CN104317468B - 电容式触摸屏 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种电容式触摸屏。该电容式触摸屏包括：硬涂层、感应层、显示层，感应层设置在硬涂层的表面上，感应层包括基材层与导电图形层，导电图形层为超低电阻透明导电膜；显示层设置在所述感应层的远离硬涂层的一侧。该电容式触摸屏的感应层设置在硬涂层的表面上，使得感应层耐弯折；导电图形层由超低电阻透明导电膜形成，其特殊的膜系结构，使得导电图形层具有良好的柔性，可实现大幅度弯曲甚至折叠；另外，超低电阻透明导电膜的方阻值较小，具有良好的导电性使其能够很好地应用于大尺寸触摸屏领域，使得柔性电容式触摸屏具有实现量产的可能性。

Description

电容式触摸屏

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，具体而言，涉及一种电容式触摸屏。

背景技术

随着科技的不断发展，触摸屏作为一种简单、便捷的人机交互方式，已经广泛应用于我们日常生活的各个领域，随着人们要求的不断提高，触摸屏正向着大尺寸、高解析度、轻、薄、可弯曲、低成本等方向发展。目前，LG，三星，苹果都在纷纷推出自己的柔性电容式触摸屏。

为了实现真正的产品柔性化，柔性触摸屏，即可弯曲触摸屏应运而生，与传统触摸屏相比，可弯曲触摸屏不仅在体积上更加轻薄，功耗上也低于原有器件，有助于提升设备的续航能力，同时基于其可弯曲、柔韧性佳的特性，其耐用程度也大大高于传统硬质触摸屏，降低设备意外损伤的概率，同时具有体积更小，更耐用、且可以弯曲方便携带的效果，也因其低功耗、可弯曲的特性对可穿戴式设备的应用带来深远的影响。

但是现在的柔性电容式触摸屏只能实现部分弯曲，使得量产无法实现，且无法应用于大尺寸触摸屏领域。

发明内容

本发明旨在提供一种电容式触摸屏，以解决现有技术中电容式触摸屏难只能实现部分弯曲而不能折叠的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种电容式触摸屏，上述电容式触摸屏包括：硬涂层；感应层，设置在硬涂层的表面上，包括基材层与导电图形层，上述导电图形层由超低电阻透明导电膜形成；以及显示层，设置在上述感应层的远离硬涂层的一侧。

进一步地，上述硬涂层的厚度为5～50μm，优选为5～10μm。

进一步地，上述超低电阻透明导电膜的厚度为5～100nm，优选为8～10nm。

进一步地，上述超低电阻透明导电膜包括：第一ITO导电层；第一抗氧化层，设置在上述第一ITO导电层的表面上；金属层，设置在上述第一抗氧化层的远离上述第一ITO导电层的表面上；第二抗氧化层，设置在上述金属层的远离上述第一抗氧化层的表面上；第二ITO导电层，设置在上述第二抗氧化层的远离上述金属层的表面上。

进一步地，上述金属层为金层或银层，优选上述金属层的厚度为6nm～12nm。

进一步地，上述第一ITO导电层与上述第二ITO导电层的光学厚度相等，上述第一ITO导电层与上述第二ITO导电层的光学厚度的总和为0.8～2.0个光学单位，优选上述第一ITO导电层与上述第二ITO导电层的折射率均大于2。

进一步地，上述基材层为柔性透明基材层，优选为PET材料层。

进一步地，上述导电图形层设置在硬涂层的表面上，上述基材层设置在上述导电图形层的远离上述硬涂层的表面上。

进一步地，上述基材层设置在硬涂层的表面上，上述导电图形层设置在上述基材层的远离上述硬涂层的表面上。

进一步地，上述感应层包括第一导电图形层与第二导电图形层，上述第一导电图形层设置在上述硬涂层的表面上，上述基材层设置在第一导电图形层的远离上述硬涂层的表面上，上述第二导电图形层设置在上述基材层的远离上述第一导电图形层的表面上。

应用本发明的技术方案，电容式触摸屏的感应层设置在硬涂层的表面上，使得感应层耐弯折；导电图形层的材料为超低电阻透明导电膜，其特殊的膜系结构，使得导电图形层具有良好的柔性，可实现大幅度弯曲甚至折叠；另外，超低电阻透明导电膜的方阻值较小，具有良好的导电性使其能够很好地应用于大尺寸触摸屏领域，使得柔性电容式触摸屏具有实现量产的可能性。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了本申请一种优选的电容式触摸屏的结构剖面示意图；

图2示出了本申请一种优选的超低电阻导电膜的结构剖面示意图；

图3示出了本申请一种优选的可以向外弯曲折叠的电容式触摸屏的结构剖面示意图；

图4示出了本申请一种优选的可以向内弯曲折叠的电容式触摸屏的结构剖面示意图；以及

图5示出了本申请一种优选的可以向内和向外弯曲折叠的电容式触摸屏的结构剖面示意图。

具体实施方式

应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用属于“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

正如背景技术所介绍的，现有技术中的电容式触摸屏难只能实现部分弯曲而不能折叠，使得量产无法实现，且无法应用于大尺寸触摸屏领域。为了解决如上问题，本申请提出了一种电容式触摸屏。

下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在本申请一种优选的实施方式中，如图1所示，提供了一种电容式触摸屏，包括硬涂层10、感应层20与显示层30，感应层20设置在硬涂层10的表面上，感应层20包括基材层21与导电图形层22，上述导电图形层22由超低电阻透明导电膜形成；显示层30设置在上述感应层20的远离硬涂层10的一侧。

具有上述结构的电容式触摸屏，感应层20设置在硬涂层10的表面上，使得感应层耐弯折；导电图形层22的材料为超低电阻透明导电膜，其特殊的膜系结构，使得导电图形层具有良好的柔性，可实现大幅度弯曲甚至折叠；另外，超低电阻透明导电膜的方阻值较小，具有良好的导电性使其能够很好地应用于大尺寸触摸屏领域，使得柔性电容式触摸屏具有实现量产的可能性。

为了保证超低电阻透明导电膜在弯折程度较大时不会被折断，使得电容式触摸屏具有更好的耐弯曲性，本申请优选硬涂层10的厚度为5～50μm；为了在保证电容式触摸屏具有更好耐弯曲性的基础上，进一步保证电容式触摸屏具有良好的柔性以及透光率，进一步优选硬涂层10的厚度为5～10μm。

本申请的又一种优选的实施方式中，超低电阻透明导电膜的厚度为5～100nm，这样的厚度能够使得超低电阻透明导电膜实现很好的弯曲折叠，为了使超低电阻透明导电膜的柔性达到较优，进一步优选超低电阻透明导电膜的厚度为8～10nm。

为了保证电容式触摸屏具有良好的柔性，可实现大幅度弯曲甚至折叠；同时使超低电阻透明导电膜具有良好的导电性，保证电容式触摸屏具有较好的灵敏度于驱动能力，进而可以将其应用于大尺寸电容式触摸屏，如图2所示，本申请优选超低电阻透明导电膜包括：第一ITO导电层221，第一抗氧化层222，金属层223，第二抗氧化层224，第二ITO导电层225；第一抗氧化层222设置在上述第一ITO导电层221的表面上，金属层223设置在上述第一抗氧化层222的远离上述第一ITO导电层221的表面上，第二抗氧化层224设置在上述金属层223的远离上述第一抗氧化层222的表面上，第二ITO导电层225设置在上述第二抗氧化层224的远离上述金属层223的表面上。

本申请的又一种优选的实施方式中，优选上述金属层223为金层或银层，这是因为金与银的电阻率很小，与超低电阻透明导电膜中的第一ITO导电层221、第一抗氧化层222、第二抗氧化层224与第二ITO导电层225间隙掺杂后，能进一步降低超低电阻透明导电膜的电阻率，进而提高电容式触摸屏的灵敏度和驱动能力。为了进一步同时保证超低电阻透明导电膜具有良好的导电性与柔性，优选上述金属层223的厚度为6nm～12nm。

本申请的又一种优选的实施方式中，优选上述第一ITO导电层221与第二ITO导电层225的光学厚度的总和为0.8～2.0个光学单位。这样一方面使得超低电阻透明导电膜的总厚度较小，保证了其具有良好的柔性；另一方面，可以减小上述超低电阻透明导电膜对光的吸收，能够使得超低电阻透明导电膜对光的吸收及反射减小，进而使透光率达到较大值，为了使超低电阻透明导电膜的制作工艺简单方便，本申请优选第一ITO导电层221与第二ITO导电层225的光学厚度相等。为了提高超低电阻透明导电膜的透光率，本申请优选第一ITO导电层221与第二ITO导电层225的折射率均大于2。

本申请的另一种优选的实施例中，优选上述基材层21为柔性透明基材层，一方面柔性透明基材层具有良好的柔性，可实现大幅度弯折甚至是折叠；另一方面，它能够使感应层20在高温、高频时保持较好的电性能，为了提高柔性透明基材层的上述各性能，本申请进一步优选为PET材料层。

为了实现电容式触摸屏的向外弯曲折叠，如图3所示，本申请优选上述导电图形层22设置在硬涂层10的表面上，上述基材层21设置在上述导电图形层22的远离上述硬涂层10的表面上。

本申请的又一种优选实施例中，优选上述基材层21设置在硬涂层10的表面上，上述导电图形层22设置在上述基材层21的远离上述硬涂层10的表面上，这样可以实现电容式触摸屏的向内弯曲折叠，如图4所示。

为了可以同时实现电容式触摸屏的向内向弯曲与外弯曲，如图5所示，本申请优选述感应层20包括第一导电图形层22与第二导电图形层22’，上述第一导电图形层22设置在上述硬涂层10的表面上，上述基材层21设置在第一导电图形层22的远离上述硬涂层10的表面上，上述第二导电图形层22设置在上述基材层21的远离上述第一导电图形层22的表面上。

从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：

具有上述结构的电容式触摸屏，感应层设置在硬涂层的表面上，使得感应层耐弯折；导电图形层的材料为超低电阻透明导电膜，其特殊的膜系结构，使得导电图形层具有良好的柔性，可实现大幅度弯曲甚至折叠；另外，超低电阻透明导电膜的方阻值较小，具有良好的导电性使其能够很好地应用于大尺寸触摸屏领域，使得柔性电容式触摸屏具有实现量产的可能性。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种电容式触摸屏，其特征在于，所述电容式触摸屏包括：

硬涂层；

感应层，设置在硬涂层的表面上，包括基材层与导电图形层，所述导电图形层由超低电阻透明导电膜形成；以及

显示层，设置在所述感应层的远离硬涂层的一侧，

所述超低电阻透明导电膜包括：

第一ITO导电层；

第一抗氧化层，设置在所述第一ITO导电层的表面上；

金属层，设置在所述第一抗氧化层的远离所述第一ITO导电层的表面上；

第二抗氧化层，设置在所述金属层的远离所述第一抗氧化层的表面上；

第二ITO导电层，设置在所述第二抗氧化层的远离所述金属层的表面上，

所述第一ITO导电层与所述第二ITO导电层的光学厚度相等，所述第一ITO导电层与所述第二ITO导电层的光学厚度总和为0.8～2.0个光学单位，所述第一ITO导电层与所述第二ITO导电层的折射率均大于2。

2.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述硬涂层的厚度为5～50μm。

3.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述硬涂层的厚度为5～10μm。

4.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述超低电阻透明导电膜的厚度为5～100nm。

5.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述超低电阻透明导电膜的厚度为8～10nm。

6.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述金属层为金层或银层。

7.根据权利要求6所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述金属层的厚度为6nm～12nm。

8.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述基材层为柔性透明基材层。

9.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述基材层为PET材料层。

10.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述导电图形层设置在硬涂层的表面上，所述基材层设置在所述导电图形层的远离所述硬涂层的表面上。

11.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述基材层设置在硬涂层的表面上，所述导电图形层设置在所述基材层的远离所述硬涂层的表面上。

12.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述感应层包括第一导电图形层与第二导电图形层，所述第一导电图形层设置在所述硬涂层的表面上，所述基材层设置在第一导电图形层的远离所述硬涂层的表面上，所述第二导电图形层设置在所述基材层的远离所述第一导电图形层的表面上。