CN105159037A - 一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法 - Google Patents

一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105159037A
CN105159037A CN201510645032.1A CN201510645032A CN105159037A CN 105159037 A CN105159037 A CN 105159037A CN 201510645032 A CN201510645032 A CN 201510645032A CN 105159037 A CN105159037 A CN 105159037A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ccd
angle
pattern generator
movement platform
precision movement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201510645032.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105159037B (zh
Inventor
陆敏婷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Xinqi Microelectronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Hefei Xinqi Microelectronic Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Xinqi Microelectronic Equipment Co Ltd filed Critical Hefei Xinqi Microelectronic Equipment Co Ltd
Priority to CN201510645032.1A priority Critical patent/CN105159037B/zh
Publication of CN105159037A publication Critical patent/CN105159037A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105159037B publication Critical patent/CN105159037B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明提供一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,包括:分别计算出精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向、精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角;分别计算出图形发生器宽度方向与CCD宽度方向、图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角;别计算出图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向、图形发生器高度方向与精密运动平台Y轴方向之间的夹角。本发明在标定过程中,首先借助精密运动平台计算CCD与精密运动平台的夹角,再通过图形发生器投放图形并使用CCD进行观察,最终结合机器视觉的方式计算出直写式光刻机图形发生器与精密运动平台X轴、Y轴方向之间的夹角,易于实现,标定精度高。

Description

一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法
技术领域
本发明涉及直写式光刻机控制技术领域,具体是一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法。
背景技术
光刻技术是用于在基底表面上印刷具有特征的构图。这样的基底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的芯片。
在直写曝光过程中,基底放置在精密运动平台的基底台上,通过处在光刻设备内的曝光装置和精密运动平台的运动,将特征构图投射到基底表面的指定位置,为了实现高精度曝光,对于图形发生器与精密运动平台X轴、Y轴方向之间角度的确定尤为重要。
对于直写式光刻机,图形发生器与精密运动平台之间会有一个固定的角度,如果该角度实际值与理论值之间存在偏差,则需要对偏差角度进行补偿。所以,如何对图形发生器与精密运动平台X轴、Y轴方向之间的角度进行标定就成了直写式光刻机技术中的一个重要研究方向。
发明内容
本发明的目的在于提供一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,以解决直写式光刻机图形发生器与精密运动平台正交坐标系X轴、Y轴方向之间的角度不易标定的问题。
本发明的技术方案为:
一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,包括以下步骤:
(1)将带有标记图形的掩膜版放置在基底上,所述基底安装在精密运动平台上;
(2)将所述标记图形置于CCD视场内,所述CCD平面与精密运动平台X轴、Y轴所组成的平面在空间上平行;
(3)将精密运动平台分别沿X轴、Y轴方向移动一段固定距离,并使移动后的标记图形仍处于CCD视场之内;
(4)分别计算出精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向、精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角;
(5)制作两个与图形发生器视场同等大小的单色位图,两个单色位图中均包含两个标记图形,其中一个单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器宽度方向平行,另一个单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器高度方向平行;所述图形发生器平面与精密运动平台X轴、Y轴所组成的平面在空间上平行;
(6)分别将制作的两个单色位图发送到图形发生器中,并在基底上放置能够反射照明光源的掩膜版;
(7)分别计算出图形发生器宽度方向与CCD宽度方向、图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角;
(8)采用以下公式,分别计算出图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向、图形发生器高度方向与精密运动平台Y轴方向之间的夹角:
θx=θ1x2x
θy=θ1y2y
其中,θx表示图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向之间的夹角,θ1x表示精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向之间的夹角,θ2x表示图形发生器宽度方向与CCD宽度方向之间的夹角;
θy表示图形发生器高度方向与精密运动平台Y轴方向之间的夹角,θ1y表示精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角,θ2y表示图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角。
所述的直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,步骤(4)中,所述精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向、精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角,采用以下公式计算:
θ 1 x = tan - 1 ( | y w 2 - y w 1 | | x w 2 - x w 1 | )
θ 1 y = tan - 1 ( | x h 2 - x h 1 | | y h 2 - y h 1 | )
其中,θ1x表示精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向之间的夹角,也即当精密运动平台沿X轴方向移动时,CCD捕获的图像中标记图形所移动的路线与CCD宽度方向之间的夹角,(xw1,yw1)、(xw2,yw2)分别表示此时CCD捕获的图像中标记图形的中心点移动前后在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标;
θ1y表示精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角,也即当精密运动平台沿Y轴方向移动时,CCD捕获的图像中标记图形所移动的路线与CCD高度方向之间的夹角,(xh1,yh1)、(xh2,yh2)分别表示此时CCD捕获的图像中标记图形的中心点移动前后在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标。
所述的直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,步骤(7)中,所述图形发生器宽度方向与CCD宽度方向、图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角,采用以下公式计算:
θ 2 x = tan - 1 ( | y w b - y w a | | x w b - x w a | )
θ 2 y = tan - 1 ( | x h b - x h a | | y h b - y h a | )
其中,θ2x表示图形发生器宽度方向与CCD宽度方向之间的夹角,也即当单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器宽度方向平行时,CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点连线与CCD宽度方向之间的夹角,(xwa,ywa)、(xwb,ywb)分别表示此时CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标;
θ2y表示图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角,也即当单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器高度方向平行时,CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点连线与CCD高度方向之间的夹角,(xha,yha)、(xhb,yhb)分别表示此时CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标。
由上述技术方案可知,本发明在标定过程中,首先借助精密运动平台计算CCD与精密运动平台的夹角,再通过图形发生器投放图形并使用CCD进行观察,最终结合机器视觉的方式计算出直写式光刻机图形发生器与精密运动平台X轴、Y轴方向之间的夹角,易于实现,标定精度高。
附图说明
图1是本发明中投影光路以及CCD观察光路模型图;
图2是本发明中图形发生器、平台坐标系以及CCD相对角度关系图;
图3是本发明中对CCD宽度方向与平台X轴方向夹角的标定示意图;
图4是本发明中对图形发生器宽度方向与CCD宽度方向夹角的标定示意图;
图5是应用本发明的直写式光刻系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例进一步说明本发明。
如图1~图4所示,一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,包括以下步骤:
S1、选用带有标记图形(Mark1)的掩膜版(Mask1)放置在安装于精密运动平台上的基底上,并保持固定。
S2、确保可以从CCD视场观察到标记图形(Mark1)。
S3、精密运动平台分别沿X轴、Y轴方向移动一段固定距离,确保移动后的标记图形(Mark1)仍然在CCD视场之内。
S4、对CCD视场内的标记图形(Mark1),通过机器视觉的方式计算出标记图形(Mark1)所移动的路线与CCD宽度方向以及CCD高度方向之间的夹角:
θ 1 x = tan - 1 ( | y w 2 - y w 1 | | x w 2 - x w 1 | )
θ 1 y = tan - 1 ( | x h 2 - x h 1 | | y h 2 - y h 1 | )
其中,θ1x表示当精密运动平台沿X轴方向移动时,CCD捕获的图像中标记图形(Mark1)所移动的路线与CCD宽度方向之间的夹角,也即精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向之间的夹角,(xw1,yw1)、(xw2,yw2)分别表示此时CCD捕获的图像中标记图形(Mark1)的中心点移动前后在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标;
θ1y表示当精密运动平台沿Y轴方向移动时,CCD捕获的图像中标记图形(Mark1)所移动的路线与CCD高度方向之间的夹角,也即精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角,(xh1,yh1)、(xh2,yh2)分别表示此时CCD捕获的图像中标记图形(Mark1)的中心点移动前后在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标。
S5、制作两个与图形发生器视场同等大小的单色位图,制作的两个单色位图中均包含两个标记图形(Mark2),其中一个单色位图中的两个标记图形(Mark2)的中心点连线与图形发生器宽度方向平行,另一个单色位图中的两个标记图形(Mark2)的中心点连线与图形发生器高度方向平行。
S6、分别将步骤S5中制作的单色位图发送到图形发生器中,在安装于精密运动平台上的基底上放置可正常反射照明光源的掩膜版(Mask2)。
S7、通过CCD所捕获的图像,并结合机器视觉可以计算出图形发生器所投影单色位图中的两个标记图形(Mark2)的中心点连线在CCD视场中与CCD宽度方向以及CCD高度方向之间的夹角:
θ 2 x = tan - 1 ( | y w b - y w a | | x w b - x w a | )
θ 2 y = tan - 1 ( | x h b - x h a | | y h b - y h a | )
其中,θ2x表示当单色位图中的两个标记图形(Mark2)的中心点连线与图形发生器宽度方向平行时,CCD捕获的图像中两个标记图形(Mark2)的中心点连线与CCD宽度方向之间的夹角,也即图形发生器宽度方向与CCD宽度方向之间的夹角,(xwa,ywa)、(xwb,ywb)分别表示此时CCD捕获的图像中两个标记图形(Mark2)的中心点在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标;
θ2y表示当单色位图中的两个标记图形(Mark2)的中心点连线与图形发生器高度方向平行时,CCD捕获的图像中两个标记图形(Mark2)的中心点连线与CCD高度方向之间的夹角,也即图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角,(xha,yha)、(xhb,yhb)分别表示此时CCD捕获的图像中两个标记图形(Mark2)的中心点在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标。
S8、根据步骤S4、S7的计算结果,可采用以下公式计算出图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向、图形发生器高度方向与精密运动平台Y轴方向之间的夹角:
θx=θ1x2x
θy=θ1y2y
其中,θx表示图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向之间的夹角,θy表示图形发生器高度方向与精密运动平台Y轴方向之间的夹角。
本发明中,图像识别以及机器视觉软件可以使用任何编程工具进行开发,主要就是对CCD所捕获的图像进行识别以及图像中标记图形的定位。
图形发生器采用数字微镜器件DMD,包括一个可独立寻址和控制的像素阵列,每个像素可以对透射、反射或衍射的光线产生包括相位、灰度方向或开关状态的调制,其像素点的物理大小确定并已知。
精密运动平台的X轴与Y轴垂直,可由软件驱动实现纳米级定位精度。图形发生器平面与精密运动平台的X轴、Y轴所组成的平面在空间上平行。CCD平面与精密运动平台的X轴、Y轴所组成的平面在空间上平行。精密运动平台的运动精度必须满足对夹角精度测量的要求。
本发明可应用于如图5所示的光刻系统中,包括曝光光源1、图形发生器3、安装于精密运动平台6上的基底7,曝光光源1与图形发生器3之间安装有光学集光系统2,图形发生器3与基底7之间设有倾斜的分束器4和可更换的缩影物镜5,分束器4的反射光再经反射镜8进入CCD相机9,CCD相机9外接计算机10。
以上所述实施方式仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述,并非对本发明的范围进行限定,在不脱离本发明设计精神的前提下,本领域普通技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进,均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。

Claims (3)

1.一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将带有标记图形的掩膜版放置在基底上,所述基底安装在精密运动平台上;
(2)将所述标记图形置于CCD视场内,所述CCD平面与精密运动平台X轴、Y轴所组成的平面在空间上平行;
(3)将精密运动平台分别沿X轴、Y轴方向移动一段固定距离,并使移动后的标记图形仍处于CCD视场之内;
(4)分别计算出精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向、精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角;
(5)制作两个与图形发生器视场同等大小的单色位图,两个单色位图中均包含两个标记图形,其中一个单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器宽度方向平行,另一个单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器高度方向平行;所述图形发生器平面与精密运动平台X轴、Y轴所组成的平面在空间上平行;
(6)分别将制作的两个单色位图发送到图形发生器中,并在基底上放置能够反射照明光源的掩膜版;
(7)分别计算出图形发生器宽度方向与CCD宽度方向、图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角;
(8)采用以下公式,分别计算出图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向、图形发生器高度方向与精密运动平台Y轴方向之间的夹角:
θx=θ1x2x
θy=θ1y2y
其中,θx表示图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向之间的夹角,θ1x表示精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向之间的夹角,θ2x表示图形发生器宽度方向与CCD宽度方向之间的夹角;
θy表示图形发生器高度方向与精密运动平台Y轴方向之间的夹角,θ1y表示精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角,θ2y表示图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角。
2.根据权利要求1所述的直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,其特征在于,步骤(4)中,所述精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向、精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角,采用以下公式计算:
θ 1 x = tan - 1 ( | y w 2 - y w 1 | | x w 2 - x w 1 | )
θ 1 y = tan - 1 = ( | x h 2 - x h 1 | | y h 2 - y h 1 | )
其中,θ1x表示精密运动平台X轴方向与CCD宽度方向之间的夹角,也即当精密运动平台沿X轴方向移动时,CCD捕获的图像中标记图形所移动的路线与CCD宽度方向之间的夹角,(xw1,yw1)、(xw2,yw2)分别表示此时CCD捕获的图像中标记图形的中心点移动前后在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标;
θ1y表示精密运动平台Y轴方向与CCD高度方向之间的夹角,也即当精密运动平台沿Y轴方向移动时,CCD捕获的图像中标记图形所移动的路线与CCD高度方向之间的夹角,(xh1,yh1)、(xh2,yh2)分别表示此时CCD捕获的图像中标记图形的中心点移动前后在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标。
3.根据权利要求1所述的直写式光刻机图形发生器的角度标定方法,其特征在于,步骤(7)中,所述图形发生器宽度方向与CCD宽度方向、图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角,采用以下公式计算:
θ 2 x = tan - 1 ( | y w b - y w a | | x w b - x w a | )
θ 2 y = tan - 1 ( | x h b - x h a | | y h b - y h a | )
其中,θ2x表示图形发生器宽度方向与CCD宽度方向之间的夹角,也即当单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器宽度方向平行时,CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点连线与CCD宽度方向之间的夹角,(xwa,ywa)、(xwb,ywb)分别表示此时CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标;
θ2y表示图形发生器高度方向与CCD高度方向之间的夹角,也即当单色位图中的两个标记图形的中心点连线与图形发生器高度方向平行时,CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点连线与CCD高度方向之间的夹角,(xha,yha)、(xhb,yhb)分别表示此时CCD捕获的图像中两个标记图形的中心点在精密运动平台正交坐标系内的位置坐标。
CN201510645032.1A 2015-09-30 2015-09-30 一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法 Active CN105159037B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510645032.1A CN105159037B (zh) 2015-09-30 2015-09-30 一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510645032.1A CN105159037B (zh) 2015-09-30 2015-09-30 一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105159037A true CN105159037A (zh) 2015-12-16
CN105159037B CN105159037B (zh) 2017-06-30

Family

ID=54799926

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510645032.1A Active CN105159037B (zh) 2015-09-30 2015-09-30 一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105159037B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106327491A (zh) * 2016-08-23 2017-01-11 西安电子科技大学 基于fpga的无掩膜光刻pcb板校正系统及方法
CN106502058A (zh) * 2016-11-25 2017-03-15 天津津芯微电子科技有限公司 标定方法及标定装置
CN109270804A (zh) * 2018-11-14 2019-01-25 江苏友迪激光科技有限公司 倾斜直写曝光机镜头倍率以及偏转角度的标定调整方法
CN114283207A (zh) * 2021-12-27 2022-04-05 昆山福拉特自动化设备有限公司 一种用于柔性电路板FPC与屏体cell对位压接的标定方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007102094A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 V Technology Co Ltd 露光装置
CN101344729A (zh) * 2008-07-31 2009-01-14 上海微电子装备有限公司 测量掩模台相对于工件台旋转度的方法
CN101526753A (zh) * 2009-01-13 2009-09-09 上海微电子装备有限公司 工件台坐标系参数测量方法
US20140072904A1 (en) * 2012-09-13 2014-03-13 Nippon Mektron, Ltd. Photomask, photomask set, exposure apparatus and exposure method
CN104423146A (zh) * 2013-08-28 2015-03-18 Ap系统股份有限公司 用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007102094A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 V Technology Co Ltd 露光装置
CN101344729A (zh) * 2008-07-31 2009-01-14 上海微电子装备有限公司 测量掩模台相对于工件台旋转度的方法
CN101526753A (zh) * 2009-01-13 2009-09-09 上海微电子装备有限公司 工件台坐标系参数测量方法
US20140072904A1 (en) * 2012-09-13 2014-03-13 Nippon Mektron, Ltd. Photomask, photomask set, exposure apparatus and exposure method
CN104423146A (zh) * 2013-08-28 2015-03-18 Ap系统股份有限公司 用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106327491A (zh) * 2016-08-23 2017-01-11 西安电子科技大学 基于fpga的无掩膜光刻pcb板校正系统及方法
CN106502058A (zh) * 2016-11-25 2017-03-15 天津津芯微电子科技有限公司 标定方法及标定装置
CN106502058B (zh) * 2016-11-25 2018-07-27 天津津芯微电子科技有限公司 标定方法及标定装置
CN109270804A (zh) * 2018-11-14 2019-01-25 江苏友迪激光科技有限公司 倾斜直写曝光机镜头倍率以及偏转角度的标定调整方法
CN114283207A (zh) * 2021-12-27 2022-04-05 昆山福拉特自动化设备有限公司 一种用于柔性电路板FPC与屏体cell对位压接的标定方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN105159037B (zh) 2017-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102354086B (zh) 一种精密移动平台的正交性实时标定方法
CN102650819B (zh) 掩模板和掩膜板的定位方法
CN105159037A (zh) 一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法
CN101576715B (zh) 一种微观成像系统的标定方法
CN106353977B (zh) Ldi外层对位方法及装置
CN102103332B (zh) 高速数字扫描直写光刻装置
EP2839505B1 (en) Apparatus and method for synchronizing sample stage motion with a time delay integration charge-couple device in a semiconductor inspection tool
CN107329379B (zh) 双层对准装置和双层对准方法
CN105204297B (zh) 倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法
US10191394B2 (en) Distortion detection method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US11599032B2 (en) Dynamic generation of layout adaptive packaging
CN102681359A (zh) 同步信号触发扫描方式延迟时间测量方法
CN102385256A (zh) 曝光装置
CN102902164B (zh) 直写式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法
CN104007620B (zh) 一种新型高速数字扫描直写光刻装置
CN104793465A (zh) 投影曝光装置
WO2019218676A1 (zh) 数字化光刻系统和方法
TWI430052B (zh) A drawing system, a correction device for a tracing data, a method of manufacturing the substrate, a computer program product
KR102357577B1 (ko) 투영 노광 장치, 투영 노광 방법, 투영 노광 장치용 포토마스크, 및 기판의 제조 방법
CN105158877A (zh) 一种直写式光刻机缩影物镜的倍率标定方法
CN102314097A (zh) 一种空间光调制器中心与相机中心空间位置的标定方法
US20130044315A1 (en) Maskless exposure apparatus and spot beam position measurement method using the same
CN106647178A (zh) 光直写成像设备以及系统
CN102692820A (zh) 一种测量投影物镜畸变的装置及方法
CN202582486U (zh) 全自动多相机丝网印刷设备的定位基准标定装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP03 Change of name, title or address

Address after: 230088 the 11 level of F3 two, two innovation industrial park, No. 2800, innovation Avenue, Hi-tech Zone, Hefei, Anhui.

Patentee after: Hefei Xinqi microelectronics equipment Co., Ltd

Address before: 230088, Hefei province high tech Zone, 2800 innovation Avenue, 533 innovation industry park, H2 building, room two, Anhui

Patentee before: HEFEI XINQI MICROELECTRONIC EQUIPMENT CO., LTD.

CP03 Change of name, title or address