CN104914508B - 一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法 - Google Patents

一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104914508B
CN104914508B CN201510373319.3A CN201510373319A CN104914508B CN 104914508 B CN104914508 B CN 104914508B CN 201510373319 A CN201510373319 A CN 201510373319A CN 104914508 B CN104914508 B CN 104914508B
Authority
CN
China
Prior art keywords
bragg
grating
etching
diffraction
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201510373319.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104914508A (zh
Inventor
朱京平
杜炳政
李宝
毛玉政
张云尧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yangzhou Runwell Optoelectronic Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
Xian Jiaotong University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xian Jiaotong University filed Critical Xian Jiaotong University
Priority to CN201510373319.3A priority Critical patent/CN104914508B/zh
Publication of CN104914508A publication Critical patent/CN104914508A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104914508B publication Critical patent/CN104914508B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
    • G02B6/293—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means
    • G02B6/29304—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means operating by diffraction, e.g. grating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1225—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths comprising photonic band-gap structures or photonic lattices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

本发明公开了一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法，属于光通信波分复用领域，特别涉及一种制作工艺难度相对较低、无需二次镀膜、频谱性能优良的Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器。它包括输入波导，输出波导阵列、自由传输区域和Bragg齿面结构的蚀刻凹面光栅，其特征在于所述蚀刻凹面光栅齿面采用Bragg齿面结构，所述Bragg齿面结构是不同折射率介质周期性排列的反射面结构。所述Bragg齿面结构的刻蚀凹面光栅是由修正型的光栅方程设计的，所述修正型的光栅方程是由光子晶体理论与光栅方程结合推导而来的。该波分复用器可浅刻蚀加工，加工工艺难度低，体积小，衍射效率高，能够实现粗波分复用与密集型波分复用。

Description

一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计 方法
技术领域
本发明属于光通信领域，涉及波分复用技术，具体涉及一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法。
背景技术
波分复用技术可实现单个波导或光纤上几十倍、几百倍的信道扩容，从1990s中后期已成为光通信扩容的主流技术。随着云计算等的广泛应用，扩容的要求越来越高，迫切要求波分复用信道数进一步提高。
波分复用器件是波分复用技术的核心器件，其中平面集成波导复用器/解复用器是主流的发展方向，主要包括阵列波导光栅(Arrayed Waveguide Grating，简称AWG)型和蚀刻衍射光栅型(Etched Diffraction Grating，简称EDG)两种类型的波分复用/解复用器，其中EDG器件以尺寸小、性能稳定、易于批量生产、成本低、适合做密集型波分复用而得到了广泛的研究。
然而，传统的EDG器件光栅齿面加工工艺要求高，包括需要深刻蚀、平滑、镀金属膜，以提高器件的性能。为了提高器件性能，避免镀金属膜等二次处理，Erickson L，Lamontagne B及He J J等提出利用全内反射结构替代普通的镀金属光栅齿来降低插入损耗、提高效率(Using a retro-reflecting echelle grating to improve WDM demuxefficiency，Processing，and Devi.IEEE，1997:82-83.)。这种结构的器件无需二次处理，但仍存在菲涅尔反射损耗，同时结构复杂，且加工过程引入了光栅的底角和顶角误差效应。
Brouckaert J等人在硅基二氧化硅材料上设计了频带为1.5um-1.6um的Bragg反射面凹面衍射光栅粗波分复用器(Planar concave grating demultiplexer withdistributed Bragg reflection facets，Proceedings of the 4th IEEE InternationalConference on Group IV Photonics.2007:1-3.)，但其Bragg反射面结构是基于各介质层满足1/4波长的介质膜理论进行设计的，未对Bragg-凹面光栅的整体器件结构进行优化，容易在设计过程中造成相邻Bragg介质层不连贯、错位等问题。
Pierre Pottier等人设计了周期性结构的Bragg椭圆线低级次高效衍射凹面光栅(Mono-order high-efficiency dielectric concave diffraction grating，Journal ofLightwave Technology，2012，30(17):2922-2928)。该器件光栅为罗兰圆结构，反射面结构通过1/4波长多层介质膜理论进行设计，且堆叠的反射介质层按照椭圆结构排列。该器件可完成中心波长为600nm，带宽为50nm左右的高效衍射分光。但该器件Bragg光栅设计方法的局限，使得器件衍射带中心波长有较大的误差，衍射带边界无法有效确定。其次，同时满足罗兰圆结构与椭圆结构条件的Bragg凹面光栅只是Bragg闪耀光栅的一种特例，大大限制了其应用推广。
发明内容
本发明的目的在于解决上述现有技术中存在的缺陷和不足，提出了一种基于光子晶体理论与光栅方程结合的Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法。
为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案予以实现：
一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器，包括输入波导(101)和输出波导阵列(102)，输入波导(101)的入射端口(105)和输出波导阵列(102)的出射端口(106)均位于罗兰圆上，罗兰圆内部为自由传输区域(103)，罗兰圆内切于光栅圆，且罗兰圆的直径等于光栅圆的半径，罗兰圆与光栅圆的相切处设置Bragg齿面结构蚀刻的凹面光栅(104)，凹面光栅(104)采用周期性Bragg反射面结构。
进一步的，凹面光栅采用由单个周期的或者多个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅。
进一步的，凹面光栅由两种折射率不同的材料周期性排列堆叠构成。
进一步的，折射率不同的材料为介质层与空气层的排列或两种不同的介质层排列。
进一步的，两种折射率不同的材料的宽度分别为d1和d2，其周期(303)的数值由一维光子晶体理论确定，其中，d＝d1+d2。
进一步的，单个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅由周期性介质层堆叠组成，包括第一介质层(304)和第二介质层(305)；第一介质层(304)的表面为Bragg反射齿面(301)，非反射面的厚度等于单个Bragg周期(303)，光栅周期(302)等于d/sinθ，其中，θ为光栅闪耀角(310)；入射光束(306)经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光，产生衍射光束(307)。
进一步的，多个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅由多个Bragg反射器组成，单个Bragg反射器为独立的一个反射齿面结构，包括其非反射面的厚度等于多个Bragg周期(303)，即N×d，光栅周期(302)等于N×d/sinθ，θ为光栅闪耀角(310)；入射光束(306)经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光，产生衍射光束(307)。
进一步的，输入端口(105)为刻蚀在输入波导(101)端部的过渡耦合波导；出射端口(106)为分别刻蚀在每个输出波导阵列(102)端部的过渡耦合波导。
本发明还公开了一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器的设计方法，包括以下步骤：
1)根据Bragg反射器周期性结构的材料折射率与Bragg-EDG入射光角度、Bragg反射器闪耀角计算出归一化频率，以及归一化厚度比例与反射效率之间的关系，并求出一个做反射器的高效率反射带；
2)选取反射带后，即求出相应的周期性结构材料厚度比例，以及反射带归一化频率上下限；结合Bragg反射器的反射中心波长，根据公式确定Bragg反射器实际周期厚度与各介质层的实际厚度；
3)根据公式mλ＝neff·a·(sinα+sinβ)，推导出适用于Bragg-EDG的修正型光栅方程通过光栅修正型方程求得光栅其他参数；
4)根据公式求得Bragg反射器单个周期厚度，衍射角β根据其他的光栅参数结合求得；其中，及Bragg反射器周期比例通过光子晶体带隙理论确定。
与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
本发明应用一维光子晶体带隙理论可有效的计算出Bragg反射器的反射带宽与反射带的中心波长，可根据该理论调整Bragg周期结构的周期厚度或各介质层的比例，准确匹配光栅衍射带的需求。所述光子晶体-光栅方程可根据光栅参数(如：分辨率、角色散、衍射带宽、衍射带的中心波长等)的要求进行光栅结构调整，从而实现高效率，插损低，工艺难度要求低，无需二次处理的Bragg齿面结构性蚀刻衍射光栅。
附图说明
图1为本发明的单周期Bragg反射器的Bragg-EDG结构示意图；
图2为本发明的多周期Bragg反射器的Bragg-EDG结构示意图；
图3为本发明的单周期Bragg反射器的光栅结构示意图；
图4为本发明的多周期Bragg反射器的光栅结构示意图；
图5为本发明的单个Bragg反射齿面的结构示意图；
图6为Bragg反射齿面材料确定后，利用传输矩阵法求得的Bragg反射齿面周期厚度比例、归一化频率与反射效率三者之间的关系图，该图可用于初步判断Bragg反射齿面周期厚度比例，与归一化反射带；
图7为在固定Bragg反射齿面周期厚度比例的情况下计算的光子晶体带隙图；
图8为光信号经过单个Bragg反射齿面的结构其波长与反射效率图；
图9为光信号经过在本发明后的各波长的衍射分光图。
其中，101为输入波导；102为输出波导阵列；103为自由传输区域；104为凹面光栅；105为输入端口；106为出射端口；301为反射齿面；302为光栅周期；303为Bragg周期；304为第一介质层；305为第二介质层；306为入射光束；307为衍射光束；308为光栅法线；309为齿面法线；310为光栅闪耀角。
具体实施方式
下面结合图对本发明做进一步详细的说明。
参如图1至图9，本发明Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器，包括输入波导101和输出波导阵列102，输入波导101的入射端口105和输出波导阵列102的出射端口106均位于罗兰圆上，输入端口105为刻蚀在输入波导101端部的过渡耦合波导；出射端口106为分别刻蚀在每个输出波导阵列102端部的过渡耦合波导。罗兰圆内部为自由传输区域103，罗兰圆内切于光栅圆，且罗兰圆的直径等于光栅圆的半径，罗兰圆与光栅圆的相切处设置Bragg齿面结构蚀刻的凹面光栅104，凹面光栅104采用周期性Bragg反射面结构。凹面光栅采用由单个周期的或者多个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅。凹面光栅由两种折射率不同的材料周期性排列堆叠构成。折射率不同的材料为介质层与空气层的排列或两种不同的介质层排列(见图5)。两种折射率不同的材料的宽度分别为d1和d2，其周期303的数值由一维光子晶体理论确定，其中，d＝d1+d2。
d1和d2具体参数确定方法如下：
1)器件的材料体系确定后(即已知介质n1,n2的折射率)，在固定入射角参数后根据传输矩阵法，求得Bragg反射齿面周期厚度比例、归一化频率与反射效率三者之间的关系(图6)，该图可用于初步判断Bragg反射齿面周期厚度比例，与归一化反射带；其中，在图6中，亮色包裹的区域为光子禁带，横坐标为归一化频率纵坐标为介质1的厚度d1与Bragg反射器周期厚度d的比例。
2)在图6中选取合适的光子禁带后，可以固定d1/d的值，并根据传输矩阵法进一步求得Bragg反射器的光子晶体带隙结构图(图7)，在图7中，红色区域为时的光子禁带，根据该图可求得Bragg反射器的归一化反射频率的上下限(即可求得与的数值)。结合Bragg反射器的反射中心波长，根据公式确定Bragg反射器实际周期厚度与各介质层的实际厚度。
单个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅由周期性介质层堆叠组成，包括厚度为d1、折射率为n1的第一介质层304和厚度为d2、折射率为n2的第二介质层305；第一介质层304的表面为Bragg反射齿面301，非反射面的厚度等于单个Bragg周期303，光栅周期302等于d/sinθ，其中，θ为光栅闪耀角310；入射光束306经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光，产生衍射光束307；入射光束306与光栅法线308的夹角为α，光栅法线308与齿面法线309的夹角为θ，光栅法线308与衍射光束307的夹角为β，入射光束306与衍射光束307的夹角为2φ；
其中，d1为介质层厚度，范围一般在几百纳米左右；n1为介质层折射率，数值在1.4到4.5之间；d2为刻蚀空气层的厚度；如果为空气层则n2为1(如果为其他材料，一般情况下要小于n1的数值)；α为入射角,范围一般情况下在±60之间；θ为光栅闪耀角数值在±30°内；β为衍射角，该角是根据光栅方程及入射角、闪耀角波长衍射级次等参数共同确定的；2φ为入射光与衍射光夹角2φ＝α-β，夹角不大于180°。
多个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅由多个Bragg反射器组成，单个Bragg反射器为独立的一个反射齿面结构，包括其非反射面的厚度等于多个Bragg周期303，即N×d，光栅周期302等于N×d/sinθ，θ为光栅闪耀角310；入射光束306经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光，产生衍射光束307；入射光束306与光栅法线308的夹角为α，光栅法线308与齿面法线309的夹角为θ，光栅法线308与衍射光束307的夹角为β，入射光束306与衍射光束307的夹角为2φ；
其中，d1为介质层厚度，范围一般在几百纳米左右；n1为介质层折射率，数值在1.4到4.5之间；d2为刻蚀空气层的厚度；如果为空气层则n2为1(如果为其他材料，一般情况下要小于n1的数值)；α为入射角,范围一般情况下在±60之间；θ为光栅闪耀角数值在±60°内；β为衍射角，该角是根据光栅方程及入射角、闪耀角波长衍射级次等参数共同确定的；2φ为入射光与衍射光夹角2φ＝α-β，夹角不大于180°。
本发明的原理：
本发明刻蚀衍射光栅型波分复用器，包括输入波导101，输出阵列波导102，自由传播区域103，Bragg反射器齿面结构301，分布式Bragg反射器组成的凹面光栅104，Bragg反射器齿面结构是由一维光子晶体理论设计的，应用一维光子晶体理论设计的Bragg反射器反射带的中心波长准确，反射带宽明确，其反射带向高/低波长波段调制可控。所述Bragg反射器型凹面光栅是由一维光子晶体带隙理论结合光栅方程推导出的光子晶体-光栅方程进行设计的。应用光子晶体-光栅方程理论设计的光栅各Bragg反射器结构面无错位现象，衍射带的中心波长准确，衍射带宽精确，Bragg-EDG光栅衍射带参数可依据光子晶体-光栅方程理论进行调制。
输入波导101与自由传输区103之间的输入端口105，可根据材料选择的情况(二氧化硅、绝缘体上硅、III-V簇等)在输入波导101，自由传输区103之间刻蚀过渡耦合波导105/205。所述Bragg反射器组成的凹面光栅可根据粗、细波分用、分辨率、角色散要求选择图1或图2的结构。
实施例1：
如图1的Bragg-EDG结构，其详细的Bragg反射器结构见图3。Bragg反射器结构是由周期性介质层堆叠组成的(厚度为d1、折射率为n1的第一介质304与厚度为d2、折射率为n2的第二305堆叠)。其中第一介质层304的表面为Bragg反射齿面301，该结构非反射面厚度等于单个Bragg周期303，光栅周期302等于d/sinθ(θ为光栅闪耀角310)，入射光束306经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光得到衍射光束307。该结构的特点在于单个反射面的一部分周期结构是由相邻反射面延长补足的，可提高器件的反射效率，降低插入损耗。该结构的衍射级次通常较低，一般应用于高效率粗波分复用的情况。
实施例2：
如图2的Bragg-EDG结构，其详细的Bragg反射器结构见图4，其单个Bragg反射器为独立的一个反射齿面401结构，该结构非反射面厚度等于多个Bragg周期303，即N*d，光栅周期302等于N*d/sinθ(θ为光栅闪耀角310)，入射光束306经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光得到衍射光束307。该结构的衍射级次较大，一般应用于分辨率较高的密集型波分复用的情况。
本发明的具体设计步骤是：
1.根据Bragg反射器周期性结构的材料折射率与Bragg-EDG入射光角度、Bragg反射器闪耀角计算出归一化频率，归一化厚度比例与反射效率之间的关系(如图6所示)，在图6中求出一个适合做反射器的高效率反射带并根据入射角与Bragg反射器反射面的法线之间的夹角确定Bragg反射器的光子晶体带隙图(如图7所示)。
2.选取合适的反射带后，即可求出相应的周期性结构材料厚度比例，与反射带归一化频率上下限。结合Bragg反射器的反射中心波长，根据公式确定Bragg反射器实际周期厚度与各介质层的实际厚度。
3.根据公式mλ＝neff·a·(sinα+sinβ)，可推导出适用于Bragg-EDG的修正型光栅方程通过光栅修正型方程求得光栅其他参数。
4.总体来上来说，及Bragg反射器周期比例可通过光子晶体带隙理论确定，根据公式可求得Bragg反射器单个周期厚度，衍射角β可根据其他的光栅参数结合求得。
为了更好的体现本发明，依据本发明的原理，我们设计了一个硅基二氧化硅型的Bragg-EDG，二氧化硅波导折射率为n1＝1.5，刻蚀层为空气，折射率为n2＝1，进行衍射分光的波段中心波长为1550nm，其他参数如下：a＝898.457nm，d＝635.305nm，d1＝420.479nm，d2＝267.446nm，入射角α＝-30°，闪耀角θ＝45°，单个反射器周期为6，罗兰圆半径RRC＝200um，光栅圆半径RGratubg＝400um，衍射级次m＝-1。
根据上述参数，我们进行了模拟，结果表明该器件具有衍射带宽准确，衍射带中心波长偏移误差低，衍射效率高，可达到入射光的85％以上，单个Bragg反射器的反射效率图见图8。整体器件的衍射分光效率图见图9。
以上实施例只是本发明的较佳实施例，并非对本发明作任何形式的限制，凡是依据本发明的技术本质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化和修饰，均仍属于本发明的保护范围内。

Claims (1)

1.一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器的设计方法，该设计方法基于一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器，其包括输入波导(101)和输出波导阵列(102)，输入波导(101)的入射端口(105)和输出波导阵列(102)的出射端口(106)均位于罗兰圆上，入射端口到光栅内部为自由传输区域(103)，罗兰圆内切于光栅圆，且罗兰圆的直径等于光栅圆的半径，罗兰圆与光栅圆的相切处设置Bragg齿面结构蚀刻的凹面光栅(104)，凹面光栅(104)采用周期性Bragg反射面结构；凹面光栅采用由单个周期的或者多个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅；凹面光栅由两种折射率不同的材料周期性排列堆叠构成；折射率不同的材料为介质层与空气层的排列或两种不同的介质层排列；两种折射率不同的材料的宽度分别为d1和d2，其周期(303)的数值由一维光子晶体理论确定，其中，d＝d1+d2；单个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅由周期性介质层堆叠组成，包括第一介质层(304)和第二介质层(305)；第一介质层(304)的表面为Bragg反射齿面(301)，非反射面的厚度等于单个Bragg周期(303)，光栅周期(302)等于d/sinθ，其中，θ为光栅闪耀角(310)；入射光束(306)经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光，产生衍射光束(307)；多个周期的Bragg反射器阵列组成的凹面光栅由多个Bragg反射器组成，单个Bragg反射器为独立的一个反射齿面结构，包括其非反射面的厚度等于多个Bragg周期(303)，即N×d，光栅周期(302)等于N×d/sinθ，θ为光栅闪耀角(310)；入射光束(306)经过Bragg-EDG光栅后进行衍射分光，产生衍射光束(307)；输入端口(105)为刻蚀在输入波导(101)端部的过渡耦合波导；出射端口(106)为分别刻蚀在每个输出波导阵列(102)端部的过渡耦合波导；其特征在于，所述的设计方法包括以下步骤：
1)根据Bragg反射器周期性结构的材料折射率与Bragg-EDG入射光角度、Bragg反射器闪耀角计算出归一化频率，以及归一化厚度比例与反射效率之间的关系，并求出一个做反射器的高效率反射带；
2)选取反射带后，即求出相应的周期性结构材料厚度比例，以及反射带归一化频率上下限；结合Bragg反射器的反射中心波长，根据公式确定Bragg反射器实际周期厚度与各介质层的实际厚度；
3)根据公式mλ＝neff·a·(sinα+sinβ)，推导出适用于Bragg-EDG的修正型光栅方程通过光栅修正型方程求得光栅其他参数；
4)根据公式求得Bragg反射器单个周期厚度，衍射角β根据其他的光栅参数结合求得；其中，及Bragg反射器周期比例通过光子晶体带隙理论确定。
CN201510373319.3A 2015-06-29 2015-06-29 一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法 Active CN104914508B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510373319.3A CN104914508B (zh) 2015-06-29 2015-06-29 一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510373319.3A CN104914508B (zh) 2015-06-29 2015-06-29 一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104914508A CN104914508A (zh) 2015-09-16
CN104914508B true CN104914508B (zh) 2018-03-02

Family

ID=54083731

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510373319.3A Active CN104914508B (zh) 2015-06-29 2015-06-29 一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104914508B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015218702A1 (de) * 2015-09-29 2017-03-30 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optisches Schichtsystem
US10197737B2 (en) * 2017-06-19 2019-02-05 Intel Corporation Low back reflection echelle grating
CN111025464A (zh) * 2019-12-17 2020-04-17 湖北工业大学 一种基于su8胶的刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器
CN111208359B (zh) * 2020-02-06 2021-11-02 北京环境特性研究所 一种紧缩场反射面边齿及设计方法
CN113608305B (zh) * 2021-07-15 2022-06-21 苏州旭创科技有限公司 波束控制器及波束控制方法
CN115016059B (zh) * 2022-08-09 2022-11-08 上海羲禾科技有限公司 波分复用装置、波分解复用装置及其制备方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
A Dielectric Omnidirectional;Yoel Fink, Joshua N. Winn等;《Science》;19981127;第282卷;全文 *
Omnidirectional reflection from a one-dimensional;Joshua N. Winn, Yoel Fink, Shanhui Fan等;《Optics Letters》;19981015;第23卷(第20期);全文 *
基于Bragg反射面结构的衍射光栅设计与研究;李宝，朱京平，杜炳政;《物理学报》;20141017;第63卷(第19期);第2-3、5-6页、图1-3、9-10及表1 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN104914508A (zh) 2015-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104914508B (zh) 一种Bragg齿面结构的蚀刻衍射光栅波分复用器及其设计方法
US9176282B2 (en) High efficiency mono-order concave diffraction grating
TW317053B (zh)
KR20070011326A (ko) 평면 도파로 반사 회절 격자
CN104570200B (zh) 利用硅基波导改进的二氧化硅基阵列波导光栅装置及制备
CN103645540B (zh) 一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器
CN110673265B (zh) 一种偏振-波长混合复用器的设计方法
CN102902010A (zh) 信道损耗均匀的波导光栅器件
Bidnyk et al. Novel architecture for design of planar lightwave interleavers
CN104950366B (zh) 一种Bragg反射器型凹面衍射光栅的衍射带调制方法
CN104914510B (zh) 一种双光栅双波段的Bragg‑凹面衍射光栅波分复用器的设计方法
CN104914509A (zh) 一种双光栅双波段的Bragg-凹面衍射光栅波分复用器
CN101047463B (zh) 基于两端厚度递减结构的多通道波长空间解复用薄膜器件
Jafari et al. Demonstration of distributed etched diffraction grating demultiplexer
CN102004282A (zh) 一种平面波导叠加型光栅的制作方法
WO2023035380A1 (zh) 偏振分集式解复用器
CN202904056U (zh) 一种信道损耗均匀的波导光栅器件
CN110703386B (zh) 一种Bragg凹面衍射光栅型偏振-波长混合复用器
US11536907B2 (en) Cascaded integrated photonic wavelength demultiplexer
CN114755759A (zh) 一种基于亚波长光栅的超紧凑型阵列波导光栅波分复用器
CN1256600C (zh) 背入射式高密度石英反射光栅
CN106443880B (zh) 一种具有闪耀波导侧壁光栅和亚波长光栅结构的解复用器
CN111025464A (zh) 一种基于su8胶的刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器
Cheng et al. Combined optical dispersion by prism and arrayed waveguide grating with multiple diffraction orders for Raman spectrometer
Mao et al. Design and analysis of concave diffraction grating with one-dimensional photonic bandgap structure

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20190203

Address after: 225000 industrial zone of tou Qiao Town, Guangling District, Yangzhou, Jiangsu

Patentee after: Yangzhou Runwell Optoelectronic Technology Co.,Ltd.

Address before: 710049 Xianning West Road, Xi'an, Xi'an, Shaanxi

Patentee before: Xi'an Jiaotong University