CN104622492A - 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法 - Google Patents

一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104622492A
CN104622492A CN201310557196.XA CN201310557196A CN104622492A CN 104622492 A CN104622492 A CN 104622492A CN 201310557196 A CN201310557196 A CN 201310557196A CN 104622492 A CN104622492 A CN 104622492A
Authority
CN
China
Prior art keywords
grating
contrast imaging
phase contrast
ray
splitting optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310557196.XA
Other languages
English (en)
Inventor
吴自玉
王志立
高昆
刘刚
潘志云
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Science and Technology of China USTC
Original Assignee
University of Science and Technology of China USTC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Science and Technology of China USTC filed Critical University of Science and Technology of China USTC
Priority to CN201310557196.XA priority Critical patent/CN104622492A/zh
Priority to PCT/CN2014/071096 priority patent/WO2015066977A1/zh
Priority to US15/035,420 priority patent/US20160290937A1/en
Priority to EP14859707.3A priority patent/EP3069659A4/en
Priority to JP2016528887A priority patent/JP6529968B2/ja
Publication of CN104622492A publication Critical patent/CN104622492A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20075Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials by measuring interferences of X-rays, e.g. Borrmann effect
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/40Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • A61B6/4035Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis the source being combined with a filter or grating
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/48Diagnostic techniques
    • A61B6/484Diagnostic techniques involving phase contrast X-ray imaging
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • G01N23/041Phase-contrast imaging, e.g. using grating interferometers
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/42Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • A61B6/4291Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis the detector being combined with a grid or grating

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surgery (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)

Abstract

本发明公开了一种大视场、高衬度、低剂量的硬X射线光栅相位衬度成像装置和方法,所述装置包括源发射器(31)、源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32),该源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)依次设置在源发射器(31)的传播路径上,分束光栅(G1)的周期为30~50μm、高宽比不大于20。本发明通过增大光栅周期,提高分束光栅的空占比,同时增加物体到分析光栅的距离,提供了一种高图像衬度、低辐射剂量、大视场相位衬度成像的装置与方法,并且本发明能够利用常规多色X光源和现有的光栅制作工艺,适于实际临床应用。

Description

一种X射线光栅相位衬度成像装置和方法
技术领域
本发明涉及医学成像、无损检测、公共安全检查等技术领域,具体涉及一种X射线光栅相位衬度成像装置和方法,特别是一种大视场、高衬度、低剂量的硬X射线光栅相位衬度成像装置和方法。
背景技术
在现有的X射线成像技术中,图像衬度来源于物体对X射线吸收性质的差异。因此,这种技术在对金属、骨骼等重元素组成的物体进行成像时,能够获得很高的图像衬度。但是,在对主要由碳、氢、氧等轻元素组成的物体(如人体组织、有机聚合物材料等)进行成像时,图像衬度太低,得不到有用的物体信息。
相对于传统的吸收衬度成像,X射线相位衬度成像技术在对主要由碳、氢、氧等轻元素组成的物体进行成像时,能够获得很高的图像衬度。在硬X射线波段(10—100keV),对碳、氢、氧等元素,其折射率相位项是其吸收项的1000多倍(参见Momose A,Fukuda J的“Phase contrast radiographsof nonstained rat cerebellar specimen”,Med.Phys.22,375(1995))。因此,对软组织等弱吸收物质来说,测量X射线穿过物体时的相移信息要比检测振幅衰减信息有效得多。X射线相位衬度成像技术正是通过记录X射线穿过物体后相位的改变量(即相移)而形成图像衬度的成像技术,相比于传统的吸收衬度成像,相位衬度成像能够获得更高的图像衬度、更低的辐射剂量。自20世纪90年代中期以来,随着理论和实验方法的发展,X射线相位衬度成像技术已被广泛应用于医学、生物学、材料学等多个领域的探索研究中。
目前,硬X射线相位衬度成像方法主要有四种:晶体干涉仪成像(参见Bonse U,Hart M的“An X-ray interferometer”,Appl.Phys.Lett.6,155(1965)和Momose A,Takeda T,Itai Y的“Phase-contrast X-ray computedtomography for observing biological soft tissues”,Nat.Med.2,473(1996))、光栅相位衬度成像(参见Momose A,Kawamoto S,Koyama I,Hamaishi Y,Takai K,Suzuki Y的“Demonstration of X-ray Talbot interferometry”,Jpn.J.Appl.Phys.42(7B),L866(2003)和Pfeiffer F,Weitkamp T,Bunk O等人的“Phase retrieval and differential phase-contrast imaging with lwo-brillianceX-ray sources”,Nat.Phys.2,258(2006))、衍射增强成像(参见Davis T J,Gao D,Gureyev T E等人的“Phase-contrast imaging of weakly absorbingmaterials using hard X-rays”,Nature373,595(1995)和Chapman D,Thomlinson W,Johnston RE等人的“Diffraction enhanced x-ray imaging”,Phys.Med.Biol.42,2015(1997))、相位传播成像(参见Snigirev A,SnigirevaI,Kohn V,Kuznetsov S,Schelokov I的“On the possibilities of x-ray phasecontrast microimaging by coherent high-energy synchrotron radiation”,Rev.Sci.Instrum.66,5486(1995)和Wilkins S W,Gureyev TE,Gao D等人的“Phase-contrast imaging using polychromatic hard X-rays”,Nature384,335(1996))。其中,晶体干涉仪成像方法要求使用同步辐射光源,成像视场只有几个厘米,对成像装置的稳定性要求很高(入射X射线波长量级),因而不可能真正应用到临床医学成像;衍射增强成像方法对照明X射线的单色性和准直性要求很高,目前主要集中在同步辐射光源上进行,成像视场受限于晶体的尺寸,只能到几个厘米,不能满足临床医学诊断等领域的要求;相位传播成像方法对照明X射线的空间相干性要求很高,不能有效利用常规X光源,同时成像视场也只有几个厘米,无法推广到临床医学成像等领域。
2006年,Talbot-Lau干涉仪的提出,使得硬X射线相位衬度成像的临床应用出现了一丝曙光。Talbot-Lau干涉仪的成像原理是基于X射线相位光栅的分束Talbot自成像效应。如附图1所示,空间部分相干X射线照射下,相位光栅G1后某些特定距离处,其衍射强度分布在横向出现周期性变化,这一现象称之为分数Talbot自成像,相应的距离称之为分数Talbot距离。其中,空间部分相干照明要求相位光栅G1的周期不大于照明X射线的空间相干长度。
如附图2所示Talbot-Lau干涉仪由X光源21、源光栅G0、相位光栅G1、吸收光栅G2和探测器22构成。相位光栅G1的相移等于π,周期p1要求小于照明X射线的空间相干长度Ls
Ls=λL/s
其中,λ是照明X射线的波长,λ≤0.1纳米,s是照明X光源的尺寸。在Talbot-Lau干涉仪中,空间相干长度Ls只有几个微米,因此相位光栅G1的周期pl只能是几个微米;吸收光栅G2的周期p2等于相位光栅G1自成像的周期,也只有几个微米;G1与G2的间距,等于相位光栅G1的某一阶次分数Talbot距离Dn,
Dn = L * n ( pl ) 2 / 8 λ L - n ( pl ) 2 / 8 λ
其中,n取为1,3,5等正奇数,称之为Talbot级次。
Talbot-Lau干涉仪对照明X射线的单色性要求较低,能够与多色常规X光源有机结合实现相位衬度成像。但是,Talbot-Lau干涉仪装置存在原理和方法上的局限性,不能实现高能量、大视场成像,使其无法真正应用于临床医学诊断等领域。
一方面,Talbot-Lau干涉仪装置不能实现高能量(>60keV)成像。如上所述,Talbot-Lau干涉仪是基于分束Talbot自成像原理的,要求空间部分相干照明,因而光栅(G1与G2)周期受限于照明X射线的空间相干长度,只有几个微米(实验上典型值是2-8微米)。而在临床医学诊断等应用中,需要对动物、人体等厚样品(几十厘米)进行成像,要求照明X射线具有足够高的能量以保证较高的透过率。例如,照明X射线的能量等于30keV时,在水中的穿透深度只有3厘米;当X射线能量提高到60keV时,在水中的穿透深度增加到34厘米。因而,临床医学诊断中要求照明X射线的能量不低于60keV,以保持足够高的X射线透过率。在这样高的能量范围,吸收光栅(G2)中强吸收材料(金、铅等)的高度要求达到几百个微米以实现高于90%的X射线吸收率。以金为例,照明X射线能量为80keV时,要求光栅刻线高度不小于545微米。这就意味着,光栅的高宽比(刻线高度与宽度的比值)超过几十甚至达到几百。现有的微加工技术是无法实现这样的设计要求。而这也正是Talbot-Lau干涉仪成像装置在临床医学诊断等应用中无法克服的瓶颈问题。
此外,Talbot-Lau干涉仪要求使用微米周期光栅,目前只能对几十毫米大小的物体进行成像,不能实现大视场(>100×100mm2)成像。综上所述,Talbot-Lau干涉仪目前仍然局限于实验室研究,不能推广到临床医学成像等实际应用领域。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是现有的X射线光栅相位衬度成像装置和方法无法实现高能量(>60keV)、大视场(>100×100mm2)成像,以至不能应用于临床医学诊断等领域的瓶颈问题。
(二)技术方案
为解决上述技术问题,本发明提出一种X射线光栅相位衬度成像装置,包括源发射器、源光栅、分束光栅、分析光栅和探测器,该源光栅、分束光栅、分析光栅和探测器依次设置在源发射器的传播路径上,分束光栅的周期为30~50μm、高宽比不大于20。
根据本发明的一个优选实施方式,所述源发射器(31)为硬X光源。
根据本发明的一个优选实施方式,所述硬X光源的能量大于60keV。
根据本发明的一个优选实施方式,所述源光栅(G0)、分束光栅(G1)和分析光栅(G2)均为吸收光栅。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)的空占比小于0.5。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)的尺寸大于100mm×100mm。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)到所述分析光栅(G2)的距离为1~2米。
根据本发明的一个优选实施方式,所述光栅(G0、G1、G3)均为曲面光栅,在成像视场范围内始终满足正入射条件。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)、分析光栅(G2)均是二维光栅。
根据本发明的一个优选实施方式,所述源发射器(31)是中子发射器。
此外,本发明还提出一种X射线光栅相位衬度成像方法,包括如下步骤:将源光栅、分束光栅、分析光栅和探测器依次设置在源发射器的传播路径上;将物体紧贴分束光栅并朝向分析光栅放置;源光栅将来自源发射器的束源分为多个独立束源,分束光栅在分析光栅平面产生光强阵列,物体对束源的折射导致强度阵列的横向移动,被分析光栅探测到,并转化为能被探测器记录的强度变化,其中分束光栅(G1)的周期为30~50μm、高宽比不大于20。
根据本发明的一个优选实施方式,所述源发射器(31)为硬X光源。
根据本发明的一个优选实施方式,所述硬X光源的能量大于60keV。
根据本发明的一个优选实施方式,所述源光栅(G0)、分束光栅(G1)和分析光栅(G2)均为吸收光栅。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)的空占比小于0.5。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)的空占比为0.2~0.4。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)的尺寸大于100mm×100mm。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)到所述分析光栅(G2)的距离为1~2米。
根据本发明的一个优选实施方式,所述光栅(G0、G1、G3)均为曲面光栅,在成像视场范围内始终满足正入射条件。
根据本发明的一个优选实施方式,所述分束光栅(G1)、分析光栅(G2)均是二维光栅。
根据本发明的一个优选实施方式,所述源发射器(31)是中子发射器。
(三)有益效果
本发明通过增大光栅周期,优化设计分束光栅的空占比、物体到分析光栅的距离,提供了一种高图像衬度、低辐射剂量、大视场相位衬度成像的装置与方法,并且本发明能够利用常规多色X光源和现有的光栅制作工艺,适于实际临床应用。具体来说,本发明能够取得的有益效果包括以下五个方面:
1.不要求空间相干和单色照明,能够利用常规多色X光源;
2.小的光栅高宽比(5~20),是现有光栅制作工艺能够满足的;
3.高图像衬度:是目前吸收衬度的5~10倍;
4.低辐射剂量:是目前吸收衬度成像辐射剂量的10%~20%;
5.能实现高能量、大视场相位衬度成像。
附图说明
图1是现有技术的分数Talbot自成像效应的示意图;
图2是现有技术的X射线Talbot-Lau干涉仪的示意图;
图3是本发明的第一实施例和第二实施例的X射线光栅相位衬度成像装置的示意图;
图4是本发明的第三实施例的X射线光栅相位衬度成像装置的示意图;
图5是模型样品图像衬度随光栅空占比变化图;
图6A至图6D显示了根据本发明进行的一个实验的结果,其中图6A为空气环境中PMMA圆柱的传统吸收衬度图像,图6B为光栅空占比为0.2的相衬图像,图6C为光栅空占比为0.5的相衬图像,图6D为上述三种不同物体图像的横向剖面线比较;
图7A和图7B显示了根据本发明进行的另一个实验的结果,其中图7A为空气环境中PMMA和POM圆柱的折射图像;图7B为样品折射图像的横向剖面线。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
通过提高分束光栅的空占比,同时增加物体到分析光栅的距离,本发明提出了一种采用大周期吸收光栅的X射线光栅相位衬度成像装置和方法。
根据本发明的一个方面,通过提高分束光栅的空占比,同时增加物体到分析光栅的距离,能够得到高图像衬度。通过采用大周期吸收光栅,可以通过微加工技术制作大面积的吸收光栅,从而实现大视场、高能的X射线光栅相位衬度成像。
根据本发明的另一个方面,通过提高分束光栅的空占比,同时增加物体到分析光栅的距离,在不减小图像衬度的情况下,可以降低辐射剂量。
根据本发明的第三方面,X射线光栅相位衬度成像装置和方法可应用于二维成像。
根据本发明的第四方面,光栅相位衬度成像装置和方法可应用于中子光栅相位衬度成像。
以下描述本发明的具体实施方式。
<第一实施例>
图3为本发明的第一实施例和第二实施例的X射线光栅相位衬度成像装置的示意图。如图所示,本发明的X射线光栅相位衬度成像装置包括X光源31、源光栅G0、分束光栅G1、分析光栅G2和探测器32。其中,源光栅G0、分束光栅G1、分析光栅G2和探测器32依次设置在X光源31的X光传播路径上。
本发明的成像原理是基于X射线吸收光栅的几何投影条纹机制的,
在本质上是基于几何光学原理,而不是波动光学。如图3所示,入射X射线照明分束光栅G1,在其后几何投影区域内,光强分布沿横向出现周期性。由于照明X射线的空间相干长度只有几个微米,远小于光栅G1的周期(30-50微米),因此衍射效应非常弱,可以忽略。在分束光栅G1后,相当长距离内,光强横向分布都呈周期性。计算表明,当G1周期取为50微米,照明X射线空间长度取为5微米,在G1后距离1米处,光强分布仍呈现很好的周期性,且周期等于G1周期。当物体33放置于G1后时,物体对照明X射线的折射引起G1几何投影像的局部扭曲,经分析光栅G2后,转换为可被探测器32记录的光强变化。通过分析加入物体前后的光强变化,就能够得到物体33的吸收、相位和散射信息。
根据几何光学原理,吸收光栅G1投影像的产生是不依赖于衍射等效应的。因此,本发明对入射X射线的空间相干性完全没有要求。与此同时,多色照明下,几何投影像仍然出现,且具有较高的可见度,即几何投影像对入射X射线的多色性也是不敏感的。因此本发明第一实施例的光栅相位衬度成像装置的X光源可以采用常规多色X光源。
根据本发明的第一实施例,光栅G0、G1、G2均是吸收光栅。所谓吸收光栅是指照明X射线被光栅刻线全部吸收,透过率为零。吸收光栅可利用光刻工艺制作硅基底,然后电镀金、铅等强吸收材料得到。在该实施例中,吸收光栅G2可采用结构闪烁体来替代。
如附图1所示,空间部分相干X射线照射下,相位光栅G1后某些特定距离处,其衍射强度分布在横向出现周期性变化,这一现象称之为分数Talbot自成像,相应的距离称之为分数Talbot距离。其中,空间部分相干照明要求相位光栅G1的周期不大于照明X射线的空间相干长度。
根据本发明的第一实施例,光栅G1、G2的周期为30-50微米,高宽比不大于20。本发明的X射线光栅相位衬度成像装置是基于吸收光栅的几何投影条纹机制的,即X射线照射下,分束光栅G1后的特定距离(依赖于光栅周期),G1投影像的强度分布沿垂直光轴方向呈周期性变化,这一现象称之为几何投影条纹机制。在本发明中,分束光栅G1的周期不受到照明X射线空间相干长度的限制,可取30-50微米。物体33对照明X射线的折射将导致G1几何投影像的横向局部变形。这种变形经分析光栅G2后转换为光强局部变化,被紧贴G2后放置的探测器32所记录。如表1所示,在80keV下,90%的X射线吸收率要求545微米的吸收层厚度,相应的吸收光栅(G1、G2)高宽比不大于20,是现有微加工技术能够做到的。与之形成对比的是,在现有的Talbot-Lau干涉仪中,光栅周期不能大于照明X射线的空间相干长度,一般小于5微米。于是,导致相应的光栅高宽比超过100,是现有微加工技术无法满足的。
根据本发明的第一实施例,光栅周期为30~50微米,由此,现有的微加工技术能够制作出大面积(>100×100mm2)的吸收光栅,例如达到200mm×400mm的吸收光栅作为本发明的分束光栅G1及分析光栅G2,因此,能够实现大视场成像。
综上所述,在现有的微加工技术水平下,本发明能够实现大视场(如200mm×400mm)、高能(>60keV)X射线相位衬度成像,能够实现临床医学等实际应用。
表1 高能(80keV)成像时,不同方法对光栅高宽比的要求
根据本发明的第一实施例,分束光栅G1、分析光栅G2的空占比<0.5,优选为0.2~0.4。经研究发现,当分束光栅G1的周期在30~50微米时,会导致物体图像衬度的降低。为了弥补物体图像衬度的下降(近似反比于光栅周期),我们对光栅G1的空占比进行优化设计。图5显示了物体图像衬度随分束光栅G1空占比的变化,以空气环境中的PMMA圆柱为例,光栅G1空占比为0.2时,图像衬度达到12.86%。而在现有Talbot-Lau干涉仪方法中,光栅G1的空占比为0.5,此时图像衬度只有4.31%。也就是说,当G1的空占比取为0.2时,物体图像衬度提高了3倍多。因此,本发明通过优化分束光栅G1的空占比,提高物体图像衬度。
根据本发明的第一实施例,分束光栅G1到分析光栅G2的距离可根据具体的应用要求选取。根据具体应用要求,综合考虑图像衬度、曝光时间、辐射剂量等多方面的因素,对G1与G2的距离d进行优化,一般可取为1~2米。
在光栅相位衬度成像中,不考虑曝光时间等的影响,物体图像衬度正比于分束光栅G1到分析光栅G2的距离。在现有的Talbot-Lau干涉仪中,分束光栅G1与分析光栅G2的间距应等于分束光栅G1的某一阶次分数Talbot距离,以获得最高的图像衬度。分束光栅G1的分数Talbot距离只有几个到十几个厘米。而根据本发明,分束光栅G1到分析光栅G2的距离可根据应用要求选取,一般取为1~2米,由此带来的图像衬度提高为5~10倍。
根据本发明的第一实施例,光栅G0、G1、G3均为曲面光栅,在成像视场范围内始终满足正入射条件,有效解决了常规X光源柱面或球面波照明下,平面光栅边缘部分透光不均匀的问题,能够实现大视场成像(200mm×400mm),满足临床医学成像的要求,如乳腺成像。
根据本发明的第一实施例,探测器32用于记录光强变化,可以采用间接探测型,如电荷耦合器件(CCD),也可采用直接探测型,如半导体探测器。
当利用本发明的X射线光栅相位衬度成像装置进行成像时,如图3所示,将物体33紧贴分束光栅G1后放置。源光栅G0将常规X光源分为多个独立缝光源,分束光栅G1将在分析光栅G2平面产生光强阵列。物体33对X射线的折射导致光强阵列的横向移动,被分析光栅G2探测到,并转化为能被探测器记录的光强变化。
<第二实施例>
本发明的第二实施例采用与第一实施例相同的X射线光栅相位衬度成像装置和方法,所不同的是,根据本发明的第二实施例,为获得与传统吸收衬度成像相同信噪比的图像,本发明的相位衬度成像装置的X光源31的辐射剂量是传统吸收衬度成像的20%,即物体所受的辐射剂量是传统吸收衬度成像的10%~20%。
物体所受的辐射剂量与成像方法的信噪比直接相关。与传统的吸收衬度成像方法相比,硬X射线相位衬度成像方法的优势之一就是物体图像信噪比的提高。物体图像的信噪比满足
SNR &Proportional; N * C
其中,SNR表示信噪比,N表示物体平面照明X射线的光子数,C表示样品图像衬度。在硬X射线波段,对于碳、氢、氧、氮等人体组织的主要组成元素,其折射率相位项要比吸收项大至少两个数量级。因此,硬X射线相位衬度要比吸收衬度大得多。根据已有的实验结果,保守估计,相位衬度是吸收衬度的5倍,即C相位=5*C吸收
当相位衬度成像方法的信噪比等于吸收衬度成像的信噪比时,SNR相位=SNR吸收,得到
在高衬度、低剂量X射线相位衬度成像方法中,物体将放置在分束光栅G1后面,因此只需考虑分析光栅G2的吸收导致的光子数损失。取光栅G2的占空比为0.2,因此,等效的光子数满足
而物体所受的辐射剂量正比于等效光子数,因此,获得相同信噪比的图像,相位衬度成像的辐射剂量是传统吸收衬度成像的20%。
<第三实施例>
图4显示了本发明的第三实施例。本发明提出的X射线光栅相位衬度成像装置与方法不仅适用于一维情形,而且能够推广到二维情形。如图4所示,在第一实施例的基础上,分束光栅G1、分析光栅G2均是二维吸收光栅。分束光栅G1、分析光栅G2可通过直接制作得到,或通过一维吸收光栅的组合得到。
同一维情形类似,物体紧贴分束光栅G1后放置,以降低辐射剂量。物体对X射线的折射和散射,引起二维光强阵列在x和y方向的扰动,通过分析这些扰动,能够提取物体的吸收、x方向折射、y方向折射、x方向散射和y方向散射等多幅图像,更加完整、准确地表征物体。
下面描述本发明的实验过程与数据:
1)实验上,分束光栅G1与分析光栅G2的横向相对位移固定在四分之一分析光栅周期。此时,成像装置记录的物体图像衬度最高,所需要的辐射剂量最低。为证明提出的成像装置和方法的可行性,进行了一系列对比实验。选取空气环境中直径4毫米的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)圆柱作为样品,X射线等效能量为80keV,光栅周期30微米,光栅G1到G2轴向距离为2米。分别对样品进行传统吸收衬度成像、光栅空占比为0.2的相衬成像,和光栅空占比为0.5的相衬成像,结果分别如图6A、图6B和图6C所示。为定量比较不同成像方法的图像衬度,图6D给出图6A至图6C的横向剖面线比较。为消除图像中统计噪声的影响,对剖面线沿轴向作平均,并进行背景归一化处理。如图6D所示,当光栅空占比为0.2时,图像衬度达到20.06%;在现有Talbot-Lau干涉仪方法中,光栅空占比为0.5,此时图像衬度只有7.83%;在传统吸收衬度成像中,图像衬度只有4.30%。也就是说,当光栅空占比取为0.2时,相比传统吸收衬度成像,物体图像衬度提高了4.67倍;相比于现有的Talbot-Lau干涉仪方法,图像衬度提高了2.56倍。因此,本发明的重要特色之一就是通过优化光栅的空占比,提高物体图像衬度,降低辐射剂量。
2)实验上采集的原始图像不仅包含物体的相移信息,还包含物体的吸收信息和散射信息。而实际应用中的计算机断层重建(CT)及定量分析等均要求纯粹的物体相移信息作为输入。因此,有必要从原始图像中分离得到物体的相移信息。在本发明提出的实验装置中,通过横向扫描光栅,在不同的光栅相对位置处采集多张图像,能够实现物体吸收、相移和散射信息的分离。
以空气环境中的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)圆柱和聚甲醛(POM)圆柱作为样品,直径分别为5毫米和10毫米。光栅周期50微米,空占比0.33,光栅G1到G2距离为1米。横向扫描光栅G2,在每个扫描点记录一幅图像。对记录得到的多幅图像进行计算,得到PMMA和POM圆柱的折射图像,如图7的(a)图所示。为说明本发明的成像装置的定量性,图7的(b)图给出样品折射图像的横向剖面线。其中,对于直径10毫米的PMMA圆柱,理论最大折射角为1.52微弧度,实验测量值为1.49微弧度。两者吻合的很好,证明本发明的成像装置能够定量获取物体的折射信息。
在定量提取物体折射角的基础上,与计算机断层重建(CT)算法结合,能够获得物体折射率实部的三维空间分布,
&delta; ( x , y , z ) = - &Integral; 0 &pi; d&Theta; &Integral; - &infin; &infin; [ &theta; r ( x r , &Theta; , z ) * F - 1 ( | &rho; | 2 &pi;j&rho; ) ] &CenterDot; &delta; ( x cos &Theta; + y sin &Theta; - x r ) dx r
其中,δ是物体折射率实部,θr(xr,Θ,z)表示投影角Θ下提取的折射角,ρ表示空间频率,F-1表示逆Fourier变换。以上描述的是平行束照明下的三维断层重建过程。对于更加普遍的扇束照明情形,我们将采用变量替换方法完成其三维断层重建。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (21)

1.一种X射线光栅相位衬度成像装置,包括源发射器(31)、源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32),该源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)依次设置在源发射器(31)的传播路径上,其特征在于:分束光栅(G1)的周期为30~50μm、高宽比不大于20。 
2.如权利要求1所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述源发射器(31)为硬X光源。 
3.如权利要求2所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述硬X光源的能量大于60keV。 
4.如权利要求1所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述源光栅(G0)、分束光栅(G1)和分析光栅(G2)均为吸收光栅。 
5.如权利要求1所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述分束光栅(G1)的空占比小于0.5。 
6.如权利要求1所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述分束光栅(G1)的尺寸大于100mm×100mm。 
7.如权利要求1所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述分束光栅(G1)到所述分析光栅(G2)的距离为1~2米。 
8.如权利要求1所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述光栅(G0、G1、G3)均为曲面光栅,在成像视场范围内始终满足正入射条件。 
9.如权利要求1所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述分束光栅(G1)、分析光栅(G2)均是二维光栅。 
10.如权利要求1所述的硬X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述源发射器(31)是中子发射器。 
11.一种X射线光栅相位衬度成像方法,包括如下步骤: 
将源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)依次设置在源发射器(31)的传播路径上; 
将物体(33)紧贴分束光栅(G1)并朝向分析光栅(G2)放置; 
源光栅(G0)将来自源发射器(31)的束源分为多个独立束源,分束光栅(G1)在分析光栅(G2)平面产生光强阵列,物体(33)对束源的折射导致强度阵列的横向移动,被分析光栅(G2)探测到,并转化为能被探测器(32)记录的强度变化; 
其特征在于,其中分束光栅(G1)的周期为30~50μm、高宽比不大于20。 
12.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像方法,其特征在于:所述源发射器(31)为硬X光源。 
13.如权利要求12所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述硬X光源的能量大于60keV。 
14.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像方法,其特征在于:所述源光栅(G0)、分束光栅(G1)和分析光栅(G2)均为吸收光栅。 
15.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述分束光栅(G1)的空占比小于0.5。 
16.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像装置,其特征在于:所述分束光栅(G1)的空占比为0.2~0.4。 
17.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像方法,其特征在于:所述分束光栅(G1)的尺寸大于100mm×100mm。 
18.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像方法,其特征在于:所述分束光栅(G1)到所述分析光栅(G2)的距离为1~2米。 
19.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像方法,其特征在于:所述光栅(G0、G1、G3)均为曲面光栅,在成像视场范围内始终满足正入射条件。 
20.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像方法,其特征在于:所述分束光栅(G1)、分析光栅(G2)均是二维光栅。 
21.如权利要求11所述的X射线光栅相位衬度成像方法,其特征在于:所述源发射器(31)是中子发射器。 
CN201310557196.XA 2013-11-11 2013-11-11 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法 Pending CN104622492A (zh)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310557196.XA CN104622492A (zh) 2013-11-11 2013-11-11 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法
PCT/CN2014/071096 WO2015066977A1 (zh) 2013-11-11 2014-01-22 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法
US15/035,420 US20160290937A1 (en) 2013-11-11 2014-01-22 Apparatus and method for x-ray grating phase-contrast imaging
EP14859707.3A EP3069659A4 (en) 2013-11-11 2014-01-22 Apparatus and method for x-ray grating phase-contrast imaging
JP2016528887A JP6529968B2 (ja) 2013-11-11 2014-01-22 X線格子位相コントラストイメージング装置及び方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310557196.XA CN104622492A (zh) 2013-11-11 2013-11-11 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104622492A true CN104622492A (zh) 2015-05-20

Family

ID=53040831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310557196.XA Pending CN104622492A (zh) 2013-11-11 2013-11-11 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20160290937A1 (zh)
EP (1) EP3069659A4 (zh)
JP (1) JP6529968B2 (zh)
CN (1) CN104622492A (zh)
WO (1) WO2015066977A1 (zh)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105486693A (zh) * 2016-01-19 2016-04-13 中国科学技术大学 一种无损检测高精度元件缺陷的方法
CN105675631A (zh) * 2016-01-05 2016-06-15 合肥泰禾光电科技股份有限公司 一种快速扇束几何相位衬度ct成像装置和方法
CN106290414A (zh) * 2016-07-29 2017-01-04 中国科学技术大学 一种x射线光栅相衬成像装置和成像方法
CN107144583A (zh) * 2017-06-21 2017-09-08 兰州大学 一种用于x射线相衬成像平板探测器及其使用方法
CN107238616A (zh) * 2017-06-22 2017-10-10 合肥工业大学 基于中子光栅干涉仪的暗场成像方法
CN107664648A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 中国科学院高能物理研究所 一种x射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法
CN107714067A (zh) * 2017-10-23 2018-02-23 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 乳腺相衬ct成像设备
CN107748341A (zh) * 2017-10-23 2018-03-02 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 高衬度低剂量相位衬度ct成像装置
CN107807139A (zh) * 2016-09-05 2018-03-16 天津工业大学 一种无步进装置的双能x射线相衬成像系统及其实现方法
CN109557116A (zh) * 2018-12-29 2019-04-02 深圳大学 X射线双相位光栅相衬成像系统
CN109580667A (zh) * 2018-12-05 2019-04-05 中国科学技术大学 单光栅相衬成像方法及系统
CN110833427A (zh) * 2019-11-29 2020-02-25 清华大学 光栅成像系统及其扫描方法
CN110916712A (zh) * 2019-11-29 2020-03-27 清华大学 光栅成像系统及其扫描方法
CN111051863A (zh) * 2017-09-06 2020-04-21 皇家飞利浦有限公司 用于x射线相衬和/或暗场成像的衍射光栅
CN113063809A (zh) * 2021-03-24 2021-07-02 合肥工业大学 一种基于霍夫变换法的x射线光栅干涉仪成像方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3603515A1 (en) * 2018-08-01 2020-02-05 Koninklijke Philips N.V. Apparatus for generating x-ray imaging data
CN111447373B (zh) * 2020-04-16 2021-10-26 北京纳米维景科技有限公司 一种自动曝光控制系统及图像校正方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101257851A (zh) * 2005-06-06 2008-09-03 保罗·谢勒学院 用于利用不相干的多色x射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪
EP2060909A1 (en) * 2007-11-15 2009-05-20 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Interferometer device and method
CN101532969A (zh) * 2007-11-23 2009-09-16 同方威视技术股份有限公司 X射线光栅相衬成像系统及方法
CN102802529A (zh) * 2009-06-16 2012-11-28 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于微分相衬成像的校正方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10245676B4 (de) * 2002-09-30 2008-01-17 Siemens Ag Phasenkontrast-Röntgengerät mit Strichfokus zur Erstellung eines Phasenkontrast-Bildes eines Objekts und Verfahren zum Erstellen des Phasenkontrast-Bildes
EP1447046A1 (en) * 2003-02-14 2004-08-18 Paul Scherrer Institut Apparatus and method to obtain phase contrast x-ray images
DE102006037256B4 (de) * 2006-02-01 2017-03-30 Paul Scherer Institut Fokus-Detektor-Anordnung einer Röntgenapparatur zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen sowie Röntgensystem, Röntgen-C-Bogen-System und Röntgen-CT-System
DE102006037281A1 (de) * 2006-02-01 2007-08-09 Siemens Ag Röntgenoptisches Durchstrahlungsgitter einer Fokus-Detektor-Anordnung einer Röntgenapparatur zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen von einem Untersuchungsobjekt
DE102006037254B4 (de) * 2006-02-01 2017-08-03 Paul Scherer Institut Fokus-Detektor-Anordnung zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen mit röntgenoptischen Gittern, sowie Röntgen-System, Röntgen-C-Bogen-System und Röntgen-Computer-Tomographie-System
GB2441578A (en) * 2006-09-08 2008-03-12 Ucl Business Plc Phase Contrast X-Ray Imaging
US20100327175A1 (en) * 2007-12-14 2010-12-30 Yakov Nesterets Phase-contrast imaging method and apparatus
JP2010063646A (ja) * 2008-09-11 2010-03-25 Fujifilm Corp 放射線位相画像撮影装置
DE102008048683A1 (de) * 2008-09-24 2010-04-08 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Bestimmung von Phase und/oder Amplitude zwischen interferierenden benachbarten Röntgenstrahlen in einem Detektorpixel bei einem Talbot-Interferometer
EP2168488B1 (de) * 2008-09-30 2013-02-13 Siemens Aktiengesellschaft Röntgen-CT-System zur Röntgen-Phasenkontrast-und/oder Röntgen-Dunkelfeld-Bildgebung
US7949095B2 (en) * 2009-03-02 2011-05-24 University Of Rochester Methods and apparatus for differential phase-contrast fan beam CT, cone-beam CT and hybrid cone-beam CT
US8999435B2 (en) * 2009-08-31 2015-04-07 Canon Kabushiki Kaisha Process of producing grating for X-ray image pickup apparatus
CN102651998B (zh) * 2009-12-10 2015-08-05 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于微分相衬成像的扫描系统
RU2562879C2 (ru) * 2009-12-10 2015-09-10 Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. Устройство для фазоконтрастного формирования изображений, содержащее перемещаемый элемент детектора рентгеновского излучения, и соответствующий способ
WO2011070488A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Phase contrast imaging
JP2011224330A (ja) * 2010-03-29 2011-11-10 Fujifilm Corp 放射線撮影システム及びそのオフセット補正方法
JP5548085B2 (ja) * 2010-03-30 2014-07-16 富士フイルム株式会社 回折格子の調整方法
WO2012029005A1 (en) * 2010-09-03 2012-03-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Differential phase-contrast imaging with improved sampling
JP5796908B2 (ja) * 2010-10-29 2015-10-21 富士フイルム株式会社 放射線位相画像撮影装置
JP5804726B2 (ja) * 2011-02-24 2015-11-04 キヤノン株式会社 微細構造体の製造方法
KR101482699B1 (ko) * 2011-07-29 2015-01-14 더 존스 홉킨스 유니버시티 미분 위상 대조 x선 이미징 시스템 및 컴포넌트
JP6176898B2 (ja) * 2011-09-05 2017-08-09 キヤノン株式会社 X線タルボ干渉法による撮像に用いられる遮蔽格子の製造方法
JP2013070867A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Canon Inc 撮像装置及び撮像方法
US20130108015A1 (en) * 2011-10-28 2013-05-02 Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A - Recherche Et Developpement X-ray interferometer
EP2806798B1 (en) * 2012-01-24 2016-11-23 Koninklijke Philips N.V. Multi-directional phase contrast x-ray imaging
EP2822468B1 (en) * 2012-03-05 2017-11-01 University Of Rochester Methods and apparatus for differential phase-contrast cone-beam ct and hybrid cone-beam ct
US10068740B2 (en) * 2012-05-14 2018-09-04 The General Hospital Corporation Distributed, field emission-based X-ray source for phase contrast imaging
US9014333B2 (en) * 2012-12-31 2015-04-21 General Electric Company Image reconstruction methods for differential phase contrast X-ray imaging
KR20140109192A (ko) * 2013-03-05 2014-09-15 삼성전자주식회사 엑스선 영상 장치 및 그 제어 방법
US9970119B2 (en) * 2013-10-25 2018-05-15 Konica Minolta, Inc. Curved grating structure manufacturing method, curved grating structure, grating unit, and x-ray imaging device
KR101668219B1 (ko) * 2013-10-31 2016-10-20 도호쿠 다이가쿠 비파괴 검사 장치
US9801600B2 (en) * 2014-11-17 2017-10-31 Rensselaer Polytechnic Institute X-ray phase-contrast imaging

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101257851A (zh) * 2005-06-06 2008-09-03 保罗·谢勒学院 用于利用不相干的多色x射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪
EP2060909A1 (en) * 2007-11-15 2009-05-20 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Interferometer device and method
CN101532969A (zh) * 2007-11-23 2009-09-16 同方威视技术股份有限公司 X射线光栅相衬成像系统及方法
CN102802529A (zh) * 2009-06-16 2012-11-28 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于微分相衬成像的校正方法

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105675631A (zh) * 2016-01-05 2016-06-15 合肥泰禾光电科技股份有限公司 一种快速扇束几何相位衬度ct成像装置和方法
CN105486693A (zh) * 2016-01-19 2016-04-13 中国科学技术大学 一种无损检测高精度元件缺陷的方法
CN106290414A (zh) * 2016-07-29 2017-01-04 中国科学技术大学 一种x射线光栅相衬成像装置和成像方法
CN107664648A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 中国科学院高能物理研究所 一种x射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法
CN107664648B (zh) * 2016-07-29 2019-08-13 中国科学院高能物理研究所 一种x射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法
CN107807139A (zh) * 2016-09-05 2018-03-16 天津工业大学 一种无步进装置的双能x射线相衬成像系统及其实现方法
CN107144583A (zh) * 2017-06-21 2017-09-08 兰州大学 一种用于x射线相衬成像平板探测器及其使用方法
CN107238616A (zh) * 2017-06-22 2017-10-10 合肥工业大学 基于中子光栅干涉仪的暗场成像方法
CN111051863A (zh) * 2017-09-06 2020-04-21 皇家飞利浦有限公司 用于x射线相衬和/或暗场成像的衍射光栅
CN107748341A (zh) * 2017-10-23 2018-03-02 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 高衬度低剂量相位衬度ct成像装置
CN107714067A (zh) * 2017-10-23 2018-02-23 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 乳腺相衬ct成像设备
CN109580667A (zh) * 2018-12-05 2019-04-05 中国科学技术大学 单光栅相衬成像方法及系统
CN109557116A (zh) * 2018-12-29 2019-04-02 深圳大学 X射线双相位光栅相衬成像系统
CN110833427A (zh) * 2019-11-29 2020-02-25 清华大学 光栅成像系统及其扫描方法
CN110916712A (zh) * 2019-11-29 2020-03-27 清华大学 光栅成像系统及其扫描方法
CN110833427B (zh) * 2019-11-29 2021-01-29 清华大学 光栅成像系统及其扫描方法
CN110916712B (zh) * 2019-11-29 2022-04-29 清华大学 光栅成像系统及其扫描方法
CN113063809A (zh) * 2021-03-24 2021-07-02 合肥工业大学 一种基于霍夫变换法的x射线光栅干涉仪成像方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016535642A (ja) 2016-11-17
US20160290937A1 (en) 2016-10-06
EP3069659A1 (en) 2016-09-21
WO2015066977A1 (zh) 2015-05-14
EP3069659A4 (en) 2017-07-05
JP6529968B2 (ja) 2019-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104622492A (zh) 一种x射线光栅相位衬度成像装置和方法
Olivo et al. Modelling of a novel x-ray phase contrast imaging technique based on coded apertures
Endrizzi X-ray phase-contrast imaging
US8972191B2 (en) Low dose single step grating based X-ray phase contrast imaging
Chapman et al. Diffraction enhanced x-ray imaging
JP4847568B2 (ja) X線撮像装置およびx線撮像方法
CN103356223B (zh) 用于人体医学检测的 ct 成像系统及方法
Huang et al. Alternative method for differential phase-contrast imaging with weakly coherent hard x rays
US20140226785A1 (en) System and method for phase-contrast x-ray imaging
Akio et al. Quantitative comparison of imaging performance of x‐ray interferometric imaging and diffraction enhanced imaging
Li et al. Full-field fan-beam x-ray fluorescence computed tomography with a conventional x-ray tube and photon-counting detectors for fast nanoparticle bioimaging
WO2007125833A1 (ja) X線撮像装置及びx線撮像方法
Hanke et al. X-ray microtomography for materials characterization
CN103460301B (zh) 具有聚焦偏转结构板的微分相位对比成像
CN107807139A (zh) 一种无步进装置的双能x射线相衬成像系统及其实现方法
Krejci et al. Single grating method for low dose 1-D and 2-D phase contrast X-ray imaging
US10993686B2 (en) Phase contrast imaging method
US20220221413A1 (en) Detection scheme for x-ray small angle scattering
Gao et al. A micro-tomography method based on X-ray diffraction enhanced imaging for the visualization of micro-organs and soft tissues
Yuasa et al. Highly sensitive detection of the soft tissues based on refraction contrast by in-plane diffraction-enhanced imaging CT
Krejci et al. X-ray phase contrast imaging using single absorption coded aperture
Pyakurel Phase and dark field radiography and CT with mesh-based structured illumination and polycapillary optics
Zhang et al. Simulations of single-shot X-ray phase-contrast tomography based on edge illumination
Sato et al. Single-shot x-ray phase-contrast imaging using two-dimensional gratings
Ha On the opportunities and challenges provided by mask-based x-ray micro-CT

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150520