CN104726830B - 聚焦环的矫正设备 - Google Patents

Abstract

一种聚焦环的矫正设备，在承载聚焦环的基座上安装有矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，所述矫正支杆的一端设置施压支点；位于所述矫正支杆的一侧设有矫正判定部件。所述矫正支杆的施压支点抵住聚焦环的待矫正部位，之后绕所述转轴转动矫正支杆，向所述聚焦环施加力，以矫正聚焦环，使聚焦环的形变部分回复原位。矫正过程中，当所述聚焦环碰触所述矫正判定部件时，表明所述聚焦环矫正完毕。所述矫正设备基于杠杆原理可轻松而快捷地致使聚焦环形变，矫正判定部件可有效判断聚焦环是否矫正到位，从而快捷而高效地完成聚焦环矫正。

Description

聚焦环的矫正设备

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种聚焦环的矫正设备。

背景技术

溅射是现代半导体芯片生产过程中常用的一种薄膜淀积技术，其利用高能粒子轰击具有高纯度的靶材，使靶材原子从表面逸出并均匀地沉积于衬底上形成均匀的薄膜层，用于在衬底上形成集成电路的各阻挡层、互联线以及接触层。然而在溅射过程中，由于高能粒子由各个方向轰击靶材，导致从靶材表面逸出的靶材原子会从各个方向脱离靶材表面，之后沿直线到达晶圆表面，其无法保证衬底各部分沉积的薄膜层的均匀性，从而影响各薄膜层性能。

为此，参考图1所示，为了提高各薄膜层的沉积均匀性，在溅射过程中通常会在靶材1和晶圆2之间设置一个聚焦环3，所述聚焦环3可有效约束靶材原子的运动轨迹，使得从靶材1表面溅射出来的朝各方向运动的靶材原子被聚焦到晶圆2上方，并均匀的沉积在晶圆2上，从而提高晶圆2上方沉积的薄膜层的均匀性。聚焦环3的内外表面还可形成有花纹，以吸附溅射过程中产生的大量颗粒物，从而起到净化的作用。

在使用的过程中，在聚焦环的靠近靶材的一侧会附着一些溅离靶材后的金属离子，形成金属离子层，并随着溅射工艺进行，所述金属离子层不断加厚。因而当聚焦环使用一段时间后，需及时更换聚焦环，从而避在聚焦环表面形成的金属离子层过厚，而出现剥落（peeling）现象，从而导致镀膜后的晶圆品质不良。

然而，更换聚焦环的代价较高，在实际使用过程中，基于溅射附着于聚焦环上的金属层仅位于聚焦环靠近靶材的一侧，在将取下的聚焦环反向安装，仍然可继续使用，且重复使用的聚焦环不会影响溅射工艺正常进行。但在聚焦环在一次使用后，基于在溅射工艺中，溅射机台的高温高压下，聚焦环内部聚集较多的内应力，在聚焦环冷却后，应力释放，参考图2所示，聚焦环发生变形，尤其是在聚焦环的开口处两侧部分11和12会出现明显的向外扩张现象（虚线部分所示）。为此，需要将聚焦环重新矫正，以便于继续使用。

现有的矫正工艺一般通过人力把聚焦环拗端口部位，将聚焦环的开口部分11和12回复原位，然而聚焦环使用时，安装精度要求高，往往需要人力反复矫正才可回复原位，而且在反复矫正期间，会破坏附着于聚焦环上的金属层与聚焦环的连接结构，致使附着于聚焦环上的金属层发生小裂纹或是部分附着膜发生断裂（人眼往往无法识别），从而在聚焦环的二次使用过程中，这部分金属层出现剥落现象，或是溅射过程中的离子击中这部分金属层后出现放电缺陷，从而降低镀膜质量，更甚者致使镀膜工艺失败。

为此，如此提高聚焦环的矫正工艺，以降低聚焦环上的金属层出现形变概率，是本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种聚焦环的矫正设备，可有效提高聚焦环的矫正效率以及精度，避免在矫正过程中，破坏聚焦环与附着于聚焦环表面的金属层的连接结构。

为解决上述问题，本发明提供一种聚焦环的矫正设备，包括：

承载聚焦环的基座，所述基座上设有用于放置聚焦环的聚焦环放置区域，所述聚焦环放置区域包括受压支点；

设置于所述基座上，用于固定聚焦环的固定部件；

安装在所述基座上的矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，且所述矫正支杆绕所述转轴转动；

所述矫正支杆的一端设置有施压支点，所述施压支点与所述受压支点位置相对应；

设置在所述基座上，用于判断聚焦环是否矫正到位的矫正判定部件。

可选地，所述聚焦环放置区域为环形结构。

可选地，所述固定部件包括多根分散设置在所述基座上的固定轴，且所述固定轴沿轴向凸起于所述基座表面，多根所述固定轴分布与所述聚焦环放置区域周侧。

可选地，多根所述固定轴中，部分位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘，部分位于所述聚焦环放置区域的环外侧边缘，所述聚焦环放置区域嵌于多根所述固定轴之间。

可选地，在所述基座上开设多条第一凹槽，所述多条第一凹槽与多根固定轴一一对应；

所述多条第一凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；

各条所述固定轴安装在对应的第一凹槽内，且沿所述第一凹槽延伸方向调整位置。

可选地，所述聚焦环的上设置有多根沿所述聚焦环径向设置的安装轴，多根所述固定轴中至少部分固定轴与所述安装轴位置对应设置，且该部分固定轴中至少两根固定轴沿聚焦环径向分别位于对应的安装轴的两侧。

可选地，所述矫正判定部件包括第一判定轴，所述第一判定轴位于所述聚焦环放置区域的环外侧。

可选地，所述第一判定轴与所述聚焦环放置区域之间的距离为0～4mm。

可选地，所述矫正判定部件还包括第二判定轴，所述第二判定轴位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘；所述第二判定轴与所述受压支点之间距离，小于所述第一判定轴与所述受压支点之间距离。

可选地，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第一判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。

可选地，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第二判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。

可选地，所述第一判定轴第二判定轴间的距离为6～8mm。

可选地，所述判定部件还包括第三判定轴，所述第三判定轴位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘；

所述第三判定轴与所述第一判定轴之间距离，大于所述第三判定轴与所述第二判定轴之间距离；

所述第三判定轴与所述受压支点之间的距离，小于所述受压支点与所述第二判定轴之间距离。

可选地，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第三判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。

可选地，所述转轴位于所述聚焦环放置区域外侧。

可选地，在所述基座的表面，以及所述固定部件和矫正判定部件的表面覆盖有保护层。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

在承载聚焦环的基座上安装有矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，所述矫正支杆的一端设置施压支点。使用时，将聚焦环通过固定部件固定在基座的聚焦环放置区域后，所述矫正支杆的施压支点抵住位于聚焦环放置区域的受压支点上的聚焦环的待矫正部位，之后绕所述转轴转动矫正支杆，向所述聚焦环施加力，致使聚焦环发生形变，以矫正聚焦环。在所述基座上，设有矫正判定部件。在矫正前，所述聚焦环不与矫正判定部件发生接触，而在转动所述矫正支杆向聚焦环施加力，以致使聚焦环形变过程中，当所述聚焦环碰触所述矫正判定部件时，表明所述聚焦环矫正到位，从而避免矫正过量。上述技术方案，基于杠杆原理可轻松而快捷地致使聚焦环形变，而矫正判定部件可有效判断聚焦环是否矫正完全，从而提高聚焦环矫正工艺效率，避免聚焦环反复矫正而破坏聚焦环表面附着的金属层与聚焦环之间的连接结构，以及金属层的结构，从而在聚焦环再一次使用过程中，降低出现基于所述金属层发生形变而导致的放电和金属层剥落现象的概率。

附图说明

图1是现有溅射工艺的示意图；

图2是溅射工艺后，出现形变的聚焦环的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的聚焦环的矫正设备的结构示意图；

图4和图5是采用图3所示的聚焦环的矫正设备矫正图2所示的形变后的聚焦环的示意图；

图6为本发明另一个实施例提供的聚焦环的矫正设备的结构示意图。

具体实施方式

正如背景技术所述，现有的对已经经过一次溅射工艺的聚焦环进行矫正的工艺效率较低，矫正过程中往往需要对聚焦环进行反复矫正才可使得聚焦环形变部分回复原位。而在反复矫正的过程中，会破坏在第一次溅射工艺中，形成于聚焦环表面的金属层与聚焦环的连接强度，使得金属层出现形变或是断裂等缺陷，上述缺陷会导致聚焦环二次使用过程中，金属层剥落，或是溅射离子击中金属层的形变部分后发生放电缺陷，从而影响最终形成的镀膜质量。

为此，本发明提供了一种聚焦环的矫正设备，所述聚焦环的矫正设备可有效提高聚焦环矫正效率，同时可有效降低基于聚焦环矫正过程中，破坏附着与聚焦环上的金属层的结构，以及金属层与聚焦环的连接强度的几率。进而有效降低聚焦环在二次使用过程中，聚焦环表面的金属层出现剥落以及放电缺陷。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

参考图3所示，聚焦环的矫正设备包括了用于承载聚焦环3的基座。

具体地，本实施例中，所述基座包括了呈竖直状放置的放置台10，所述放置台上设有用于放置聚焦环3的聚焦环放置区域60，所述聚焦环放置区域60结构与所要矫正的聚焦环矫正后的结构相匹配。

在所述放置台10上设置有固定部件，所述固定部件用于将聚焦环固定在所述放置台10上。

本实施例中，所述固定部件包括了多根分散设置在所述放置台10上的固定轴。如图3所示的聚焦环的矫正设备，所述固定部件包括了4根固定轴51、52、53和54。

结合参考图3、图4和图5所示，本实施例中，所述4根固定轴51、52、53和54沿轴向凸起于所述放置台10的表面，可选地，所述固定轴51、52、53和54轴向垂直于所述放置台10的表面，且多根所述固定轴分散地分步于所述聚焦环放置区域的周侧。

本实施例中，所述聚焦环放置区域60圆环形结构，部分固定轴位于所述聚焦环放置区域60环内侧边缘，如固定轴51；而部分固定轴位于所述聚焦环放置区域60的环外侧边缘，如固定轴52、53和54。即多根所述固定轴排布形成了聚焦环放置区域60的结构，最终形成的聚焦环放置区域60嵌于所述的多根固定轴之间。

结合参考图3和图4所示，本实施例中，使用时，呈圆形的聚焦环3放置在所述聚焦环放置区域60内，所述4根固定轴51、52、53和54的位置与所述聚焦环3位置相对应。具体地，所述固定轴51位于所述聚焦环3环内侧，其余3根固定轴52、53和54位于所述聚焦环3的环外侧，所述聚焦环3嵌于所述4根固定轴51、52、53和54之间。

如图4和图5所示，使用时，所述放置台10的表面呈垂直放置，所述4根固定轴51、52、53和54的轴向呈水平向设置。其中，所述固定轴51位于所述聚焦环3内，所述固定轴52和54位于所述聚焦环3的下方，以托住所述聚焦环3。

本实施例中，所述聚焦环3以钽环为例，但本发明提供的聚焦环的矫正设备同样适用于除钽环外的其他材料的聚焦环。

参考图2、4和5所示，所述聚焦环3上设有多根沿所述聚焦环3的径向设置的安装轴31、32、33、34和35，用以将所述聚焦环3固定在溅射设备上。所述聚焦环的矫正设备上，多根所述固定轴中至少部分固定轴与所述安装轴位置对应设置，且该部分固定轴中至少两根固定轴沿聚焦环径向分别位于对应的安装轴的两侧。从而提高所述聚焦环3的固定精度和稳定度。

具体地，如图4和图5所示，本实施例中，所述固定轴52和54和53分别与所述与安装轴33、34和35位置对应设置。且沿所述安装轴33和34所在的聚焦环3的径向，所述固定轴52和54分别位于安装轴33和34右侧，沿所述安装轴35所在的聚焦环3的径向，所述固定轴53位于安装轴35左侧。

本实施例中，所述固定轴53抵住所述安装轴35，且固定轴53垂直于所述基座10的表面，使得所述安装轴35架设在所述固定轴32上，提高聚焦环3放置在所述放置台10上的稳定性。而在所述固定轴52和所述安装轴33之间，以及所述固定轴54和安装轴34之间留有间隙。

在矫正所述聚焦环3期间，所述聚焦环3受到外部的矫正力后，在聚焦环3的内部形成局部的应力，若将聚焦环3不发生任何移动地牢固地定位在所述放置台10上，在矫正完毕，将所述聚焦环3取下后，所述聚焦环3基于内部应力释放会出现局部形变。本实施例中，仅将所述聚焦环3放置在所述放置台10上，在矫正过程中，基于外力作用所述聚焦环3可发生细微的移动，在矫正过程中，便可充分释放内部应力，从而避免矫正过后，聚焦环3再出现局部形变的缺陷。

可选地，参考图6所示，在所述放置台10的表面，开设有多条第一凹槽，各条所述第一凹槽沿以所述聚焦环放置区域60的中心为圆心的圆的径向延伸。本实施例中，所述多条第一凹槽沿所述聚焦环3的径向延伸，且各条所述第一凹槽与各个所述固定轴一一对应。

具体地，本实施例中，在所述放置台10表面开设有4条第一凹槽61、62、63和64，所述固定轴51、52、53和54分别安装4条所述第一凹槽内。且各条所述第一凹槽作为固定轴的移动轨道，所述固定轴可在各第一凹槽内移动，从而调整各固定轴的位置。上述技术方案可调整嵌于各个固定轴51、52、53和54之间所形成的聚焦环放置区域结构，从而使得所述聚焦环的矫正设备适用于不同尺寸和结构的聚焦环，如常用的聚焦环3包括直径为200mm和300mm等多种尺度。

参考图3所示，所述聚焦环的矫正设备还包括安装在所述放置台10上的矫正支杆20。

所述矫正支杆20通过转轴21活动连接在所述放置台10上，且所述矫正支杆20绕所述转轴21转动。所述矫正支杆20的一端设置有施压支点22。

本实施例中，所述转轴21位于所述聚焦环3的外侧，使得所述矫正支杆20位于所述聚焦环3的外侧（即位于所述聚焦环放置区域的外侧）。

结合参考图4和图5所示，图4为矫正前发生形变的聚焦环的结构示意图，图5为经矫正的聚焦环的结构示意图。

结合参考图2和图4所示，在一次溅射工艺后，聚焦环3的开口处两侧的开口部分11和12明显地发生沿圆环的径向呈向外翻起的形变结构。

以矫正开口部分12为例，将所述聚焦环3固定在所述放置台10上后，使所述矫正支杆20的施压支点22抵住所述聚焦环3的开口部分12。具体地，所述施压支点22抵住所述聚焦环3的安装轴32，所述安装轴32为聚焦环3的受压支点（所述聚焦环放置区域中，与所述聚焦环3的受压支点对应的部分为聚焦环放置区域的受压点）。之后参考图5所示，绕所述转轴21转动所述矫正支杆20，由矫正支杆20的另一端施加力，基于杠杆原理，将向外翻起的开口部分12向下压，使其回复原位。

参考图3至图5所示，在所述基座10上，设有矫正判定部件。所述矫正判定部件用于判断所述聚焦环是否矫正到位。

本实施例中，所述矫正判定部件还包括第一判定轴41。所述第一判定轴41位于所述聚焦环放置区域60（即聚焦环3）的环外侧。

参考图2所示，在经过一次溅射工艺后，聚焦环3的开口部分11和12向外翻起，相应地，聚焦环3上与所述开口部分11和12相邻的部分呈向内凹陷。在聚焦环矫正过程中，所述开口部分32受力后，基于力的传递，在除受力点外的其他部分也收到力的作用，向内凹陷部分则向外凸起。

矫正工艺前，所述聚焦环3向内凹陷部分与所述第一判定轴41位置对应，且聚焦环3不与所述凹陷部分相接触。转动所述矫正支杆20，所述施压支点22抵住所述聚焦环3的安装轴32后，开口部分12受压而沿聚焦环3径向向内发生形变，而凹陷部分则沿聚焦环3径向向外侧凸起，当所述聚焦环3触及所述第一判定轴41时，说明所述发生形变的开口部分12已位于所述聚焦环放置区域60内，即所述开口部分12已被矫正回复原位。

可选地，本实施例中，所述第一判定轴41与所述聚焦环放置区域60的环外侧边缘的距离为0～4mm，进一步可选地为1～4mm。所述聚焦环放置区域60与待矫正的聚焦环的结构相匹配，即所述聚焦环放置区域60与未发生形变的聚焦环的结构相匹配。然而在经过一次溅射工艺后，所述聚焦环上表层镀有一层金属层，且形变后的聚焦环难以被矫正至未发生形变的状态；此外在矫正过程中，基于聚焦环发生形变程度不同，聚焦环各部分的矫正准确度存有偏差（即当某一部分矫正到位后，其他部分不一定矫正到位）。本实施例中，所述第一判定轴41与所述聚焦环放置区域60的距离为0～4mm。因而所述在矫正过程中，给聚焦环矫正留有可接受的矫正偏差，从而提高聚焦环整体矫正准确度。所述第一判定轴411与所述聚焦环放置区域60的距离根据实际工艺而定。

参考图6所示，进一步可选地，在所述基座10上开设一条沿所述聚焦环3的径向（也即，沿以所述聚焦环放置区域60的中心为圆心的圆的径向）延伸的第二凹槽65，所述第一判定轴41安装在所述第二凹槽65内，且所述第一判定轴41沿所述第二凹槽65的延伸方向调整位置。从而基于不同的聚焦环尺寸和结构，以及不同的需要确定所述聚焦环3的矫正标准。

本实施例中，可选地，所述矫正判定部件包括位于所述聚焦环3（即，所述聚焦环放置区域）的环内侧边缘的第二判定轴42，且所述第二判定轴42的表面与所述聚焦环放置区域60的边缘相贴。所述第二判定轴42，在所述向外翻起的开口部分11的下方。基于所述开口部分32发生形变，在矫正起初，所述聚焦环3放置在所述基座10上后，所述聚焦环3可能不与所述第二判定轴42接触。在矫正过程中，所述向外翻起的开口部分11沿聚焦环3径向向聚焦环3的圆心靠近，当所述聚焦环3与所述第二判定轴42接触后，所述聚焦环3矫正到位。

正如上所述，矫正过程中，基于聚焦环形变程度不同等原因，所述聚焦环各部分的矫正程度存有偏差，本实施例中，当所述聚焦环3接触所述第一判定轴41后，可再观察所述聚焦环3与所述第二判定轴42距离，所述聚焦环3与所述第二判定轴42距离较大，则可进一步施加力，矫正所述聚焦环3，直至所述聚焦环3碰触所述第二判定轴42，进而提高所述聚焦环3的矫正准确度。而且，在继续矫正所述聚焦环3期间，所述第一判定轴41可作为一个受力点，避免聚焦环3过度向外扩张。

本实施例中，所述第一判定轴41和第二判定轴42位置对应设置，两者间的距离为6～8mm，进一步可选为7.5mm左右。

本实施例中，在所述放置台10上开设一条沿所述聚焦环3的径向延伸的另一条第二凹槽66。所述第二判定轴42安装在所述第二凹槽66内，并根据聚焦环3的尺寸、结构以及矫正的标准（如矫正偏差允许值）调整所述第二判定轴42沿所述第二凹槽66延伸方的位置。

继续参考图3～图5所示，本实施例中，所述判定部件还包括第三判定轴43，所述第三判定轴43位于所述聚焦环放置区域的内侧边缘，即所述第三判定轴43与所述第二判定轴42位于一个与聚焦环3同圆心的圆环上。

本实施例中，所述第三判定轴43与所述第一判定轴41之间距离，大于所述第三判定轴43与所述第二判定轴42之间距离；且所述第三判定轴43与所述聚焦环3的安装轴32（即聚焦环3的受压支点）间的距离，小于所述安装轴32与所述第二判定轴42之间距离。即，所述第三判定轴43相比于所述第二判定轴42更接近与所述安装轴32（即聚焦环3的受压支点）。

本实施例中，所述聚焦环3的开口部分12呈沿径向向外翻出的结构，所述第三判定轴43相比于所述第二判定轴42更接近与所述安装轴32。相对地，由所述聚焦环3的开口为起始端，所述第二判定轴42和第三判定轴43分别位于聚焦环3发生形变的部分的两端。进而，在所述聚焦环3矫正过程中，当所述聚焦环3同时触及到所述第二判定轴42和第三判定轴43，可更为准确地判定所述聚焦环3是否矫正到位。

参考图6所示，在所述放置台10上开设一条沿所述聚焦环3的径向延伸的另一条第二凹槽67。所述第三判定轴43安装在所述第二凹槽67内，并根据聚焦环3的尺寸、结构以及矫正的标准（如矫正偏差允许值）调整所述第三判定轴43沿所述第二凹槽67延伸方的位置。

本实施例中，在所述基座10的表面，以及所述固定部件和矫正判定部件的表面覆盖保护层（图中未显示）。具体地，在所述基座10表面，各固定轴表面，以及矫正支杆20的表面覆盖有保护层。所述保护层可采用柔软的弹性材料，如铁氟龙材料的胶带等。

在所述聚焦环3结构精密，且在聚焦环3的表面刻有花纹。在矫正过程中，所述保护层可有效保护所述聚焦环3受到硬性接触后表面受到磨损。

本实施例中，所述矫正支杆的施压支点抵住所述聚焦环的形变部分，转动所述矫正支杆基于杠杆原理，向所述聚焦环的形变部分施加力，使得所述聚焦环的形变部分复位。采用本发明可快捷地实现所述聚焦环矫正。此外，所述矫正判定部件可监控所述聚焦环的矫正过程，以提醒使用者聚焦环是否矫正到位，从而避免矫正过量，提高聚焦环的矫正效率。

采用本发明提供的聚焦环的矫正设备可提高聚焦环的矫正效率，避免聚焦环反复矫正而破坏聚焦环表面附着的金属层与聚焦环之间的连接结构，以及金属层的结构，从而降低聚焦环在再一次溅射使用过程中，出现基于所述金属层发生形变而导致的放电和金属层剥落现象的概率。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (16)

1.一种聚焦环的矫正设备，其特征在于，包括：

承载聚焦环的基座，所述基座上设有用于放置聚焦环的聚焦环放置区域，所述聚焦环放置区域包括受压支点；

设置于所述基座上，用于固定聚焦环的固定部件；

安装在所述基座上的矫正支杆，所述矫正支杆通过转轴活动连接在所述基座上，且所述矫正支杆绕所述转轴转动；

所述矫正支杆的一端设置有施压支点，所述施压支点与所述受压支点位置相对应；

设置在所述基座上，用于判断聚焦环是否矫正到位的矫正判定部件。

2.根据权利要求1所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述聚焦环放置区域为环形结构。

3.根据权利要求2所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述固定部件包括多根分散设置在所述基座上的固定轴，且所述固定轴沿轴向凸起于所述基座表面，多根所述固定轴分布与所述聚焦环放置区域周侧。

4.根据权利要求3所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，

多根所述固定轴中，部分位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘，部分位于所述聚焦环放置区域的环外侧边缘，所述聚焦环放置区域嵌于多根所述固定轴之间。

5.根据权利要求3所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，在所述基座上开设多条第一凹槽，所述多条第一凹槽与多根固定轴一一对应；

所述多条第一凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；

各条所述固定轴安装在对应的第一凹槽内，且沿所述第一凹槽延伸方向调整位置。

6.根据权利要求3所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述聚焦环的上设置有多根沿所述聚焦环径向设置的安装轴，多根所述固定轴中至少部分固定轴与所述安装轴位置对应设置，且该部分固定轴中至少两根固定轴沿聚焦环径向分别位于对应的安装轴的两侧。

7.根据权利要求2所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述矫正判定部件包括第一判定轴，所述第一判定轴位于所述聚焦环放置区域的环外侧。

8.根据权利要求7所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述第一判定轴与所述聚焦环放置区域之间的距离为0～4mm。

9.根据权利要求7所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述矫正判定部件还包括第二判定轴，所述第二判定轴位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘；所述第二判定轴与所述受压支点之间距离，小于所述第一判定轴与所述受压支点之间距离。

10.根据权利要求7所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第一判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。

11.根据权利要求9所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第二判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。

12.根据权利要求10所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述第一判定轴第二判定轴间的距离为6～8mm。

13.根据权利要求9所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述判定部件还包括第三判定轴，所述第三判定轴位于所述聚焦环放置区域的环内侧边缘；

所述第三判定轴与所述第一判定轴之间距离，大于所述第三判定轴与所述第二判定轴之间距离；

所述第三判定轴与所述受压支点之间的距离，小于所述受压支点与所述第二判定轴之间距离。

14.根据权利要求13所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，在所述基座上开设一条第二凹槽，所述第二凹槽沿以所述聚焦环放置区域的中心为圆心的圆的径向延伸；所述第三判定轴安装在所述第二凹槽内，且沿所述第二凹槽延伸方向调整位置。

15.根据权利要求1所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，所述转轴位于所述聚焦环放置区域外侧。

16.根据权利要求1所述的聚焦环的矫正设备，其特征在于，在所述基座的表面，以及所述固定部件和矫正判定部件的表面覆盖有保护层。