CN104834404A - 能反射彩色光的触摸屏及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及触摸屏技术领域,尤其涉及能反射彩色光的触摸屏及其制作方法,包括有玻璃基板,玻璃基板下端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层、二氧化硅膜层、氧化铟锡镀膜层、遮光油墨层,本发明利用遮光油墨层作为反射层,通过五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层作为减反层,依据多层膜的光学干涉作用,使反射率减小,提高透过率,从而消除氧化铟锡镀膜层图案底影,提高该触摸屏玻璃的显示清晰度和显示效果,并且玻璃基板上端面的周缘形成弧形边,玻璃基板的弧形边具有凸透镜的作用,能够反射彩色光,更美观,反光结构简单。
Description
技术领域:
本发明涉及触摸屏技术领域,尤其涉及能反射彩色光的触摸屏及其制作方法。
背景技术:
触摸屏(Touch panel)又称为触控屏、触控面板,是在玻璃表面贴上一层透明的特殊金属导电物质。当手指触摸在金属层上时,触点的电容就会发生变化,使得与之相连的振荡器频率发生变化,通过测量频率变化可以确定触摸位置获得信息。
现有触摸屏是在玻璃基板上直接设置ITO导电层和导电线路,透过率较低,反射率高,很难看清屏幕上的图案,视觉效果差,并且玻璃基板的周缘都是直角边,不美观,周缘也不会反射光,周缘没有反光效果。
发明内容:
本发明的目的就是针对现有技术存在的不足而提供一种周缘能够反射彩色光、更美观的触摸屏,还提供了这种能反射彩色光的触摸屏的制作方法。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:
能反射彩色光的触摸屏,包括有玻璃基板,玻璃基板下端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层、二氧化硅膜层、氧化铟锡镀膜层、遮光油墨层,玻璃基板上端面的周缘形成弧形边。
所述玻璃基板上端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层、二氧化硅膜层。
所述五氧化二铌膜层通过真空电镀方式结合在玻璃基板端面上,二氧化硅膜层通过真空电镀方式结合在五氧化二铌膜层表面上,氧化铟锡镀膜层通过真空电镀方式结合在二氧化硅膜层表面上,遮光油墨层通过丝印方式结合在氧化铟锡镀膜层表面上。
所述遮光油墨层采用黑色或彩色绝缘油墨。
所述五氧化二铌膜层的厚度为5-10nm,二氧化硅膜层的厚度为40-70nm,氧化铟锡镀膜层的厚度为30-60nm。
本发明还提供了能反射彩色光的触摸屏的制作方法,包括以下步骤:
A、在玻璃基板下端面电镀一层五氧化二铌膜层;
B、在五氧化二铌膜层下表面电镀一层二氧化硅膜层;
C、在二氧化硅膜层下表面电镀一层氧化铟锡镀膜层;
D、在氧化铟锡镀膜层下表面的周缘丝印一层遮光油墨层;
E、在玻璃基板上端面的周缘通过磨削加工方式形成弧形边。
所述五氧化二铌膜层通过真空电镀方式结合在玻璃基板端面上,二氧化硅膜层通过真空电镀方式结合在五氧化二铌膜层表面上,氧化铟锡镀膜层通过真空电镀方式结合在二氧化硅膜层表面上。
所述遮光油墨层采用黑色或彩色绝缘油墨。
所述五氧化二铌膜层的厚度为5-10nm,二氧化硅膜层的厚度为40-70nm,氧化铟锡镀膜层的厚度为30-60nm。
本发明有益效果在于:本发明的能反射彩色光的触摸屏包括有玻璃基板,玻璃基板下端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层、二氧化硅膜层、氧化铟锡镀膜层、遮光油墨层,本发明利用遮光油墨层作为反射层,通过五氧化二铌膜层和二氧化硅膜层作为减反层,依据多层膜的光学干涉作用,使反射率减小,提高透过率,从而消除氧化铟锡镀膜层图案底影,提高该触摸屏玻璃的显示清晰度和显示效果,并且玻璃基板上端面的周缘形成弧形边,玻璃基板的弧形边具有凸透镜的作用,入射白色光依次透过五氧化二铌膜层、二氧化硅膜层、氧化铟锡镀膜层后,在遮光油墨层形成反射影射到弧形边并在弧形边凸透镜功能的共同作用下形成视觉上的蓝色反光或其它彩色反光,能够反射彩色光,更美观,反光结构简单。
附图说明:
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式:
下面结合附图对本发明作进一步的说明,见图1所示,本发明的能反射彩色光的触摸屏,包括有玻璃基板1,玻璃基板1下端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层2、二氧化硅膜层3、氧化铟锡镀膜层4、遮光油墨层5,本发明利用遮光油墨层5作为反射层,通过五氧化二铌膜层2和二氧化硅膜层3作为减反层,依据多层膜的光学干涉作用,使反射率减小,提高透过率,从而消除氧化铟锡镀膜层4图案底影,提高该触摸屏玻璃的显示清晰度和显示效果,并且玻璃基板1上端面的周缘形成弧形边11,玻璃基板1的弧形边11具有凸透镜的效果,入射白色光依次透过五氧化二铌膜层2、二氧化硅膜层3、氧化铟锡镀膜层4后,在遮光油墨层5形成反射影射到弧形边11并在弧形边11凸透镜功能的共同作用下形成视觉上的蓝色反光或其它彩色反光,能够反射彩色光,更美观,反光结构简单。
玻璃基板1上端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层2、二氧化硅膜层3,增强玻璃基板1上端面的透过率,进一步提高该触摸屏玻璃的显示清晰度和显示效果。
五氧化二铌膜层2通过真空电镀方式结合在玻璃基板1端面上,二氧化硅膜层3通过真空电镀方式结合在五氧化二铌膜层2表面上,氧化铟锡镀膜层4通过真空电镀方式结合在二氧化硅膜层3表面上,遮光油墨层5通过丝印方式结合在氧化铟锡镀膜层4表面上,各层之间结合稳固。遮光油墨层5采用黑色或彩色绝缘油墨。
五氧化二铌膜层2的厚度为5-10nm,二氧化硅膜层3的厚度为40-70nm,氧化铟锡镀膜层4的厚度为30-60nm,增强玻璃的光线透过率, 降低反射率。
本发明还提供了上述能反射彩色光的触摸屏的制作方法,包括以下步骤:
A、在玻璃基板1下端面电镀一层五氧化二铌膜层2;
B、在五氧化二铌膜层2下表面电镀一层二氧化硅膜层3;
C、在二氧化硅膜层3下表面电镀一层氧化铟锡镀膜层4;
D、在氧化铟锡镀膜层4下表面的周缘丝印一层遮光油墨层5;
E、在玻璃基板1上端面的周缘通过磨削加工方式形成弧形边11。
五氧化二铌膜层2通过真空电镀方式结合在玻璃基板1端面上,二氧化硅膜层3通过真空电镀方式结合在五氧化二铌膜层2表面上,氧化铟锡镀膜层4通过真空电镀方式结合在二氧化硅膜层3表面上,各层之间结合稳固。遮光油墨层5采用黑色或彩色绝缘油墨。
五氧化二铌膜层2的厚度为5-10nm,二氧化硅膜层3的厚度为40-70nm,氧化铟锡镀膜层4的厚度为30-60nm,,增强玻璃的光线透过率, 降低反射率。
由本发明的方法制得的触摸屏利用遮光油墨层5作为反射层,通过五氧化二铌膜层2和二氧化硅膜层3作为减反层,依据多层膜的光学干涉作用,使反射率减小,提高透过率,从而消除氧化铟锡镀膜层4图案底影,提高该触摸屏玻璃的显示清晰度和显示效果,并且玻璃基板1上端面的周缘形成弧形边11,玻璃基板1的弧形边11具有凸透镜的效果,入射白色光依次透过五氧化二铌膜层2、二氧化硅膜层3、氧化铟锡镀膜层4后,在遮光油墨层5形成反射影射到弧形边11并在弧形边11凸透镜功能的共同作用下形成视觉上的蓝色反光或其它彩色反光,能够反射彩色光,更美观,反光结构简单。
当然,以上所述仅是本发明的较佳实施例,故凡依本发明专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本发明专利申请范围内。
Claims (9)
1.能反射彩色光的触摸屏,包括有玻璃基板(1),其特征在于:所述玻璃基板(1)下端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层(2)、二氧化硅膜层(3)、氧化铟锡镀膜层(4)、遮光油墨层(5),玻璃基板(1)上端面的周缘形成弧形边(11)。
2.根据权利要求1所述的能反射彩色光的触摸屏,其特征在于:所述玻璃基板(1)上端面依次层叠结合有五氧化二铌膜层(2)、二氧化硅膜层(3)。
3.根据权利要求1所述的能反射彩色光的触摸屏,其特征在于:所述五氧化二铌膜层(2)通过真空电镀方式结合在玻璃基板(1)端面上,二氧化硅膜层(3)通过真空电镀方式结合在五氧化二铌膜层(2)表面上,氧化铟锡镀膜层(4)通过真空电镀方式结合在二氧化硅膜层(3)表面上,遮光油墨层(5)通过丝印方式结合在氧化铟锡镀膜层(4)表面上。
4.根据权利要求1所述的能反射彩色光的触摸屏,其特征在于:所述遮光油墨层(5)采用黑色或彩色绝缘油墨。
5.根据权利要求1~4任意一项所述的能反射彩色光的触摸屏,其特征在于:所述五氧化二铌膜层(2)的厚度为5-10nm,二氧化硅膜层(3)的厚度为40-70nm,氧化铟锡镀膜层(4)的厚度为30-60nm。
6.能反射彩色光的触摸屏的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
A、在玻璃基板(1)下端面电镀一层五氧化二铌膜层(2);
B、在五氧化二铌膜层(2)下表面电镀一层二氧化硅膜层(3);
C、在二氧化硅膜层(3)下表面电镀一层氧化铟锡镀膜层(4);
D、在氧化铟锡镀膜层(4)下表面的周缘丝印一层遮光油墨层(5);
E、在玻璃基板(1)上端面的周缘通过磨削加工方式形成弧形边(11)。
7.根据权利要求6所述的能反射彩色光的触摸屏的制作方法,其特征在于:所述五氧化二铌膜层(2)通过真空电镀方式结合在玻璃基板(1)端面上,二氧化硅膜层(3)通过真空电镀方式结合在五氧化二铌膜层(2)表面上,氧化铟锡镀膜层(4)通过真空电镀方式结合在二氧化硅膜层(3)表面上。
8.根据权利要求6所述的能反射彩色光的触摸屏的制作方法,其特征在于:所述遮光油墨层(5)采用黑色或彩色绝缘油墨。
9.根据权利要求6~8任意一项所述的能反射彩色光的触摸屏的制作方法,其特征在于:所述五氧化二铌膜层(2)的厚度为5-10nm,二氧化硅膜层(3)的厚度为40-70nm,氧化铟锡镀膜层(4)的厚度为30-60nm。
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |