CN105093725B - 阵列基板、显示面板以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

一种阵列基板、显示面板以及显示装置，该阵列基板包括衬底基板，其中，衬底基板包括显示区域和围绕该显示区域的周边区域，该显示区域中设置有像素阵列结构，所述周边区域中设置有至少一个触控电极，该至少一个触控电极沿所述衬底基板的边缘设置。该阵列基板将触控电极制作在周边区域，可实现对物理按键替代的目的，从而可减少应用该阵列基板的显示装置的边框宽度。

Description

阵列基板、显示面板以及显示装置
技术领域
本发明至少一实施例涉及一种阵列基板、显示面板以及显示装置。
背景技术
随着显示装置特别是移动显示装置市场的不断发展，通常的物理按键在这些装置中不断被替代为其他形式，人们转而采用更轻薄、更灵敏、更时尚的虚拟按键来实现对显示装置的控制和输入。而且，随着用户对于显示装置窄边框的要求越来越高，几乎所有的手机和平板电脑都在追求窄边框化，从而提高屏占比，提升用户的体验。然而，一般的移动显示设备在边框上侧和/或左侧和/或右侧仍然具有物理按键，例如音量调节键和开关机键等。这些物理按键具有较大的体积使得这些显示装置很难进一步减小边框宽度。
发明内容
本发明至少一个实施例提供一种阵列基板、显示面板以及显示装置。该阵列基板将触控电极制作在周边区域，可实现对物理按键替代的目的，从而可减少应用该阵列基板的显示装置的边框宽度。
例如，本发明至少一个实施例提供一种阵列基板，包括衬底基板，其中，所述衬底基板包括显示区域和围绕所述显示区域的周边区域，所述显示区域中设置有像素阵列结构，所述周边区域中设置有至少一个触控电极，所述至少一个触控电极沿所述衬底基板的边缘设置。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述至少一个触控电极的边缘与所述衬底基板的边缘平齐。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述像素阵列结构包括至少一层导电结构，所述至少一个触控电极与所述至少一层导电结构中的任意一层同层设置。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述导电结构包括像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层中的任意一个。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述像素阵列结构包括多层导电结构，所述触控电极包括多个子触控电极，所述多个子触控电极分别与所述多层导电结构中的任意一层导电结构同层设置，所述多个子触控电极彼此电连接。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述导电结构包括像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层中的多个。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述触控电极为多个，且所述多个触控电极同层设置或异层设置。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，至少一个所述触控电极上设置有第一导电粒子层，所述第一导电粒子层设置在所述衬底基板周边区域且与对应的所述触控电极电连接。
例如，本发明一实施例提供的阵列基板还包括至少一条导线，其中，所述至少一条导线分别与所述至少一个触控电极电连接以用于输入/输出信号。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述像素阵列结构包括至少一层导电结构，所述至少一条导线与所述导电结构中的至少一层同层设置。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述导电结构包括像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层中的至少一个。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述至少一条导线与触控侦测芯片相连。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述至少一个触控电极为自电容电极，或者，触控电极为多个，所述多个触控电极包括触控驱动电极和触控感应电极。
本发明至少一个实施例提供一种显示面板，包括对盒的阵列基板和对置基板，所述阵列基板为上述任一阵列基板。
例如，本发明一实施例提供的显示面板还包括设置在所述阵列基板上的至少一个触控电极和所述对置基板之间的第二导电粒子层，所述第二导电粒子层设置在所述周边区域的至少一个触控电极之上且与之相应地电连接。
例如，在本发明一实施例提供的显示面板中，所述第二导电粒子层包括各向异性导电胶。
本发明至少一个实施例还提供一种显示装置，包括上述任一显示面板。
例如，本发明一实施例提供的显示装置还包括背板，其中，所述背板包括底板和多个设置在所述底板周边的侧板，在对应所述至少一个触控电极的侧板位置处设有镂空结构。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1为本发明一实施例提供的一种阵列基板中的触控电极设置位置的平面示意图；
图2为本发明一实施例提供的一种阵列基板的平面示意图；
图3为本发明一实施例提供的一种阵列基板沿图2中A-A’方向的局部剖面示意图；
图4为本发明一实施例提供的另一种阵列基板沿图2中A-A’方向的局部剖面示意图；
图5为本发明一实施例提供的另一种阵列基板沿图2中A-A’方向的局部剖面示意图；
图6为本发明一实施例提供的另一种阵列基板沿图2中A-A’方向的局部剖面示意图；
图7为本发明一实施例提供的另一种阵列基板沿图2中A-A’方向的局部剖面示意图；
图8为本发明一实施例提供的另一种阵列基板沿图2中A-A’方向的局部剖面示意图；
图9为本发明一实施例提供的另一种阵列基板的平面示意图；
图10为本发明一实施例提供的另一种阵列基板沿图9中A-A’方向的局部剖面示意图；
图11为本发明一实施例提供的另一种阵列基板沿图9中B-B’方向的局部剖面示意图；
图12为本发明一实施例提供的一种显示面板沿图9中A-A’方向的局部剖面示意图；
图13为本发明一实施例提供的另一种显示面板沿图9中A-A’方向的局部剖面示意图；
图14为本发明一实施例提供的另一种显示面板沿图9中B-B’方向的局部剖面示意图；
图15为本发明一实施例提供的一种显示装置的背板结构示意图。
附图标记：
101-衬底基板；1011-显示区域；1012-周边区域；102-栅极/导电结构；103-栅极绝缘层；104-有源层；105-源极/导电结构；106-漏极/导电结构；107-钝化层；108-公共电极/导电结构；109-像素电极/阳极/导电结构；110-绝缘层；111-触控电极；1111-第一触控电极；1112-第二触控电极；1113-第三触控电极；1114-第四触控电极；1110-子触控电极；11101-第一子触控电极；11102-第二子触控电极；120-像素阵列结构；125-导线；130-触控侦测芯片；140-封框胶；150-液晶层；160-对置基板；180-第一导电粒子层；183-第二导电粒子层；190-背板；191-底板；192-侧板；193-镂空结构；1931-第一镂空结构；1932-第二镂空结构；199-显示面。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
本发明至少一实施例提供一种阵列基板、显示面板以及显示装置。如图1所示，该阵列基板包括衬底基板101，其中，该衬底基板101包括显示区域1011和围绕该显示区域1011的周边区域1012，该显示区域1011中设置有像素阵列结构120，该周边区域1012中设置有至少一个触控电极111，该至少一个触控电极111沿衬底基板101的边缘设置。“至少一个触控电极”包括一个触控电极或多个触控电极等情形。“多个”例如是指大于一个。图1中以触控电极为一个为例进行说明。然而，周边区域1012亦可设置多个触控电极111。
该阵列基板将至少一个触控电极制作在周边区域，且至少一个触控电极沿衬底基板的边缘设置，可实现对物理按键替代的目的，从而可减少应用该阵列基板的显示面板以及显示装置的边框宽度。
例如，该至少一个触控电极可以由一层或多层导电薄膜单独制作而成，可以与阵列基板中通常的导电结构(例如像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层等)同层设置。
这里应该理解的是，在本公开中，“同层”指的是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。
需要说明的是，在本发明的实施例中，构图或构图工艺可只包括光刻工艺，或包括光刻工艺以及刻蚀步骤，或者可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺。光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程，利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形。可根据本发明的实施例中所形成的结构选择相应的构图工艺。
下面通过几个实施例进行说明。
实施例一
本实施例提供一种阵列基板。如图2所示，阵列基板包括衬底基板101，衬底基板101包括显示区1011和围绕显示区域1011的周边区域1012，显示区域1011中设置有像素阵列结构120，周边区域1012中设置有至少一个触控电极111，至少一个触控电极111沿衬底基板101的边缘设置。并且至少一个触控电极111的边缘与衬底基板101的边缘平齐。
需要说明的是，本实施例提供的阵列基板将触控电极111的边缘与衬底基板101的边缘平齐设置，可使触控电极111更接近采用此阵列基板的显示面板/显示装置的边框，从而可提高触控电极111的触控灵敏度。
图3是本实施例提供的阵列基板沿图2中A-A’方向的局部剖面示意图。如图3所示，阵列基板包括衬底基板101，衬底基板101包括显示区1011和周边区域1012。衬底基板101包括设置在衬底基板101上显示区域1011内的栅极102，覆盖栅极102的栅极绝缘层103，设置在栅极绝缘层103上对应栅极102位置的有源层104，设置在有源层104上且位于有源层104两侧的源极105和漏极106，覆盖整个衬底基板101的钝化层107，设置在钝化层107上显示区域1011内的公共电极108，设置在公共电极108上的绝缘层110，以及设置在绝缘层110上显示区域1011内的像素电极109。
例如，上述的阵列基板可作为液晶显示设备(LCD)的阵列基板，也可以作为有机发光显示装置(OLED)、电子纸显示装置等的阵列基板。例如，衬底基板101可以为玻璃基板、石英基板、塑料基板或其他基板。
例如，栅极102的材料包括选自铝，钛，钽，铬，钼，钨化钼中的一种或多种，或上述金属所任意组成的合金中的一种或多种。例如，源极105和漏极106的材料包括选自铝，钛，钽，铬，钼，钨化钼中的一种或多种，或上述金属所任意组成的合金中的一种或多种。例如，公共电极108和像素电极109的材料可以为铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)等透明金属氧化物。也就是说，上述的栅极102、源极105、漏极106、公共电极108和像素电极109都可为导电结构。
本实施例的阵列基板还包括至少一个触控电极111。如图3所示，阵列基板包括一个触控电极111，触控电极111设置在衬底基板111上的周边区域1012内。触控电极111沿衬底基板101的边缘设置，并且与衬底基板101的边缘平齐。
例如，如图3所示，触控电极111可与栅极102同层设置。也就是说，触控电极111可与栅极102由同一栅极金属层通过一次构图工艺形成。
例如，如图4所示，触控电极111可与源极105和漏极106同层设置。也就是说触控电极111可与源极105和漏极106由同一源漏金属层通过一次构图工艺形成。
例如，如图5所示，触控电极111与可公共电极108同层设置。也就是说，触控电极111可与公共电极108由同一透明金属氧化物层通过一次构图工艺形成。同样地，触控电极111还可以与像素电极109同层设置。在此不再赘述。
也就是说，触控电极111可以与阵列基板中任意一层导电结构同层设置。需要说明的是，触控电极111也可单独设置。本实施例提供的阵列基板通过将触控电极111与阵列基板中的任意一层导电结构同层设置，可节省制备触控电极111的材料和工艺，从而降低成本。
需要说明的是，导电结构包括但不限于像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层。该导电结构亦可包括显示区域中设置的其他导电结构，例如，在该阵列基板为内嵌式(in-cell)型触控显示装置的阵列基板的情况下，该导电结构包括显示区域内的触控电极(触控驱动电极或触控感应电极)或相应的引线等。
图2中以触控电极为一个为例进行说明。周边区域1012亦可设置多个触控电极111。
本实施例的阵列基板还包括至少一条导线125，至少一条导线125与至少一个触控电极111电连接以用于输入/输出信号。例如，如图2所示，阵列基板包括一条导线125，导线125与触控电极111电连接。在本实施例提供的阵列基板中，导线125可与阵列基板中任意一层导电结构同层设置，由同一导电层通过构图工艺形成。需要说明的是，导线125也可单独设置。本实施例提供的阵列基板通过将导线125与阵列基板中的任意一层导电结构同层设置，可节省制备导线125的材料和工艺，从而降低成本。
另外，导线125可与触控电极111同层设置，但也可与触控电极111不同层设置，例如，导线125与触控电极111不同层设置，通过过孔等常用的连接方式实现他们之间的电连接。
本实施例提供的阵列基板还包括一个触控侦测芯片130。例如，如图2所示，阵列基板包括一个触控侦测芯片130，触控侦测芯片130设置在衬底基板101的周边区域1012，并且与导线125相连。即，触控电极111经导线125与触控侦测芯片130相连。
在本实施例提供的阵列基板中，触控电极111可为自电容式触控电极。当手指触摸采用本实施例提供的阵列基板的显示面板/显示装置侧边(侧边例如是指在衬底基板厚度方向上，衬底基板厚度方向上例如是指垂直于显示面的方向上，以下各实施例与此相同)中触控电极111所在的位置时，手指的电容感应到触控电极111，从而改变了触控电极111的电容量。触控侦测芯片130通过检测各自电容电极的电容值变化以判断触控位置，进而实现对采用本实施例提供的阵列基板的显示面板/显示装置的触控控制。例如，当设置有多个触控电极111时，这些触控电极也可以设置为互电容式触控电极，触控侦测芯片130用以提供相应的检测。
实施例二
本实施例提供一种阵列基板。阵列基板包括衬底基板101、像素阵列结构120、触控电极111、栅极102、栅极绝缘层103、有源层104、源极105、漏极106、钝化层107、公共电极108、绝缘层110以及像素电极109。上述各个组成部分的位置关系以及连接关系可参见实施例一对于图3的相关描述，在此不再赘述。本实施例提供的阵列基板还包括设置在至少一个触控电极111上的第一导电粒子层180，第一导电粒子层180设置在衬底基板101的周边区域1012并且与对应的触控电极111电连接。
例如，如图6所示，触控电极111与栅极102同层设置，并且沿衬底基板101的边缘设置，其边缘与衬底基板101的边缘平齐。阵列基板还包括设置在触控电极111上的第一导电粒子层180。第一导电粒子层180可直接形成在触控电极111上，从而实现与触控电极111电连接。需要说明的是，导电粒子层180例如可通过过孔或者其他连接结构实现电连接。
例如，如图7所示，触控电极111与源极105和漏极106同层设置，并且沿衬底基板101的边缘设置，其边缘与衬底基板101的边缘平齐。阵列基板还包括设置在触控电极111上的第一导电粒子层180。第一导电粒子层180可直接形成在触控电极111上，从而实现与触控电极111的电连接。需要说明的是，导电粒子层180例如可通过过孔或者其他连接结构实现电连接。
例如，各触控电极也可采用第一导电粒子层。第一导电粒子层可分别经导线与触控侦测芯片相连。此情况下各导线的设置方式可参见各实施例中有关导线设置方式的描述。
例如，导电粒子层180可包括各向异性导电胶。各向异性导电胶可在一个方向上导电，而在其他方向不导电。例如，可在衬底基板厚度方向上(垂直于显示面的方向上)导电，而横向(平行于显示面的方向上)不导电。
例如，导电粒子层180例如可采用包含导电粉的胶，例如，导电粉与环氧树脂胶混合在一起的胶。导电粉可包括碳粉、银粉、金粉、镍粉等。但不限于此。例如，在触控电极111上方设置过孔，在过孔中填充导电银胶，或掺杂导电金属球的封框胶，从而形成导电粒子层180。当然，导电粒子层180亦可采用其他导电粒子。
各向异性导电胶例如在特定位置于垂直于显示面的方向上受压之后例如在该位置于该垂直方向上变得导电。
例如，导电粒子层180亦可在不受压力的情况下亦可导电。例如，可采用导电粒子形成的导电层。
本实施例的阵列基板通过在触控电极111上形成第一导电粒子层180，可增加触控电极111在垂直方向即阵列基板厚度方向上的感应范围，从而提高触控电极111的触控灵敏度。
本实施例的阵列基板还包括至少一条导线125以及一个触控侦测芯片130，其具体的配置方式和位置关系参见实施例一中的相关描述，在此不再赘述。
在本实施例提供的阵列基板中，触控电极111可为自电容式触控电极。当手指触摸采用本实施例提供的阵列基板的显示装置侧边(垂直于显示面的方向上)中触控电极111所在的位置时，手指的电容感应到导电粒子层180和触控电极111，从而改变了触控电极111的电容量；触控侦测芯片130通过检测各自电容电极的电容值变化以判断触控位置，进而实现对采用本实施例提供的阵列基板的显示面板/显示装置的触控控制。例如，当设置有多个触控电极111时，这些触控电极也可以设置为互电容式触控电极，触控侦测芯片130用以提供相应的检测。
实施例三
本实施例提供一种阵列基板。阵列基板包括衬底基板101、像素阵列结构120、触控电极111、栅极102、栅极绝缘层103、有源层104、源极105、漏极106、钝化层107、公共电极108、绝缘层110以及像素电极109。上述各个组成部分的位置关系以及连接关系可参见实施例一的相关描述，在此不再赘述。在本实施例提供的阵列基板中，触控电极111包括多个子触控电极，多个子触控电极分别与多层导电结构中的任意一层导电结构同层设置，并且多个子触控电极彼此电连接。
例如，触控电极111可包括多个子触控电极。例如，如图8所示，触控电极111可包括两个子触控电极1110：第一子触控电极11101和第二子触控电极11102。第一子触控电极11101与栅极102同层设置。第二子触控电极11102与源极105和漏极106同层设置。并且，第一子触控电极11101与第二子触控电极11102彼此电连接。
需要说明的是，子触控电极触控电极的个数不限于两个，子触控电极可可为更多个。子触控电极也不限于与栅极层和源漏极同层设置，例如还可设有与公共电极层和/或像素电极层同层设置的子触控电极。当然，还可以包括单独设置或与其他导电结构同层设置的子触控电极。
本实施例提供的阵列基板，一方面，通过将触控电极111设置多个子触控电极，可增加触控电极111在垂直方向即阵列基板厚度方向上(垂直于显示面的方向上)的感应范围，从而提高触控电极111的触控灵敏度。另一方面，本实施例提供的阵列基板通过将各子触控电极与阵列基板中的导电结构同层设置，从而可减少制备这些子触控电极的材料和工艺，降低了成本。
需要说明的是，本实施例提供的阵列基板中的触控电极111并不限于包括两个子触控电极，还可包括三个、四个、五个等多个子触控电极。同时，这些子触控电极可与阵列基板各导电结构同层设置，也可单独设置，在此不作限定。
例如，本实施例的阵列基板还可包括至少一条导线125以及一个触控侦测芯片130，其具体的配置方式和位置关系参见实施例一中的相关描述，在此不再赘述。
在本实施例提供的阵列基板中，触控电极111可为自电容式触控电极。当手指触摸采用本实施例提供的阵列基板的显示装置侧边中触控电极111所在的位置时，手指的电容感应到触控电极111的第一子触控电极11101和/或第二子触控电极11102，从而改变了触控电极111的电容量。触控侦测芯片130通过检测各自电容电极的电容值变化以判断触控位置，进而实现对采用本实施例提供的阵列基板的显示面板/显示装置的触控控制。例如，当设置有多个触控电极111时，这些触控电极也可以设置为互电容式触控电极，触控侦测芯片130用以提供相应的检测。
实施例四
本实施例提供一种阵列基板。阵列基板包括衬底基板101，衬底基板101分为显示区1011和围绕显示区域1011的周边区域1012，显示区域1011中形成有像素阵列结构120，周边区域1012中设置有至少一个触控电极111，至少一个触控电极111沿衬底基板101的边缘设置。并且至少一个触控电极111的边缘与衬底基板101的边缘平齐。
如图9所示，阵列基板包括设置在衬底基板101边缘的多个触控电极111，例如，多个触控电极包括第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114。
需要说明的是，本实施例提供的阵列基板将触控电极111的边缘与衬底基板101的边缘平齐设置，可使触控电极111更接近采用此阵列基板的显示装置的边框，从而可提高触控电极111的触控灵敏度。
图10是本实施例提供的阵列基板沿图9中A-A’方向的局部剖面示意图。如图所示，阵列基板包括衬底基板101，衬底基板101包括显示区1011和周边区域1012。衬底基板101包括设置在衬底基板101上显示区域1011内的栅极102，设置在衬底基板101上周边区域1012且沿着衬底基板101的边缘平齐设置的触控电极111，覆盖栅极102的栅极绝缘层103，设置在栅极绝缘层103上对应栅极102位置的有源层104，设置在有源层104上且位于有源层104两侧的源极105和漏极106，覆盖整个衬底基板101的钝化层107以及设置在钝化层107上显示区域1011内的阳极109。
可见，上述的阵列基板可作为有机发光二极管显示设备(OLED)的阵列基板。需要说明的是，上述的阳极109也可作为液晶显示器(LCD)阵列基板的像素电极，该液晶显示器可以为VA、TN、IPS、ADS等多种模式。
例如，衬底基板101可以为玻璃基板、石英基板、或其他基板；栅极102的材料包括选自铝，钛，钽，铬，钼，钨化钼中的一种或多种，或上述金属所任意组成的合金中的一种或多种。例如，源极105和漏极106的材料包括选自铝，钛，钽，铬，钼，钨化钼中的一种或多种，或上述金属所任意组成的合金中的一种或多种。例如，阳极109的材料可以为铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)等透明金属氧化物。也就是说，上述的栅极102、源极105、漏极106以及阳极109都可为导电结构。
上述第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114可同层设置，可与上述栅极102、源极105和漏极106以及阳极109中任意一个导电结构同层设置。需要说明的是，第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114也可不与导电结构同层设置，即可单独设置。本实施例提供的阵列基板通过将第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114与阵列基板中的任意一层导电结构同层设置，可节省制备触控电极111的材料和工艺，从而降低成本。当然，本实施例的阵列基板包括但不限于此，第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114也可异层设置。
例如，图11是本实施例提供的阵列基板沿图9中B-B’方向的局部剖面示意图。如图所示，阵列基板包括衬底基板101，设置在衬底基板101上的第一触控电极1111，设置在第一触控电极1111上并且覆盖整个衬底基板101的栅极绝缘层103，设置在栅极绝缘层103上的第二触控电极1112，设置在第二触控电极1112上并且覆盖整个衬底基板101的钝化层107。可见，第一触控电极1111和第二触控电极1112异层设置在阵列基板上。例如，第一触控电极1111可与栅极层同层设置，第二触控电极1112可与源漏极层同层设置。
需要说明的是，本实施例提供的阵列基板并不限于包括四个子触控电极，还可包括五个、六个、七个等多个触控电极，在此不作限定。
本实施例的阵列基板还包括至少一条导线125，至少一条导线125与至少一个触控电极111电连接以用于输入/输出信号。例如，如图9所示，阵列基板包括四条导线125，分别与第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114电连接。
在本实施例提供的阵列基板中，四条导线125可与阵列基板中任意一层导电结构同层设置，由同一导电层通过一层构图工艺形成。需要说明的是，导线125也可单独设置。各导线125也可不同层设置，例如，多条导线可与阵列基板中多个导电结构同层设置。例如，部分导线与栅极层同层设置，部分导线与源漏极层同层设置。本实施例提供的阵列基板通过将导线125与阵列基板中的至少一层导电结构同层设置，可节省制备导线125的材料和工艺，从而降低成本。
另外，四条导线125可与第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114同层设置，但也可与第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114不同层设置。例如，该导线125与第一触控电极1111、第二触控电极1112、第三触控电极1113以及第四触控电极1114不同层设置的情况下，可通过过孔等常用的连接方式实现与各触控电极与对应导线之间的电连接。
本实施例提供的阵列基板还包括一个触控侦测芯片130。例如，如图9所示，阵列基板包括一个触控侦测芯片130，触控侦测芯片130可设置在衬底基板101的周边区域1012，并且与四条导线125相连。
在本实施例提供的阵列基板中，触控电极111可为自电容式触控电极。当手指触摸采用本实施例提供的阵列基板的显示面板/显示装置侧边中触控电极所在的位置时，手指的电容感应到触控电极111中一个或多个，从而改变了被触控的触控电极的电容量。触控侦测芯片130通过检测各自电容电极的电容值变化以判断触控位置，进而实现对采用本实施例提供的阵列基板的显示面板/显示装置的控制。
本实施例提供的阵列基板中，多个触控电极可包括触控驱动电极和触控感应电极，从而构成互电容式触控电极。触控驱动电极和触控感应电极交叉的地方将会形成电容。当手指触摸到电容屏时，影响了触摸点附近两个电极之间的耦合，从而改变了这两个电极之间的电容量。触控侦测芯片在触控时间段通过检测这种电容值的变化从而判断出触控位置。
实施例五
本实施例提供一种显示面板，其包括对盒的阵列基板和对置基板160，阵列基板为上述实施例一至四任意一个所述的阵列基板。例如，显示装置可以为液晶显示装置(LCD)或有机发光二极管显示装置(OLED)。
例如，图12是本实施例提供的一种显示装置的局部剖面示意图，显示装置包括实施例一所述的一种阵列基板，其技术特征和技术特征之间的位置关系以及连接关系等参见实施例一相关的描述，在此不再赘述。如图12所示，显示装置还包括设置在阵列基板上衬底基板101显示区域1011内的液晶层150，设置在阵列基板上衬底基板101周边区域1012内的封框胶140以及设置在上述液晶层150和封框胶140上的对置基板160，从而构成一个液晶盒。对置基板与阵列基板相对设置，对置基板和阵列基板分别为显示面板的上下两个基板。例如，通常在阵列基板上形成薄膜晶体管阵列等显示结构，在对置基板上形成彩色树脂。例如，对置基板为彩膜基板。
本实施例提供的显示面板，还包括设置在阵列基板的至少一个触控电极和对置基板160之间的第二导电粒子层183，第二导电粒子层183设置在阵列基板的衬底基板101的周边区域1012的至少一个触控电极111之上且与之相应地电连接。
例如，各触控电极也可采用第二导电粒子层。则至少一个第二导电粒子层可分别经与导线与触控侦测芯片相连。此情况下各导线的设置方式可参见各实施例中有关导线设置方式的描述。
例如，图13是本实施例提供的一种显示装置的局部剖面示意图，显示装置包括实施例一所述的一种阵列基板，其技术特征和技术特征之间的位置关系以及连接关系等参见实施例一相关的描述，在此不再赘述。如图13所示，显示装置还包括设置在阵列基板和对置基板160之间的封框胶140中的第二导电粒子层183，第二导电粒子层183设置在触控电极111之上并且与其直接电性相连。
例如，第二导电粒子层183可为各向异性导电胶。
例如，第二导电粒子层183的相关特征可参见之前第一导电粒子层180所述。本实施例提供的显示面板包括但不限于此。
例如，如图14所示，显示面板包括形成在衬底基板101上与栅极102同层设置的第一触控电极1111、以及与源极105和漏极106同层设置的第二触控电极1112。显示面板还包括夹置在阵列基板的衬底基板101和对置基板160之间的第一金球层181和第二金球层182。第一金球层181设置在第一触控电极1111之上并与之电连接。第二金球层182设置在第二触控电极112之上并与之电连接。此处以第一金球层和第二金球层为例进行说明。例如，第一金球层和第二金球层包括掺杂了导电金球的封框胶。例如，第二导电粒子层183亦可采用其他导电粒子。
本实施例提供的显示面板通过在阵列基板和对置基板160之间设置第二导电粒子层183，可增加触控电极111在垂直方向，即显示面板厚度方向上(垂直于显示面199的方向上)的感应范围，从而提高显示面板的触控灵敏度。
例如，本发明各实施例提供的触控电极结构包括但不限于侧边(垂直于显示面)触控。例如，手指也可以触摸显示面，以实现触控控制。
需要说明的是，显然，本实施例的显示面板还可包括上述实施例一至四任意一项所述的阵列基板，其具体配置情况不再一一列举。
实施例六
本实施例提供一种显示装置，其包括任一上述显示面板。
例如，如图15所示，本实施例提供的显示装置还可包括背板190，背板190包括底板191和多个设置在底板周边的侧板192，背板材质包括塑料和金属。背板材质采用金属的情况下，在对应至少一个触控电极的侧板位置处设有镂空结构193。从而，使得至少一个触控电极111不被屏蔽，以实现对显示装置的控制功能。图15中示出了分别对应两个触控电极的两个镂空结构：第一镂空结构1931和第二镂空结构1931。例如，每个镂空结构可包括至少一个贯通侧板的至少一个孔。例如，镂空结构的个数可依据触控电极的个数来确定。当然，背板材质采用塑料的情况下，亦可设置镂空结构，可参见背板材质采用金属的情况下设置的镂空结构。
需要说明的是，为表示清楚，并没有给出显示装置的全部结构。为实现显示装置的必要功能，本领域技术人员可以根据具体应用场景进行设置其他未示出的结构，本发明对此不做限制。本实施例提供的显示装置的技术效果参见上述实施例一至四描述的阵列基板的技术效果，在此不再赘述。
值得注意的是，当采用本发明实施例提供的阵列基板、显示面板或显示装置时，为了避免误触导致的误操作，可设计相应的防误触的程序来避免误操作给用户带来的不便。例如，可通过设定连续触碰两次或三次来唤醒装置。
例如，上述的触控电极可相应的替换通常设置在显示面板侧面(垂直于显示面)的开关机键，音量增减键等物理按键。
有以下几点需要说明：
(1)本发明实施例附图只涉及到与本发明实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本发明的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下，本发明的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (18)

1.一种阵列基板，包括衬底基板，其中，所述衬底基板包括显示区域和围绕所述显示区域的周边区域，所述显示区域中设置有像素阵列结构，所述周边区域中设置有至少一个触控电极，所述至少一个触控电极沿所述衬底基板的边缘设置，所述触控电极包括位于不同层的多个子触控电极，所述多个子触控电极彼此电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述至少一个触控电极的边缘与所述衬底基板的边缘平齐。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述像素阵列结构包括至少一层导电结构，所述至少一个触控电极与所述至少一层导电结构中的任意一层同层设置。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其中，所述导电结构包括像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层中的任意一个。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述像素阵列结构包括多层导电结构，所述多个子触控电极分别与所述多层导电结构同层设置。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述导电结构包括像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层中的多个。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述触控电极为多个，且所述多个触控电极同层设置或异层设置。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，至少一个所述触控电极上设置有第一导电粒子层，所述第一导电粒子层设置在所述衬底基板周边区域且与对应的所述触控电极电连接，所述第一导电粒子层的边缘与所述衬底基板的边缘平齐。
9.根据权利要求1所述的阵列基板，还包括至少一条导线，其中，所述至少一条导线分别与所述至少一个触控电极电连接以用于输入/输出信号。
10.根据权利要求9所述的阵列基板，其中，所述像素阵列结构包括至少一层导电结构，所述至少一条导线与所述导电结构中的至少一层同层设置。
11.根据权利要求10所述的阵列基板，其中，所述导电结构包括像素电极层、公共电极层、栅极层、源漏极层中的至少一个。
12.根据权利要求9所述的阵列基板，其中，所述至少一条导线与触控侦测芯片相连。
13.根据权利要求1-12任一项所述的阵列基板，其中，所述至少一个触控电极为自电容电极，或者，触控电极为多个，所述多个触控电极包括触控驱动电极和触控感应电极。
14.一种显示面板，包括对盒的阵列基板和对置基板，所述阵列基板为权利要求1-13任一项所述的阵列基板。
15.根据权利要求14所述的显示面板，还包括设置在所述阵列基板上的至少一个触控电极和所述对置基板之间的第二导电粒子层，所述第二导电粒子层设置在所述周边区域的至少一个触控电极之上且与之相应地电连接。
16.根据权利要求15所述的显示面板，所述第二导电粒子层包括各向异性导电胶。
17.一种显示装置，包括权利要求14-16任一项所述的显示面板。
18.根据权利要求17所述的显示装置，还包括背板，其中，所述背板包括底板和多个设置在所述底板周边的侧板，在对应所述至少一个触控电极的侧板位置处设有镂空结构。
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