CN105215555A - 激光打标装置 - Google Patents

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    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/007Marks, e.g. trade marks

Abstract

本发明涉及一种激光打标装置,包括:激光发射主体,所述激光发射主体内开设一发射腔,所述发射腔具有一开口;激光发射器,设置于所述发射腔内远离所述开口的一端,且所述激光发射器朝向所述开口;散热件,与所述激光发射主体连接;冷却通道,所述冷却通道贯穿于所述激光发射主体内部,且所述冷却通道设置有冷却阀门;所述激光发射主体还设置有辅助光源,所述辅助光源发射的光线与所述激光发射器发射的光线平行。通过冷却通道和散热件同时对激光发射主体进行散热,有效地疏导了激光发射器产生的热量,有效延长了激光打标装置的使用寿命。

Description

激光打标装置
技术领域
本发明涉及激光技术领域,特别是涉及激光打标装置。
背景技术
激光具有方向性强、亮度高、聚焦温度高的特点,常用在激光打标装置上,用于对产品的打标,激光打标具有效率高的特点,但由于激光的聚焦温度高的特性,往往激光发射器产生大量的热量,例如,大功率的激光打标装置,激光在工作时的能量极大,如不及时对热量进行疏导,将极大地减小激光打标装置的使用寿命。
发明内容
基于此,有必要针对现有大功率的激光打标装置在工作时发出的大量的热量,缺乏良好是散热手段的缺陷,提供一种散热效果较佳的激光打标装置,有利于延长激光打标装置的使用寿命。
一种激光打标装置,包括:
激光发射主体,所述激光发射主体内开设一发射腔,所述发射腔具有一开口;
激光发射器,设置于所述发射腔内远离所述开口的一端,且所述激光发射器朝向所述开口;
散热件,与所述激光发射主体连接;
冷却通道,所述冷却通道贯穿于所述激光发射主体内部,且所述冷却通道设置有冷却阀门;
所述激光发射主体还设置有辅助光源,所述辅助光源发射的光线与所述激光发射器发射的光线平行。
在一个实施例中,所述辅助光源设置于所述开口一侧。
在一个实施例中,所述辅助光源为圆形。
在一个实施例中,所述辅助光源为环形。
在一个实施例中,所述辅助光源绕所述开口设置。
在一个实施例中,所述辅助光源为红外光源。
在一个实施例中,所述辅助光源包括LED灯。
上述激光打标装置,通过冷却通道和散热件同时对激光发射主体进行散热,有效地疏导了激光发射器产生的热量,有效延长了激光打标装置的使用寿命。
附图说明
图1为本发明一个实施例的激光打标装置的剖面结构示意图;
图2为图1所示实施例沿A-A的剖面结构示意图;
图3为本发明另一个实施例的激光打标装置的剖面结构示意图;
图4为图3所示实施例沿B-B的剖面结构示意图;
图5为本发明另一个实施例的激光打标装置的剖面结构示意图;
图6为本发明另一个实施例的激光打标装置的剖面结构示意图;
图7为本发明另一个实施例的激光打标装置的剖面结构示意图;
图8为本发明另一个实施例的激光打标装置的一方向结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。
需要说明的是,当元件被称为“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
例如,一种激光打标装置,包括激光发射主体,所述激光发射主体内开设一发射腔,所述发射腔具有一开口;激光发射器,设置于所述发射腔内远离所述开口的一端,且所述激光发射器朝向所述开口;散热件,与所述激光发射主体连接;冷却通道,所述冷却通道贯穿于所述激光发射主体内部,且所述冷却通道设置有冷却阀门。
又如,如图1和图2所示,其为本发明一较佳实施例的激光打标装置10,包括:激光发射主体100、激光发射器120、散热件200和冷却通道300,所述激光发射主体100内开设一发射腔110,所述发射腔110具有一开口111,所述激光发射器120设置于所述发射腔110内远离所述开口111的一端,且所述激光发射器120朝向所述开口111,所述散热件200与所述激光发射主体100连接,所述冷却通道300贯穿于所述激光发射主体100内部,且所述冷却通道300设置有冷却阀门350,所述冷却通道300通过冷却阀门350与外部连通,当所述冷却阀门350开启时,所述冷却通道300将所述激光发射主体100的热量迅速散发至外部,使得所述激光发射主体100的热量可以迅速散发,且所述散热件200也可以辅助所述激光发射主体100的热量散发,通过冷却通道300和散热件200同时对激光发射主体100进行散热,有效地疏导了激光发射器120产生的热量,有效延长了激光打标装置10的使用寿命。
例如,请参见图1,所述冷却通道300包括第一通道310和第二通道320,所述第一通道310和所述第二通道320连通,例如,所述第一通道310和所述第二通道320形成一个夹角,犹如,该夹角为锐角、直角或钝角;例如,所述第一通道310和所述第二通道320内流通设置有冷却介质,例如所述冷却介质为冷却流体,例如,所述冷却流体为冷却液体,例如,所述冷却液体为液氮,所述液氮流通与所述第一通道310与所述第二通道320内,使得所述激光发射主体100的热量可以被迅速带走,例如,所述第一通道310与所述第二通道320分别设置有第一阀门351和第二阀门352,当所述第一阀门351和所述第二阀门352同时开启,所述冷却液体以所述第一阀门351为入口,以所述第二阀门352为出口,所述冷却液体以此流经所述第一通道310和所述第二通道320,并流动至所述激光发射主体100的外部,有效地带走所述激光发射主体100的热量。
虽然所述冷却通道300可以将所述激光发射主体100的大部分热量吸收并带走,但所述激光发射主体100仍残留部分热量,如不及时将这部分热量疏导,热量将积累并造成所述发射腔110内温度急剧上升,为了进一步有效吸收并疏导所述散热主体的热量,如图3和图4所示,所述散热件200为散热环210,所述散热环210绕设并抵接于所述激光发射主体100外表面,例如,所述散热环210为金属散热环,所述散热环210的内表面与所述激光发射主体100的外表面抵接,例如,所述散热环210为铜散热环,铜具有良好的导热性,可以快速将所述激光发射主体100的热量吸收,并散发至外部,且所述散热环210充分与所述激光发射主体100抵接,与所述激光发射主体100的接触面积大,使得所述散热环210可以充分、高效地吸收所述激光发射主体100的热量,
为了提高所述散热环210的散热能力,增加散热环210的表面,例如,请再次参见图3和图4,所述散热环210设置有多道散热槽211,所述散热槽211使得所述散热环210的厚度减小,以使得所述激光发射主体100的热量更容易传递到外部,此外,所述散热槽211还增加了所述散热环210的表面积,使得所述散热环210与空气的接触面积增加,从而使得散热效果更佳。
例如,所述散热槽211沿所述散热环210的圆周方向设置于所述散热环210的外表面,即所述散热槽211与所述散热环210同轴设置,又如,所述散热槽211沿所述散热环210的轴向设置于所述散热环210的外表面,例如,所述散热槽211的宽度相等,例如,多道所述散热槽211之间的间距相等设置,这样,使得所述激光发射主体100的热量可以均匀地散发;又如,多道所述散热槽211之间的间距相异设置,且所述散热槽211的宽度相异设置,应该理解的是所述激光发射器120在使用过程中,由于打标目标的位置不同,使得所述激光发射器120的偏向有所不同,这样,在所述发射腔110内产生的热量也将不均匀,从而使得所述激光发射主体100的热量分布不均匀,为了使得所述激光发射主体100的不均匀分布的热量可以较为均匀地散发,因此所述散热槽211不均匀地分布在所述散热环210表面,使得所述激光发射主体100的热量可以较为均匀地由所述散热环210散发至外部,为了进一步使得所述散热环210散热效果更为均匀,例如,所述散热环210转动设置于所述激光发射主体100的外表面,例如,如图5所示,所述激光发射主体100设置有沿所述激光发射主体100的圆周设置的环形的导向部,所述导向部设置有T形部101,所述散热环210设置有凹槽,所述凹槽设置有凹合部201,所述凹槽的凹合部201扣合于所述导向部的T形部101,且所述凹槽可沿所述导向部滑动,从而使得所述散热环210可以沿所述激光发射主体100的圆周表面转动,转动中所述散热环210的内表面与所述激光发射主体100的外表面抵接,这样,所述散热环210可以根据所述激光发射主体100外表面的温度分布而转动至相应位置,使得所述散热环210可以均匀地将所述激光发射主体100的热量吸收并散发至外部,例如,所述激光发射主体100连接有多个温度感应器,通过多个所述温度感应器的探测的温度值可以直接获取到所述激光发射主体100的温度分布,从而将所述散热环210转动到合适的位置,以此均匀地将所述激光发射主体100的热量散发至外部。
在另外的实施例中,所述散热件200为散热翅片,所述散热翅片竖直设置于所述激光发射主体100的外表面,所述散热翅片具有较大的表面积,有利于将热量迅速散发至外部,例如,所述激光发射主体100的外表面设置有多个散热翅片,例如,多个散热翅片均匀地设置在所述激光发射主体100的外表面,例如,所述散热翅片设置为波浪形,波浪形的散热翅片具有较大的表面积,有利于热量的散发,另一方面,波浪形的散热翅片可以提高空气的流通速度,使得散热效率更高,例如,所述散热翅片的边缘设置有锯齿部,所述锯齿部使得所述散热翅片的面积增大,有利于热量的散发。
为了提高所述激光发射器120的发射的激光更为集中,提高聚焦效率,本发明激光打标装置10还包括聚焦器,设置于所述发射腔110内靠近所述开口111的一端,且所述聚焦器与所述激光发射器120和所述开口111的几何中心位于同一直线上,当所述激光发射器120发射激光时,激光依次通过所述聚焦器和所述开口111射出,所述聚焦器使得激光射出后方向性更强,更为集中,提高了打标效率,这样,可以有效缩短单次的打标时间,以使得所述激光发射器120的发热量减小。
例如,为了使得所述激光发射器120所发射的激光更为集中,不易散发,例如,所述发射腔110为圆筒形,例如,所述圆筒形发射腔110的内壁设置为光滑表面,圆筒形的发射腔110有利于激光更为集中的沿所述发射腔110的轴向由一端向另一端发射,避免光线的发散,使得所述激光发射器120所发射的激光更为集中。
为了使得所述激光发射器120的方向更为准确,例如,如图7所示,所述聚焦器包括反射镜400,所述反射镜400设置于所述发射腔110内远离所述开口111的一端,例如,所述聚焦器包括两个所述反射镜400,两个所述反射镜400之间的距离沿所述发射腔110的轴向由内至外逐渐减小,或者说,两个所述反射镜400分别倾斜于所述发射腔110的内壁,沿所述发射腔110的轴向由内至外倾斜,这样,所述反射镜400可以矫正所述激光发射器120发射的激光,使得所述激光发射器120的激光方向更为准确,例如,所述聚焦器包括多个所述反射镜400,多个所述反射镜400之间的距离沿所述发射腔110的轴向由内至外逐渐减小,这样,通过多个反射镜400可以有效矫正所述激光发射器120发射的激光的方向,使得所述激光发射器120发射的激光的方向更为准确,更为集中。
为了更好的聚焦激光,例如,如图3所示,所述聚焦器包括凸透镜500,所述凸透镜500设置于所述发射腔110内远离所述开口111的一端,例如,所述凸透镜500为圆形凸透镜500,例如,所述凸透镜500平面垂直于所述发射腔110的轴向,这样,所述发射器发射的激光在穿透所述凸透镜500时,产生折射,原来发散的光经过折射,从而聚焦在一条直线上,使得所述激光更为集中,从而提高打标效率,可以有效缩短单次的打标时间,以使得所述激光发射器120的发热量减小。
为了进一步提高激光的打标精度,使得激光发射方向更为集中,例如,请再次参见图7,所述发射腔110的内壁设置有反射层112,所述反射层112可以使得在穿过所述发射腔110的激光更为集中,可有效避免漫反射造成能量损耗;为了避免所述反射层112受热而形变,例如,所述反射层112的外侧设置有导热层113,例如,所述导热层113为金属导热层,例如,所述金属导热层为铜导热层,例如,所述金属导热层为铜钛合金导热层,所述导热层113具有极强的耐热性,且具有良好的吸热、导热和散热能力,可以快速吸收所述反射层112的热量,并通过所述散热环210将热量快速散发至外部,避免所述反射层112受热产生形变进而使得激光产生漫反射。
为了进一步避免所述激光发散,使得所述激光发射器120发射的激光更为集中,例如,请参见图5,所述开口111设置有倾斜部114,例如,所述倾斜部114的直径由内向外逐渐减小,应该理解的是,所述倾斜部114与所述发射腔110的内壁之间的夹角即所述倾斜部114的倾角不宜过大,所述倾斜部114的倾角过大,则容易阻挡激光,造成能量损失,如果所述倾斜部114的倾角太小,则对激光发散的限制太小,无法有效避免激光发散,例如,所述倾斜部114与所述发射腔110的内壁之间的夹角为25°~40°,优选地,所述倾斜部114与所述发射腔110的内壁之间的夹角为28°~36°,优选地,优选地,所述倾斜部114与所述发射腔110的内壁之间的夹角为32°,这样,一方面所述倾斜部114对激光的阻挡更小,另一方面,对激光形成有效的导向,可以避免激光发散。例如,所述反射镜400贴合于所述倾斜部114,即所述反射镜400的倾角与所述倾斜部114相同,使得所述反射镜400可以更好的反射、校正激光的传播方向。
在另外的实施例中,如图6所示,所述倾斜部114的直径由内向外逐渐增大,所述倾斜部114向外呈喇叭状扩张,虽然向外扩张的倾斜部114无法有效避免激光发散,但却有利于散热,由于激光是从所述开口111射出所述发射腔110,因此,所述开口111的温度较所述发射腔110的平均温度要高,如果所述倾斜部114对激光的阻挡太大,则容易造成倾斜部114受热过度,有可能引起所述倾斜部114受损,而向外扩张的倾斜部114虽然无法对激光的传播发散进行限制,但却有利于所述开口111的热量的散发。
例如,为了限制激光的发散,并降低所述开口111的温度,例如,所述开口111设置有倾斜部114,且所述倾斜部114的直径由内向外逐渐减小,所述倾斜部114圆周外侧设置有隔热圈,例如,所述隔热圈为金属隔热圈,例如,所述隔热圈为铜隔热圈,所述隔热圈有效提高了开口111的耐热性,同时有利于开口111的热量的散发,降低开口111的温度,为了进一步提高所述隔热圈的耐热性,所述隔热圈为铜钛合金隔热圈,例如,所述倾斜部114为铜钛合金制成,铜钛合金的隔热圈的倾斜部114一方面有利于散热,有利于将开口111的热量散发,降低开口111的温度,另一方面具有极强的耐热性,延长所述激光发射主体100的使用寿命。
在打标前,需要对打标位置进行校准,为了提高校准效率,避免在校准时激光长时间直接照射,引起产品的温度过高,请结合图1和图2,所述激光发射主体100还设置有辅助光源600,所述辅助光源600发射的光线与所述激光发射器120发射的光线平行,在校准时,所述激光发射器120停止工作,所述辅助光源600工作,所述辅助光源600照射在产品上,使得打标人员可以根据所述辅助光源600的位置校准所述激光发射主体100的方向,使得所述激光发射器120对齐需要打标的位置,例如,所述辅助光源600设置于所述开口111一侧,例如,如图8所示,所述辅助光源600为圆形,这样,所述辅助光源600照射后形成的区域为一个圆点,通过所述辅助光源600的照射点可以计算出所述激光发射器120发射的位置;又如,如图2所示,所述辅助光源600为环形,例如,所述辅助光源600绕所述开口111设置,这样,所述辅助光源600照射的区域为环形,而所述激光发射器120照射的位置则位于所述辅助光源600照射的环形区域内,使得校准位置更为精确,
例如,为了提高所述辅助光源600的精度,例如,所述辅助光源600为红外光源,红外光线具有穿透性强,发热量小的特点,其热量不至于对校准的产品造成影响,由于红外光线为不可见光,校准人员可通过红外检测设备检测到所述红外光源的校准位置,为了让校准人员通过肉眼直接观测到校准位置,例如,所述辅助光源600包括LED灯,LED灯发出的可见光使得校准人员可通过肉眼直接观测到校准位置,大大提高了校准效率。例如,所述辅助光源600包括红外光源和LED灯,校准人员可以控制红外光源或LED灯单独工作,也可以同时工作,红外光源精度更高,而LED灯的光则有利于提高校准效率。
为了提高所述冷却通道300的冷却效率,例如,如图3所示,本发明的激光打标装置10还包括冷却发生装置700,所述冷却发生装置700通过所述冷却阀门350与所述冷却通道300连通,例如,所述冷却发生装置700通过所述第一阀门351与所述第一通道310连通,并通过所述第二阀门352所述第二通道320连通,所述冷却发生装置700用于冷却所述冷却通道300内的冷却介质,例如,所述冷却发生装置700为制冷装置,例如,所述制冷装置包括依次连接的冷凝器、节流阀、蒸发器和压缩机,所冷却通道300内的冷却介质通过所述蒸发器,冷却介质的热量被所述蒸发器大量吸收,使得所述冷却介质温度下降,所述冷却发生装置700使所述冷却介质冷却后,冷却介质经所述第一阀门351进入所述第一通道310,所述冷却介质在所述第一通道310与所述第二通道320内流通,吸收所述激光发射主体100的热量,随后,经所述第二阀门352再次进入所述冷却发生装置700,使得所述冷却介质的温度降低,以此实现冷却介质的循环流通和热量交换,进一步提高了冷却效率。
为了进一步提高所述冷却通道300的冷却效率,如图1、图3、图5和图6所示,本发明的激光打标装置10还包括冷却环道330,所述冷却环道330与所述冷却通道300连通,且所述冷却环道330环设于所述发射腔110,例如,所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320依次连通,这样,经所述冷却发生装置700冷却后的冷却介质通过所述第一通道310,进入所述冷却环道330后,在冷却环道330与所述激光发射主体100充分接触,所述冷却介质增加了与所述激光发射主体100的接触面积,充分与所述激光发射主体100进行热交换,提高冷却效率;例如,所述冷却环道330与所述发射腔110同轴设置,且所述冷却环道330直径大于所述发射腔110,这样使得所述冷却环道330可以充分包覆在所述发射腔110外侧,使得所述发射腔110的热量可以均匀地传递到所述冷却环道330。
为了进一步提高所述冷却通道300的冷却效率,例如,如图5所示,所述冷却通道300设置有多个U形通道340,所述U形通道340的两端与所述冷却通道300连通,例如,所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320分别设置有多个U形通道340,所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320的冷却介质分别可以经所述U形通道340的一端流入所述U形通道340,并经所述U形通道340的另一端再次分别流入所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320,这样可以延长冷却介质的活动行程,增加冷却介质与所述激光发射主体100的接触面积,从而进一步提高所述冷却通道300的冷却效率。
应该理解的是,所述U形通道340的直径不宜过大,所述U形通道340的直径过大则使得所述激光发射主体100内部空心部分比例增大,使得所述激光发射主体100的结构变得不稳定,而所述U形通道340的直径的过小则不利于冷却介质在U形通道340的流通,容易造成堵塞,降低冷却效率,所述U形通道340的直径与所述冷却通道300的直径之比为1:8,这样,所述U形通道340的直径可以避免对所述激光发射主体100的机构造成影响,另一方面,可以使得所述冷却介质可以顺畅地在所述U形通道340内流通,提高了冷却效率。
值得一提的是,由于冷却介质经所述冷却发生装置700冷却后,温度可以大幅度降低,但温度过低的冷却介质将对所述激光发射器120的工作效率造成影响,因此需要控制所述冷却发生装置700的工作功率,以调节冷却介质的冷却温度,但频繁调节所述冷却发生装置700的工作功率,有可能造成所述冷却发生装置700的使用寿命下降或工作效率降低,为了避免对所述冷却发生装置700的使用寿命造成影响,例如,本发明还包括气缸(图未示),所述冷却阀门350与气缸连接,通过所述气缸控制所述冷却阀门350的开启和关闭,以实现冷却介质在所述冷却通道300的流通速度的控制,从而减小调整所述冷却发生装置700的频率,延长所述冷却发生装置700的使用寿命,另一方面,通过控制冷却介质在所述冷却通道300的流通速度,从而实现了对所述冷却通道300内冷却介质的温度的控制,避免了温度过低导致所述激光发射器120的工作效率的下降;又如,本发明还包括电磁阀(图未示),所述冷却阀门350与所述电磁阀连接,例如,当所述激光发射主体100的温度低于预设阈值时,所述电磁阀工作,使得所述冷却阀门350闭合,使得冷却介质停止流通,避免所述冷却通道300内的冷却介质温度过低,对所述激光发射器120造成影响,当所述激光发射主体100的温度高于预设阈值时,所述电磁阀驱动所述冷却阀门350开启,使得冷却介质流通,以此降低所述冷却通道300内的冷却介质的温度,使得所述激光发射主体100的热量可以快速散发。
为了使得所述激光发射器120更为稳固,从而使得打标精度更高,如图1、图3和图5所示,本发明的激光打标装置10还包括支撑座116,所述支撑座116固定设置于所述发射腔110内,且与所述激光发射器120固定连接,例如,所述支撑座116的第一端固定连接于所述发射腔110的一端,所述支撑座116的第二端与所述激光发射器120固定连接,通过所述支撑座116的固定,使得所述激光发射器120更为稳固,避免在所述激光发射主体100在运动时,从而有效避免所述激光发射器120产生晃动而导致激光偏移。
例如,如图1所示,所述支撑座116的第二端设置有U形部116a,所述激光发射器120固定于所述U形部116a内;又如,如图3所示,所述支撑座116的第二端设置有V形部116b,所述激光发射器120固定于所述V形部116b内;又如,如图5至图7所示,所述支撑座116的第二端设置有凹部116c,所述激光发射器120固定于所述凹部116c内,通过所述支撑座116的第二端的U形部116a或V形部116b或凹部116c固定所述激光发射器120的底部和两侧,使得所述激光发射器120更为稳固,有效避免所述激光发射器120在所述激光发射主体100在运动时产生晃动而导致激光偏移,以此提高打标精度。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (7)

1.一种激光打标装置,其特征在于,包括:
激光发射主体,所述激光发射主体内开设一发射腔,所述发射腔具有一开口;
激光发射器,设置于所述发射腔内远离所述开口的一端,且所述激光发射器朝向所述开口;
散热件,与所述激光发射主体连接;
冷却通道,所述冷却通道贯穿于所述激光发射主体内部,且所述冷却通道设置有冷却阀门;
所述激光发射主体还设置有辅助光源,所述辅助光源发射的光线与所述激光发射器发射的光线平行。
2.根据权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,所述辅助光源设置于所述开口一侧。
3.根据权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,所述辅助光源为圆形。
4.根据权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,所述辅助光源为环形。
5.根据权利要求4所述的激光打标装置,其特征在于,所述辅助光源绕所述开口设置。
6.根据权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,所述辅助光源为红外光源。
7.根据权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,所述辅助光源包括LED灯。
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