CN104557143B - 一种直线淋釉机构 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种直线淋釉机构，其特征在于，它包括机架、机壳及其内设置的储存釉料的固定腔体、与固定腔体的供釉口对应的分釉槽、设置在固定腔体外侧的活动腔体，活动腔体的外侧设置有活动打开的面板以及控制面板开合的腔体开合机构，在固定腔体和活动腔体的下方设置有由至少两把淋釉刀组成的淋釉刀组，其中一把淋釉刀连接腔体开合机构。本发明结构简单，使用方便，而且淋釉的釉膜厚度调节容易，釉面平滑，稳定，机件持久耐用。

Description

一种直线淋釉机构
技术领域
本发明涉及陶瓷生产技术领域，更具体的是涉及一种直线淋釉机的淋釉机构。
背景技术
施釉工艺是是指在成型的陶瓷坯体表面施以釉浆的过程。施釉方法包括浇釉、喷釉、淋釉等，其中以淋釉方法最为常见。而目前，淋釉机普遍使用的是钟罩式淋釉部件施釉，经常会出现施釉表面中间釉面薄，两侧釉面厚，且会产生边缘波浪纹的现象。为此，本领域技术人员在现有技术的基础上进行了改进，如中国专利申请号为201410306187.8，发明名称为一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉机，其特征在于：包括直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，所述直线淋釉上罩包括第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池和位于第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池之间的釉液缓冲挡板。此专利的直线淋釉部件在简化了现有的淋釉部件的同时，避免了现有的淋釉部件淋釉时施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚现象的发生，同时也防止了边缘波浪纹的产生，但是，由于直线淋釉上罩带有可储存釉料的第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池，因此，在停止继续向其供釉的操作后，直线淋釉上罩还会因惯性继续向釉液缓冲挡板淋釉，可控性差，淋釉的精度不高，造成陶瓷产品的档次无法得以提高。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种结构简单，操作和控制方便的直线淋釉机构。
本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种直线淋釉机构，其特征在于，它包括机架、机壳及其内设置的储存釉料的固定腔体、与固定腔体的供釉口对应的分釉槽、设置在固定腔体外侧的活动腔体，活动腔体的外侧设置有活动打开的面板以及控制面板开合的腔体开合机构，在固定腔体和活动腔体的下方设置有由至少两把淋釉刀组成的淋釉刀组，其中一把淋釉刀连接腔体开合机构。
作为上述方案的进一步说明，所述淋釉刀组包括平面淋釉刀和斜面淋釉刀，斜面淋釉刀的前刀面与平面淋釉刀的前刀面活动接触，在机壳内设置有与斜面淋釉刀或腔体开合机构活动顶压配合的刀口宽度调节装置。
所述刀口宽度调节装置包括调节旋钮、调节杆和与调节杆对应的定位导向机构，调节旋钮设置在机架上并与调节杆螺纹连接；腔体开合机构包括活动设置在机架上的与淋釉刀组平行的转动轴、与转动轴连接的控制手柄和与控制手柄成一定夹角的定位件，调节杆与定位件活动顶压配合，通过调节调节杆的位移，从而限定定位件绕转动轴摆动的角度和转动轴旋转的角度，从而可控制刀口的宽度。
所述淋釉刀组的下方设置有接料槽，接料槽的两侧分别设置有侧挡板，该侧挡板的上端固定于淋釉刀组的淋釉口的两端侧，下端延伸至接料槽的内部，防止釉料从淋釉刀组的淋釉口两端边缘溅落地面。
本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：
1、本发明采用主要由平面淋釉刀和斜面淋釉刀组成的直线淋釉刀组，通过刀口宽度调节装置连接控制淋釉口的开度，从而使淋釉机构能够产生稳定均匀的釉膜，而且釉膜的厚度调节也非常容易，调节范围广,并且机件持久耐用。
2、本发明的淋釉口的宽度可调，使釉料粘度适应范围广，而且不易产生波纹，釉面平滑，稳定。
3、本发明设置了腔体开合机构，可快速打开腔体，方便对设备作彻底的清洗。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图2是图1的C-C向剖视图；
图3是图1的右视图。
附图标记说明：1、机架2、机壳3、固定腔体4、供釉口5、分釉槽6、活动腔体7、面板8、腔体开合机构8-1、转动轴8-2、控制手柄8-3、定位件9、平面淋釉刀10、斜面淋釉刀11、刀口宽度调节装置11-1、调节旋钮11-2、调节杆11-3、定位导向机构12、淋釉口13、侧挡板。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明的技术方案作详细的描述。
本发明是一种直线淋釉机构，它是与储存釉料的釉料缸配合使用，其中，釉料缸设置有搅拌装置和抽釉泵，抽釉泵通过管道将釉料引入直线淋釉机构，并在直线淋釉机构的淋釉口下方设置接料槽，接料槽设置出料口，通过循环管道引入釉料缸，避免釉料的浪费。
如图1-图3所示，直线淋釉机构包括机架1、机壳2及其内设置的储存釉料的固定腔体3、与固定腔体3的供釉口4对应的分釉槽5、设置在固定腔体外侧的活动腔体6，活动腔体6的外侧设置有活动打开的面板7以及控制面板开合的腔体开合机构8，在固定腔体和活动腔体的下方设置有由至少两把淋釉刀组成的淋釉刀组，其中一把淋釉刀连接腔体开合机构。其中，淋釉刀组包括平面淋釉刀9和斜面淋釉刀10，斜面淋釉刀的前刀面与平面淋釉刀的前刀面活动接触，在机壳内设置有与斜面淋釉刀或腔体开合机构活动顶压配合的刀口宽度调节装置11。刀口宽度调节装置11包括调节旋钮11-1、调节杆11-2和与调节杆对应的定位导向机构11-3，定位导向机构11-3包括固定在机架上的至少两同轴的轴承。调节旋钮11-1设置在机架1上并与调节杆11-2螺纹连接；腔体开合机构8包括活动设置在机架上的与淋釉刀组平行的转动轴8-1、与转动轴连接的控制手柄8-2和与控制手柄成一定夹角的定位件8-3，调节杆与定位件活动顶压配合，通过调节调节杆的位移，从而限定定位件绕转动轴摆动的角度和转动轴旋转的角度，从而可控制刀口的宽度。
淋釉刀组的下方设置有接料槽，接料槽的两侧分别设置有侧挡板13，该侧挡板的上端固定于淋釉刀组的淋釉口12的两端侧，下端延伸至接料槽的内部，防止釉料从淋釉刀组的淋釉口12两端边缘溅落地面。接料槽的底部设置为斜面，出料口位于斜面的低位，使釉料能够集中从出料口流出。当然，接料槽的底部除了设置斜面外，还可以将整个接料槽倾斜设置，同样能够达到所述的效果，只是与前者相比，在安装固定上相对复杂一些。
本发明与现有技术相比，釉料粘度适应范围广，而且不易产生波纹，釉面平滑；更重要的是能够产生稳定均匀的釉膜，而且釉膜的厚度调节也非常容易，调节范围广，机件的使用寿命大大延长，持久耐用。
以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (4)

1.一种直线淋釉机构，其特征在于，它包括机架、机壳及其内设置的储存釉料的固定腔体、与固定腔体的供釉口对应的分釉槽、设置在固定腔体外侧的活动腔体，活动腔体的外侧设置有活动打开的面板以及控制面板开合的腔体开合机构，在固定腔体和活动腔体的下方设置有由至少两把淋釉刀组成的淋釉刀组，其中一把淋釉刀连接腔体开合机构；所述淋釉刀组包括平面淋釉刀和斜面淋釉刀，斜面淋釉刀的前刀面与平面淋釉刀的前刀面活动接触，在机壳内设置有与斜面淋釉刀或腔体开合机构活动顶压配合的刀口宽度调节装置。
2.根据权利要求1所述的一种直线淋釉机构，其特征在于，所述刀口宽度调节装置包括调节旋钮、调节杆和与调节杆对应的定位导向机构，调节旋钮设置在机架上并与调节杆螺纹连接；腔体开合机构包括活动设置在机架上的与淋釉刀组平行的转动轴、与转动轴连接的控制手柄和与控制手柄成一定夹角的定位件，调节杆与定位件活动顶压配合。
3.根据权利要求1或2所述的一种直线淋釉机构，其特征在于，所述淋釉刀组的下方设置有接料槽，接料槽的两侧分别设置有侧挡板，该侧挡板的上端固定于淋釉刀组的淋釉口的两端侧，下端延伸至接料槽的内部。
4.根据权利要求3所述的一种直线淋釉机构，其特征在于，接料槽的底部设置为斜面，出料口位于斜面的低位。
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