CN105303593A - 画布元素处理方法及装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种画布元素处理方法实施例，本实施例显示包含若干画布元素的画布，若用户想要依次处理某个(些)画布元素时，可以在画布上进行划线操作，根据用户划出的线条轨迹，本实施例确定出该线条轨迹依次经过的画布元素，并触发画布元素处理模块依次处理确定出的该些画布元素。与现有技术相比，本实施例并不需要用户依次对各个画布元素进行点击等操作，仅划出依次经过该些画布元素的线条即可，用户的操作更加简单，用户体验更好。另外，本申请还提供了一种画布元素处理装置实施例，用以保证上述方法实施例在实际中的应用及实现。

Description

画布元素处理方法及装置

技术领域

本申请涉及软件元素处理领域，更具体地，是画布元素处理方法及装置。

背景技术

在计算机领域中，桌面是计算机的主要展示界面。用户打开的多个程序窗口，可以散落显示在桌面中。一种具体的散落显示方式是，多个程序窗口层叠显示，即每一个上层的程序窗口会覆盖每一个下层的程序窗口的一部分。

目前，要实现上述的显示效果，用户需要依次点击每个程序窗口，这样，计算机会响应于用户的每次点击操作，将点击的该程序窗口放置在最上层(当然，前一个最上层的程序窗口就成为下一层的程序窗口)。可见，在现有的这种实现方式中，用户需要对每个想要处理的程序窗口均执行点击操作，不够方便，用户体验较差。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种画布元素处理方法，用以解决现有技术中用户在想要处理画布中的元素时，需要对每个画布元素均执行点击操作，操作不够方便的技术问题。另外，本申请还提供了一种画布元素处理装置，用以保证所述方法在实际中的应用及实现。

为实现所述目的，本申请提供的技术方案如下：

本申请的第一方面提供了一种画布元素处理方法，包括：

显示待处理画布，所述待处理画布中包含若干画布元素；

响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述若干画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素；

触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素。

本申请的第二方面提供了一种画布元素处理装置，包括：

画布元素显示模块，用于显示待处理画布，所述待处理画布中包含若干画布元素；

目标画布元素确定模块，用于响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述若干画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素；

目标画布元素处理模块，用于触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素。

与现有技术相比，本申请包括以下优点：

由以上可知，本申请提供了一种画布元素处理方法实施例，本实施例首先显示包含若干画布元素的画布，若用户想要依次处理某个(些)画布元素时，可以在画布上进行划线操作，根据用户划出的线条轨迹，本实施例确定出该线条轨迹依次经过的画布元素，并触发画布元素处理模块依次处理确定出的该些画布元素。与现有技术相比，本实施例并不需要用户依次对各个画布元素进行点击等操作，仅划出依次经过该些画布元素的线条即可，用户的操作更加简单，用户体验更好。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请提供的画布元素处理方法实施例的流程图；

图2为本申请提供的待处理画布包含的画布元素示例图；

图3为本申请提供的确定目标画布元素的一种实现方式流程图；

图4为本申请提供的确定目标画布元素的另一实现方式流程图；

图5为本申请提供的画布元素处理装置实施例的结构框图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

参见图1，其示出了本申请提供的画布元素处理方法实施例的流程。如图1所示，该画布元素处理方法实施例可以包括步骤S101～步骤S103。

步骤S101：显示待处理画布，待处理画布中包含若干画布元素。

其中，本实施例可以应用在各种不同的场景中，在不同的应用场景中，待处理画布及画布元素表现为不同形式。

例如，电脑、手机等电子设备的桌面上显示有多个程序窗口，则待处理画布为该桌面，画布元素为该些程序窗口；又如，文档中包括多个文本框，则待处理画布为该文档界面，画布元素为该些文本框；再如，多任务处理软件的处理界面中包括多个任务，则待处理画布为该处理界面，画布元素为该些任务。

以上几种仅仅是示例说明，本申请并不局限于此。但是，总结来说，待处理画布为包含一个或多个画布元素的界面，其中，该些画布元素为要接受同种类型处理动作的元素。例如，在以上应用场景示例中，多个程序窗口均要被设置各自的显示图层，多个文本框均要被设置各自的显示图层、多个任务均要被设置各自的优先级。

步骤S102：响应于用户在待处理画布上划出的线条轨迹，在若干画布元素中，确定线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素。

其中，用户在待处理画布的界面中，可以使用鼠标或者触控工具等，划出线条轨迹。根据线条轨迹的方向，确定出该线条轨迹依次经过的画布元素，该画布元素可以是该待处理画布中的全部或者部分画布元素。为了便于描述，将确定出的画布元素称为目标画布元素。目标画布元素的个数可以是一个，也可以是多个，本申请并不具体限定。

以图2所示的线条轨迹经过的画布元素为例进行说明。如图2所示，待处理画布中包含画布元素E1、画布元素E2、画布元素E3、画布元素E4及画布元素E5，线条轨迹依次经过的目标画布元素可以为画布元素E1、画布元素E2及画布元素E4。

需要说明的是，线条轨迹的方向是线条轨迹的一端到另一端，并不局限于从划出动作的起点到终点，即也可以是终点到起点。

例如，用户的划出动作从A点开始，运动到B点结束，则A点到B点的运动轨迹为线条轨迹。确定该线条轨迹依次经过的目标画布元素时，可以从A点开始，或者，也可以从B点开始。确定出的目标画布元素如图2所示，可以依次为画布元素E1、画布元素E2及画布元素E4，或者，也可以依次为画布元素E4、画布元素E2及画布元素E1。

步骤S103：触发预设画布元素处理模块依次处理至少一个目标画布元素。

其中，画布元素处理模块是预置模块，要对待处理画布中的画布元素进行处理。与上述画布元素的说明同理，画布元素处理模块在不同的应用场景中，表现为不同的形式。

例如，画布元素为程序窗口，则画布元素处理模块为设置程序窗口的显示图层的模块；又如，画布元素为文档中的文本框，则画布元素处理模块为设置文本框的显示图层的模块；再如，画布元素为多任务处理界面中的任务，则画布元素处理模块为设置任务优先级的模块。

触发画布元素处理模块，按照确定目标画布元素的先后顺序，依次处理目标画布元素。

以目标画布元素为程序窗口为例说明，依次确定出的程序窗口分别为程序窗口E1、程序窗口E2及程序窗口E4，画布元素处理模块将程序窗口E1的显示图层设置为图层1、将程序窗口E2的显示图层设置为图层2、将程序窗口E4的显示图层设置为图层3。这样，程序窗口E1显示在最上层，底下依次显示程序窗口E2及程序窗口E4。

由以上技术方案可知，本申请提供的画布元素处理方法实施例，显示包含若干画布元素的画布，若用户想要依次处理某个(些)画布元素时，可以在画布上进行划线操作，根据用户划出的线条轨迹，本实施例确定出该线条轨迹依次经过的画布元素，并触发画布元素处理模块依次处理确定出的该些画布元素。与现有技术相比，本实施例并不需要用户依次对各个画布元素进行点击等操作，仅划出依次经过该些画布元素的线条即可，用户的操作更加简单，用户体验更好。

在实际应用中，上述实施例中步骤S102响应于用户在待处理画布上划出的线条轨迹，在若干画布元素中，确定线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素的具体实现方式可以包括以下步骤A1～步骤A2。

步骤A1：响应于用户在待处理画布上划出的线条轨迹，依据线条轨迹的延伸方向，依次确定线条轨迹中的至少一个关键点。

其中，用户可以在待处理画布上划出线条轨迹，线条轨迹的延伸方向可以是从线条轨迹的任意一端到另外一端。在线条轨迹上，选择出一个或多个关键点。如图2所示，在线条轨迹L上选择的关键点为P1～P9。

具体地，选择关键点可以是等距选择，或者，可以是非等距选择，或者，可以是查找线条轨迹中的转折点，将转折点作为关键点。当然，这几种方式仅仅是说明示例，本申请选择关键点的方式可以并不局限于此，可以是现有的在线条上取点的任意方式。

需要说明的是，各个关键点是按照线条轨迹的延伸方向依次确定出来的，因此，各个关键点是具有确定顺序。为了体现各个关键点的先后确定顺序，可以是将各个关键点保存在先进先出的队列中。当然，存储关键点的数据结构并不局限于先进先出的队列，还可以是其他类型。

例如，还可以是将各个关键点存储在数组、链表等中；其中，数组下标的顺序表示关键点的确定顺序，链表的前后指针表示确定顺序。

步骤A2：依据至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含关键点的目标画布元素；其中，各个目标画布元素互不相同。

其中，按照关键点的确定顺序，依次确定与关键点关联的画布元素。画布元素显示在待处理画布中时，是需要占据一定的区域面积的。因此，这种关联表现为画布元素的显示区域内包含关键点。

具体地，按照关键点的先后确定顺序，依次分别将关键点与画布元素进行比对，查找关联的目标画布元素。以关键点存储在先进先出的队列为例说明，从队列的队首依次取出关键点，将取出的关键点分别与各个画布元素进行比对，以查找目标画布元素，取出动作直至最后一个关键点。另外，查找到的目标画布元素可以放入该先进先出队列中，即每确定出一个目标画布元素便从队尾依次放入该先进先出队列中。当然，目标画布元素还可以是放置在其他数据结构中，如数组、链表或者另一队列，本申请并不做具体限定。

需要说明的是，查找的目标画布元素之间是互不相同的。原因是，可能存在多个关键点都被同一画布元素包含的情况，这样，将每个关键点与画布元素进行比对时，同一画布元素可能被多次确定为目标画布元素，但是，每个画布元素只需被确定一次即可。因此，需要对确定出的目标画布元素进行限定，将其进一步限定为互不相同的画布元素。

如图2所示，关键点P2、关键点P3及关键点P4均包含在画布元素E1的显示区域内，在查找包含关键点的画布元素时，画布元素E1会多次被确定为目标画布元素。因此，需要限定目标画布元素是不同的，以保证仅有一个目标画布元素E1。

需要说明的是，由于关键点是按照线条轨迹的方向依次选取出来的，在查找目标画布元素时，是按照关键点的选取顺序依次执行的，因此，目标画布元素的产生也是具有先后顺序的，该先后顺序体现的是线条轨迹的方向，即可以体现用户想要依次处理目标画布元素的意愿。

在实施中，与关键点进行比对的可以是全部画布元素，也可以是部分的画布元素，具体与步骤A2(依据至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含关键点的目标画布元素)的具体实现方式相对应。如下，本申请提供了步骤A2的两种具体实现方式。

如图3所示，第一种实现方式可以包括以下步骤S301～步骤S305。

步骤S301：依据至少一个关键点的确定顺序，将首个关键点作为当前关键点。

具体地，假设一个或多个关键点存储在队列Q中，将队列Q的队首中的首个元素即关键点P1取出，将关键点P1作为当前关键点。

步骤S302：在若干画布元素中，查找显示区域内包含当前关键点的备选画布元素；若查找到，执行步骤S303，若未查找到，执行步骤S305。

如图2所示的画布元素示例，在画布元素E1～画布元素E5中，查找包含关键点P1的画布元素，未查找到，执行步骤S305从队列Q中取出下一关键点P2，重新执行本步骤，在画布元素E1～画布元素E5中，查找包含关键点P2的画布元素，查找到画布元素E1，执行步骤S303。

为了便于描述，将查找到的画布元素称为备选画布元素。

步骤S303：判断是否并未存在由备选画布元素确定的目标画布元素，若是，执行步骤S304，若否，执行步骤S305。

在实施中，确定出的目标画布元素可以存储在队列Q中，相应地，步骤S302确定出某个备选画布元素后，本步骤的具体实现方式可以是，在队列Q中查找是否存在该备选画布元素，若未存在，则表明该备选画布元素还未被确定为目标画布元素，则可以将该备选画布元素作为目标画布元素存储在队列Q中。若已经存在，则在队列Q中取出下一关键点，为该下一关键点查找备选画布元素。

以图2为例说明。为关键点P2确定的目标画布元素为画布元素E1，为关键点P3确定的备选画布元素也为画布元素E1，由于画布元素E1已经被确定为了目标画布元素，因此，执行步骤S305遍历下一关键点。

步骤S304：将备选画布元素确定为目标画布元素。

其中，可以将确定出的目标画布元素存在队列、数组或者链表等各种数据结构中。

步骤S305：将下一关键点作为当前关键点，返回执行步骤S302，直至最后一个关键点。

由以上可知，该第一种实现方式中，将每个关键点与全部的画布元素进行比对。在每个关键点的比对过程中，查找到包含该关键点的画布元素后，便判断一次是否存在该画布元素，然后再比对下一关键点。

在步骤A2(依据至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含关键点的目标画布元素)的第二种实现方式中，可以不将每个关键点与全部的画布元素进行比对，对于不同的关键点，可以与全部或部分的画布元素进行比对，来查找目标画布元素。

如图4所示，步骤A2的另一具体实现方式可以包括以下步骤S401～步骤S404。

S401：依据至少一个关键点的确定顺序，将首个关键点作为当前关键点。

S402：在去除目标画布元素的画布元素中，查找显示区域内包含当前关键点的画布元素；若查找到，执行步骤S403；若未查找到，执行步骤S404。

其中，首先判断是否存在目标画布元素。若存在，则在全部的画布元素中，去除目标画布元素，在剩余的画布元素中，查找显示区域内包含该当前关键点的画布元素。若不存在，则在全部的画布元素中进行查找。需要说明的是，对于首个关键点，还并未执行过步骤S403，因此，还并未存在目标画布元素，可以认为目标画布元素为空，即在全部的画布元素中进行查找。

需要说明的是，由于本实现方式是循环执行的，因此，步骤S403可以不断确定出目标画布元素。这样，在每次执行本步骤时，目标画布元素可能是不断改变的。

如图2所示，为关键点P2确定的目标画布元素为画布元素E1后，当前关键点为关键点P3，本步骤执行时，便在画布元素E1之外的画布元素E2～E5中进行查找。接着，为关键点P4确定目标画布元素为画布元素E2后，当前关键点为关键点P5，本步骤执行时，便在画布元素E1及画布元素E2之外的画布元素E3～E5中进行查找。

S403：将查找到的画布元素确定为目标画布元素。

S404：将下一关键点作为当前关键点，返回执行步骤S402在去除目标画布元素的画布元素中，查找显示区域内包含当前关键点的画布元素，直至最后一个关键点。

需要说明的是，本实现方式仅仅说明了与第一种实现方式的不同之处，其他方面可以参考第一种实现方式的说明。

由以上可知，本实现方式中，查找包含关键点的画布元素时，并非是将全部的画布元素均与关键点进行比对，进行比对的画布元素个数会随着执行次数的增多而减少，该种实现方式效率更高。

在实施中，图1所示的画布元素处理方法实施例中，步骤S102确定出的目标画布元素可以是依次存储在队列中的。相应地，步骤S103触发预设画布元素处理模块依次处理至少一个目标画布元素的具体实现方式可以包括以下步骤B1，或者，包括步骤B2。

步骤B1：依次从队列的队首取出目标画布元素，每取出一个目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素。

步骤B2：依次从队列的队尾取出目标画布元素，每取出一个目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素。

简单来讲，可以根据用户的实际需求，依次从队首取目标画布元素进行处理，或者，也可以是从队尾取目标画布元素进行处理。

例如，用户想要实现，越先划过的画布元素越先被处理，则可以从队首取出目标画布元素；若用户想要，越后划过的画布元素越后被处理，则可以从队尾取出画布元素。

以下对本申请提供的画布元素处理装置进行介绍，需要说明的是，有关画布元素处理装置的说明可以参照上文的画布处理方法，以下并不赘述。

参见图5，其示出了画布元素处理装置实施例的结构。如图5所示，该装置实施例可以具体包括：画布元素显示模块501、目标画布元素确定模块502及目标画布元素处理模块503；其中：

画布元素显示模块501，用于显示待处理画布，待处理画布中包含若干画布元素；

目标画布元素确定模块502，用于响应于用户在待处理画布上划出的线条轨迹，在若干画布元素中，确定线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素；

目标画布元素处理模块503，用于触发预设画布元素处理模块依次处理至少一个目标画布元素。

由以上可知，本申请提供的画布元素处理装置实施例，画布元素显示模块501显示包含若干画布元素的画布，若用户想要依次处理某个(些)画布元素时，可以在画布上进行划线操作，目标画布元素确定模块502根据用户划出的线条轨迹，确定出该线条轨迹依次经过的画布元素，目标画布元素处理模块503触发画布元素处理模块依次处理确定出的该些画布元素。与现有技术相比，本实施例并不需要用户依次对各个画布元素进行点击等操作，仅划出依次经过该些画布元素的线条即可，用户的操作更加简单，用户体验更好。

可选地，目标画布元素确定模块502具体包括：线条关键点确定子模块、以及目标画布元素确定子模块；其中：

线条关键点确定子模块，用于响应于用户在待处理画布上划出的线条轨迹，依据线条轨迹的延伸方向，依次确定线条轨迹中的至少一个关键点；

目标画布元素确定子模块，用于依据至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含关键点的目标画布元素；其中，各个目标画布元素互不相同。

具体地，目标画布元素确定子模块的一种实现方式可以包括：第一当前关键点确定单元、第一备选画布元素确定单元、第一目标画布元素确定单元、第一下一关键点确定单元、以及第二下一关键点确定单元；其中：

第一当前关键点确定单元，用于依据至少一个关键点的确定顺序，将首个关键点作为当前关键点；

第一备选画布元素确定单元，用于在若干画布元素中，查找显示区域内包含当前关键点的备选画布元素；

第一目标画布元素确定单元，用于若查找到、并且不存在由备选画布元素确定的目标画布元素，将备选画布元素确定为目标画布元素；

第一下一关键点确定单元，用于若查找到、并且存在由备选画布元素确定的目标画布元素，将下一关键点作为当前关键点，触发第一备选画布元素确定单元，直至最后一个关键点；

第二下一关键点确定单元，用于若未查找到，将下一关键点作为当前关键点，触发第一备选画布元素确定单元，直至最后一个关键点。

另外，目标画布元素确定子模块的第二种实现方式可以包括：第二当前关键点确定单元、第二备选画布元素确定单元、第二目标画布元素确定单元、以及第三下一关键点确定单元；其中：

第二当前关键点确定单元，用于依据至少一个关键点的确定顺序，将首个关键点作为当前关键点；

第二备选画布元素确定单元，用于在去除目标画布元素的画布元素中，查找显示区域内包含当前关键点的画布元素；若查找到，触发第二目标画布元素确定单元；若未查找到，触发第三下一关键点确定单元；

第二目标画布元素确定单元，用于将查找到的画布元素确定为目标画布元素；

第三下一关键点确定单元，用于将下一关键点作为当前关键点，触发第二备选画布元素确定单元，直至最后一个关键点。

在实施中，可选地，目标画布元素确定模块502确定出的目标画布元素依次存储在队列中；相应地，目标画布元素处理模块503可以具体包括：队首处理子模块，或者，队尾处理子模块；其中：

队首处理子模块，用于依次从队列的队首取出目标画布元素，每取出一个目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素；

队尾处理子模块，用于依次从队列的队尾取出目标画布元素，每取出一个目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素。

需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括上述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种画布元素处理方法，其特征在于，包括：

显示待处理画布，所述待处理画布中包含若干画布元素；

响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述若干画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素；

触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素。

2.根据权利要求1所述的画布元素处理方法，其特征在于，所述响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述多个画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素，包括：

响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，依据所述线条轨迹的延伸方向，依次确定所述线条轨迹中的至少一个关键点；

依据所述至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素；其中，各个所述目标画布元素互不相同。

3.根据权利要求2所述的画布元素处理方法，其特征在于，所述依据至少一个所述关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素，包括：

依据所述至少一个关键点的确定顺序，将首个所述关键点作为当前关键点；

在所述若干画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的备选画布元素；

若查找到、并且不存在由所述备选画布元素确定的目标画布元素，将所述备选画布元素确定为目标画布元素；

若查找到、并且存在由所述备选画布元素确定的目标画布元素，将下一关键点作为当前关键点，返回在所述若干画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的备选画布元素，直至最后一个所述关键点；

若未查找到，将下一关键点作为当前关键点，返回在所述若干画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的备选画布元素，直至最后一个所述关键点。

4.根据权利要求2所述的画布元素处理方法，其特征在于，所述依据所述至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素，包括：

依据所述至少一个关键点的确定顺序，将首个所述关键点作为当前关键点；

在去除目标画布元素的所述画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的画布元素；

若查找到，将查找到的所述画布元素确定为目标画布元素；

若未查找到，将下一关键点作为当前关键点，返回在去除目标画布元素的所述画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的画布元素，直至最后一个所述关键点。

5.根据权利要求1所述的画布元素处理方法，其特征在于，确定出的目标画布元素依次存储在队列中；

相应地，所述触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素，包括：

依次从所述队列的队首取出所述目标画布元素，每取出一个所述目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素；

或者，

依次从所述队列的队尾取出所述目标画布元素，每取出一个所述目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素。

6.一种画布元素处理装置，其特征在于，包括：

画布元素显示模块，用于显示待处理画布，所述待处理画布中包含若干画布元素；

目标画布元素确定模块，用于响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述若干画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素；

目标画布元素处理模块，用于触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素。

7.根据权利要求6所述的画布元素处理装置，其特征在于，所述目标画布元素确定模块包括：

线条关键点确定子模块，用于响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，依据所述线条轨迹的延伸方向，依次确定所述线条轨迹中的至少一个关键点；

目标画布元素确定子模块，用于依据所述至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素；其中，各个所述目标画布元素互不相同。

8.根据权利要求7所述的画布元素处理装置，其特征在于，所述目标画布元素确定子模块包括：

第一当前关键点确定单元，用于依据所述至少一个关键点的确定顺序，将首个所述关键点作为当前关键点；

第一备选画布元素确定单元，用于在所述若干画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的备选画布元素；

第一目标画布元素确定单元，用于若查找到、并且不存在由所述备选画布元素确定的目标画布元素，将所述备选画布元素确定为目标画布元素；

第一下一关键点确定单元，用于若查找到、并且存在由所述备选画布元素确定的目标画布元素，将下一关键点作为当前关键点，触发第一备选画布元素确定单元，直至最后一个所述关键点；

第二下一关键点确定单元，用于若未查找到，将下一关键点作为当前关键点，触发第一备选画布元素确定单元，直至最后一个所述关键点。

9.根据权利要求7所述的画布元素处理装置，其特征在于，所述目标画布元素确定子模块包括：

第二当前关键点确定单元，用于依据所述至少一个关键点的确定顺序，将首个所述关键点作为当前关键点；

第二备选画布元素确定单元，用于在去除目标画布元素的所述画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的画布元素；若查找到，触发第二目标画布元素确定单元；若未查找到，触发第三下一关键点确定单元；

第二目标画布元素确定单元，用于将查找到的所述画布元素确定为目标画布元素；

第三下一关键点确定单元，用于将下一关键点作为当前关键点，触发第二备选画布元素确定单元，直至最后一个所述关键点。

10.根据权利要求6所述的画布元素处理装置，其特征在于，目标画布元素确定模块确定出的目标画布元素依次存储在队列中；相应地，所述目标画布元素处理模块包括：队首处理子模块，或者，队尾处理子模块；其中：

队首处理子模块，用于依次从所述队列的队首取出所述目标画布元素，每取出一个所述目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素；

队尾处理子模块，用于依次从所述队列的队尾取出所述目标画布元素，每取出一个所述目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素。