CN104878364B - 双层式负载腔室的独立回填及抽气结构 - Google Patents
双层式负载腔室的独立回填及抽气结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104878364B CN104878364B CN201510178153.XA CN201510178153A CN104878364B CN 104878364 B CN104878364 B CN 104878364B CN 201510178153 A CN201510178153 A CN 201510178153A CN 104878364 B CN104878364 B CN 104878364B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- backfill
- upper strata
- cavity
- lower floor
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Abstract
双层式负载腔室的独立回填及抽气结构，该结构不仅能单独实现每一层腔体的单独或者并行回填与抽气操作，还可有效地缩短回填与抽气时间。其结构：包括下层腔体，上层腔体，上、下层腔室，上、下层回填组件，上、下层抽气管路，上、下层抽气管道结构及上、下层回填管道结构等。所述下层腔体与上层腔体为独立结构，通过定位将两层腔体连接在一起成为双层式负载腔室。可实现上、下层单独回填，回填位置靠近传片口且位于基板支架下面，能够降低对晶圆上表面的污染，且抽气管路结构对称，上、下层单独抽气，适用于半导体薄膜沉积应用技术领域的双层机械手传片，提高产能。
Description
技术领域
本发明涉及半导体镀膜沉积设备中双层式负载腔室的独立回填及抽气结构，此结构主要应用于半导体镀膜沉积设备中双层式负载腔室内真空与大气环境互换的实现过程及独立控制，属于半导体薄膜沉积的应用与制备技术领域。
背景技术
现有的半导体镀膜设备对负载腔室的功能性要求越来越高，其中产能是一项重要指标，尤其是双层式负载腔室在实现基板从存储设备到反应模块之间的暂存过程时，要求双层式负载腔室可以独立或者并行实现每一层的大气和真空环境的转换，也就是说上层和下层腔室可单独进行回填或抽气，或者上层抽气下层回填，反之亦然；另外，回填及抽气时间影响着基板沉积的周期，缩短回填或抽气时间可提高设备产能；同时腔室内的颗粒度问题也是影响到工艺结果的关键因素，通过优化设计回填及抽气管路结构，可减少颗粒的产生。
发明内容
本发明以解决上述问题为目的，优化设计了双层式负载腔室的回填及抽气结构，不仅能单独实现每一层腔体的单独或者并行回填与抽气操作，还可有效地缩短回填与抽气时间，而且可降低腔室内的颗粒度。
为实现上述目的，本发明采用下述技术方案：双层式负载腔室的独立回填及抽气结构，包括下层腔体(1)，上层腔体(2)，上层腔室A(3)，上层腔室B(4)，下层腔室C(5)，下层腔室D(6)，上层回填组件(7)，下层抽气管路(8)，下层回填组件(9)，上层抽气管路(10)，上层抽气管道结构(11)，上层回填管道结构(12)，下层回填管路结构(13)及下层抽气管路结构(14)。上述下层腔体(1)与上层腔体(2)为独立结构，通过定位将两层腔体连接在一起成为双层式负载腔室。所述上层腔体(2)上的抽气管道结构(11)及回填管道结构(12)左右对称，分别连通到上层腔室A(3)、上层腔室B(4)，上层腔室A(3)、上层腔室B(4)通过上层抽气管道结构(11)和上层回填管道结构(12)而连通；所述下层腔体(1)上的抽气管道结构(14)及回填管道结构(13)左右对称，分别连通到下层腔室C(5)、下层腔室D(6)，下层腔室C(5)、下层腔室D(6)通过下层抽气管道结构(14)和下层回填管道结构(13)而连通。所述上层回填组件(7)与上层回填管道结构(12)连接；下层回填组件(9)与下层回填管路结构(13)连接；所述上层抽气管路(10)与上层抽气管道结构(11)连接，下层抽气管道结构(8)与下层抽气管路结构(14)连接。上、下层单独回填，回填位置靠近传片口且位于基板支架下面，能够降低对晶圆上表面的污染，且抽气管路结构对称，上、下层单独抽气，适用于双层机械手传片，提高产能。
本发明的有益效果及特点在于：
1、本发明实现了双层式负载腔室每一层腔体的单独回填及抽气操作或者并行操作，即指上层回填抽气独立，下层回填抽气独立，实现了上下层回填抽气的独立控制；
2、抽气与回填管路结构为对称结构，使每一层腔室同时回填或抽气完成，不存在时间差，且回填组件与抽气组件全部安装于腔体的底部，提高了设备整体的美观；
3、回填位置靠近传片口且位于基板支架下面，减少了颗粒对晶圆上表面的污染，且抽气管路结构的对称，适用于双层机械手传片，提高产能。
附图说明
图1是本发明的主视图；
图2是图1的左视图；
图3是本发明上层负载腔室结构的仰视图；
图4是本发明下层负载腔室结构的仰视图；
图5是本发明下层负载腔室结构的俯视图；
图6是本发明回填与抽气控制原理图。
具体实施方式
实施例
参照图1至图5，双层式负载腔室的独立回填及抽气结构，包括下层腔体1，上层腔体2，上层腔室A3，上层腔室B4，下层腔室C5，下层腔室D6，上层回填组件7，下层抽气管路8，下层回填组件9，上层抽气管路10，上层抽气管道结构11，上层回填管道结构12，下层回填管路结构13及下层抽气管路结构14。上述下层腔体1与上层腔体2为独立结构，通过定位将两层腔体连接在一起成为双层式负载腔室。所述上层腔体2上的抽气管道结构10及回填管道结构12左右对称，分别连通到上层腔室A3、上层腔室B4，上层腔室A3、上层腔室B4通过上层抽气管道结构11和上层回填管道结构12而连通；所述下层腔体1上的抽气管道结构14及回填管道结构13左右对称，分别连通到下层腔室C5、下层腔室D6，下层腔室C5、下层腔室D6通过下层抽气管道结构14和下层回填管道结构13而连通。所述上层回填组件7与上层回填管道结构12连接；下层回填组件9与下层回填管路结构13连接；所述上层抽气管路10与上层抽气管道结构11连接，下层抽气管道结构8与下层抽气管路结构14连接。
参照图6，下层回填管道13与上层回填管道12上分别有控制阀AB，当控制阀A打开，控制阀B关闭时，可实现下层腔体2的回填，反之可实现上层腔体1的回填；当控制阀A，B同时打开，可实现两层腔体的同时回填。上层抽气管路11和下层抽气管路13上分别有角阀AB，当角阀A打开，角阀B关闭时，可实现上层腔体2的抽气，反之可实现下层腔体1的抽气；当角阀A，B同时打开，可实现两层腔体的同时抽气。另外，当控制阀B、角阀A打开，控制阀A、角阀B关闭时，可实现上层腔体2抽气和回填的同时操作，四组阀可任意组合控制，按需求操作。
两层腔体回填组件与抽气组件全部安装于腔体的底部，提高了设备整体的美观性。
Claims (2)
1.双层式负载腔室的独立回填及抽气结构，其特征在于：它包括下层腔体、上层腔体、上层腔室A、上层腔室B、下层腔室C、下层腔室D、上层回填组件、下层抽气管路、下层回填组件、上层抽气管路、上层抽气管道结构、上层回填管道结构、下层回填管路结构及下层抽气管路结构，上述下层腔体与上层腔体为独立结构，通过定位将两层腔体连接在一起成为双层式负载腔室：
所述上层腔体上的抽气管道结构及回填管道结构左右对称，分别连通到上层腔室A、上层腔室B，上层腔室A、上层腔室B通过上层抽气管道结构和上层回填管道结构而连通；
所述下层腔体上的抽气管道结构及回填管道结构左右对称，分别连通到下层腔室C、下层腔室D，下层腔室C、下层腔室D通过下层抽气管道结构和下层回填管道结构而连通；
所述上层回填组件与上层回填管道结构连接；下层回填组件与下层回填管路结构连接；
所述上层抽气管路与上层抽气管道结构连接，下层抽气管道结构与下层抽气管路结构连接，上、下层单独回填，回填位置靠近传片口且位于基板支架下面。
2.如权利要求1所述的双层式负载腔室的独立回填及抽气结构的控制方法，其特征在于：所述下层回填管道与上层回填管道上分别有控制阀AB，当控制阀A打开，控制阀B关闭时，可实现下层腔体的回填，反之可实现上层腔体的回填；当控制阀A，B同时打开，可实现两层腔体的同时回填，上层抽气管路和下层抽气管路上分别有角阀AB，当角阀A打开，角阀B关闭时，可实现上层腔体的抽气，反之可实现下层腔体的抽气；当角阀A，B同时打开，可实现两层腔体的同时抽气，另外，当控制阀B、角阀A打开，控制阀A、角阀B关闭时，可实现上层腔体抽气和回填的同时操作，四组阀可任意组合控制，按需求操作。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510178153.XA CN104878364B (zh) | 2015-04-15 | 2015-04-15 | 双层式负载腔室的独立回填及抽气结构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510178153.XA CN104878364B (zh) | 2015-04-15 | 2015-04-15 | 双层式负载腔室的独立回填及抽气结构 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104878364A CN104878364A (zh) | 2015-09-02 |
| CN104878364B true CN104878364B (zh) | 2017-11-21 |
Family
ID=53946033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510178153.XA Active CN104878364B (zh) | 2015-04-15 | 2015-04-15 | 双层式负载腔室的独立回填及抽气结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104878364B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106611722A (zh) * | 2015-10-21 | 2017-05-03 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 两腔室集定位与对中心功能于一体的双层支架结构 |
| CN108470704B (zh) * | 2017-02-23 | 2021-01-29 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 传片腔室及半导体加工设备 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN201320860Y (zh) * | 2008-11-28 | 2009-10-07 | 宁波尤利卡太阳能科技发展有限公司 | 太阳电池组件层压机真空装置 |
| CN101922437A (zh) * | 2010-08-05 | 2010-12-22 | 友达光电股份有限公司 | 真空设备 |
| CN102294833A (zh) * | 2011-09-14 | 2011-12-28 | 上海尔华杰机电装备制造有限公司 | 一种真空灌注用真空泵站系统 |
| CN103233879A (zh) * | 2013-04-24 | 2013-08-07 | 江苏宇天港玻新材料有限公司 | 一种连续真空生产线双腔转换室抽气系统 |
| DE102013206210A1 (de) * | 2013-04-09 | 2014-10-09 | Von Ardenne Gmbh | Vakuumbeschichtungsvorrichtung und Verfahren zur Mehrfachbeschichtung |
| CN203890428U (zh) * | 2014-04-09 | 2014-10-22 | 广东光耀玻璃有限公司 | 一种镀膜设备 |
-
2015
- 2015-04-15 CN CN201510178153.XA patent/CN104878364B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN201320860Y (zh) * | 2008-11-28 | 2009-10-07 | 宁波尤利卡太阳能科技发展有限公司 | 太阳电池组件层压机真空装置 |
| CN101922437A (zh) * | 2010-08-05 | 2010-12-22 | 友达光电股份有限公司 | 真空设备 |
| CN102294833A (zh) * | 2011-09-14 | 2011-12-28 | 上海尔华杰机电装备制造有限公司 | 一种真空灌注用真空泵站系统 |
| DE102013206210A1 (de) * | 2013-04-09 | 2014-10-09 | Von Ardenne Gmbh | Vakuumbeschichtungsvorrichtung und Verfahren zur Mehrfachbeschichtung |
| CN103233879A (zh) * | 2013-04-24 | 2013-08-07 | 江苏宇天港玻新材料有限公司 | 一种连续真空生产线双腔转换室抽气系统 |
| CN203890428U (zh) * | 2014-04-09 | 2014-10-22 | 广东光耀玻璃有限公司 | 一种镀膜设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104878364A (zh) | 2015-09-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104878364B (zh) | 双层式负载腔室的独立回填及抽气结构 | |
| CN104846347B (zh) | 双层式负载腔室的回填及抽气结构 | |
| CN103258955B (zh) | 有机电子器件的封装方法 | |
| RU2012138544A (ru) | Магнитный туннельный переход с усовершенствованным туннельным барьером | |
| WO2011044046A3 (en) | Improved multichamber split processes for led manufacturing | |
| CN103021916A (zh) | 晶圆传输系统 | |
| CN101215692B (zh) | 多反应腔原子层沉积装置和方法 | |
| WO2011156349A3 (en) | Methods for forming interconnect structures | |
| CN105839079A (zh) | 真空镀膜装置 | |
| CN106784372A (zh) | 一种oled薄膜封装结构及方法 | |
| CN103928378A (zh) | 双层传片腔体 | |
| CN106784368A (zh) | 一种显示面板封装结构、显示装置及制作方法 | |
| MY164208A (en) | Modular coater separation | |
| CN108232029A (zh) | 一种封装方法、封装结构和显示装置 | |
| CN104795508B (zh) | 一种柔性oled器件结构及其制备方法 | |
| CN104752633A (zh) | 一种薄膜封装方法 | |
| CN206437378U (zh) | 一种复合食品袋 | |
| KR20170074286A (ko) | 방수 특성이 향상된 배리어 및 이를 포함하는 ｏｌｅｄ | |
| CN103400942A (zh) | 遮罩存放与基板输送室及其操作方法 | |
| CN203382243U (zh) | 双斗不间断真空供粉系统 | |
| WO2016173125A1 (zh) | 双层式负载腔室真空与大气快速平衡结构 | |
| CN106574358A (zh) | 蒸镀装置、蒸镀方法及有机el元件 | |
| CN203794984U (zh) | 用于原子层薄膜沉积的反应装置 | |
| CN103031526A (zh) | 用于在硅衬底上形成钽沉积膜的反应腔及其应用 | |
| CN104630701B (zh) | 沉积装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: No.900 Shuijia, Hunnan District, Shenyang City, Liaoning Province Patentee after: Tuojing Technology Co.,Ltd. Address before: 110179 3rd floor, No.1-1 Xinyuan street, Hunnan New District, Shenyang City, Liaoning Province Patentee before: PIOTECH Co.,Ltd. |
|
| CP03 | Change of name, title or address |