5之间。

本实施例中，连轴杆3为伸缩杆，连轴杆3两端的距离是可调节的。

本实施例中，连轴杆3包括第一连轴杆31和第二连轴杆32，第一连轴杆31和第二连轴杆32套接；第一研磨盘4自转的线速度大于其公转的线速度；第二研磨盘5自转的线速度大于其公转的线速度。

本实施例中，还包括第一齿轮8，第一齿轮8连接第一研磨盘自转轴6，所说第一齿轮8与内齿轮盘1啮合。

本实施例中，还包括第二齿轮9，第二齿轮9连接第二研磨盘自转轴7，所说第二齿轮9与内齿轮盘1啮合。

以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种引线针的表面处理方法，其特征在于，包括：

A.通过拉丝工艺获得引线针坯体；

B.对所述引线针坯体进行粗磨获得引线针本体；

C.在碾磨设备上碾磨所述引线针本体的表面，在所述引线针本体的表面形成纳米晶体结构，所述纳米晶体结构为从表至里分为三层：0～0.01mm深度内，晶粒粒尺为20～40nm；0.01～0.05mm深度内，晶粒尺寸为40～80nm；0.05～0.15mm深度内，晶粒尺寸为80～120nm；

D.将所述引线针本体进行化学镍钯金处理，获得镍层、钯层和金层，所述镍层的晶粒尺寸为50～100nm。

2.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述化学镍钯金的各层的厚度分别为：镍层1.5～3.5μm，钯层0.1～0.2μm，金层0.03～0.04μm。

3.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述引线针本体由铝合金制作，所述步骤B之后，所述步骤C之前还包括锌化处理、化铜和电镀铜处理，获得锌化层、化铜层和电镀铜层；所述锌化层的厚度为0.5～1.5μm；所述电镀铜层的厚度在10μm以上。

4.如权利要求3所述的表面处理方法，其特征在于，所述锌化处理使用的溶液重量配比为：50g氧化锌、100g重量比为50％的硝酸。

5.如权利要求3所述的表面处理方法，其特征在于，所述锌化处理前还包括去氧化层处理，所述去氧化层处理使用的溶液为浓度为5～10％的氢氧化钠溶液。

6.如权利要求3所述的表面处理方法，其特征在于，所述锌化处理的温度为40～60℃，所述电镀铜层的晶粒尺寸在5μm以下。

7.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤C中在碾磨设备上碾磨所述引线针本体的表面，包括：将所述引线针本体置于两研磨盘之间进行碾磨，所述两研磨盘在绕共转轴公转的同时绕各自的自转轴自转。

8.如权利要求3所述的表面处理方法，其特征在于，所述步骤C用到的碾磨设备包括内齿轮盘(1)、共转轴(2)、连轴杆(3)、第一研磨盘(4)、第二研磨盘(5)、第一研磨盘自转轴(6)和第二研磨盘自转轴(7)；共转轴(2)以内齿轮盘(1)的轴线为轴进行公转，公转轴(2)连接连轴杆(3)，连轴杆(3)的两端分别连接第一研磨盘(4)和第二研磨盘(5)；第一研磨盘(4)连接第一研磨盘自转轴(6)，第二研磨盘(5)连接第二研磨盘自转轴(7)，第一研磨盘自转轴(6)和第二研磨盘自转轴(7)与内齿轮盘(1)啮合；共转轴(2)公转驱动第一研磨盘(4)和第二研磨盘(5)在自转的同时公转；研磨引线针时，待研磨的引线针置于第一研磨盘(4)和第二研磨盘(5)之间。

9.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于，所述连轴杆(3)为伸缩杆，所述连轴杆(3)两端的距离是可调节的。

10.如权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于，所述连轴杆(3)包括第一连轴杆(31)和第二连轴杆(32)，所述第一连轴杆(31)和所述第二连轴杆(32)套接；所述第一研磨盘(4)自转的线速度大于其公转的线速度；所述第二研磨盘(5)自转的线速度大于其公转的线速度。