CN104241172B - 一种硅片清洗装置 - Google Patents

一种硅片清洗装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104241172B
CN104241172B CN201410413741.2A CN201410413741A CN104241172B CN 104241172 B CN104241172 B CN 104241172B CN 201410413741 A CN201410413741 A CN 201410413741A CN 104241172 B CN104241172 B CN 104241172B
Authority
CN
China
Prior art keywords
pipe
plectane
round tube
silicon wafer
outer pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201410413741.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104241172A (zh
Inventor
陈小力
王进昌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Hui Guang light Limited by Share Ltd
Original Assignee
ZHEJIANG HUIHONG PHOTOELECTRIC ENERGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ZHEJIANG HUIHONG PHOTOELECTRIC ENERGY Co Ltd filed Critical ZHEJIANG HUIHONG PHOTOELECTRIC ENERGY Co Ltd
Priority to CN201410413741.2A priority Critical patent/CN104241172B/zh
Publication of CN104241172A publication Critical patent/CN104241172A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104241172B publication Critical patent/CN104241172B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67313—Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67023—Apparatus for fluid treatment for general liquid treatment, e.g. etching followed by cleaning

Abstract

本发明提供了一种硅片清洗装置，旨在解决现有的硅片清洗装置清洗硅片效率低的问题，包括花篮、清洗装置，花篮包括内圆管和外圆管，内圆管上设有外卡槽，外圆管上设有内卡槽，内圆管底部和外圆管的底部之间固连有杆；内圆管上开设有内通槽；外圆管上开设有外通槽；清洗装置包括圆板、中心圆管；中心圆管外侧壁上环绕有中心圆管喷头；圆板上设有圆板喷头，每个圆板喷头上端均连有一个穿设在圆板上的水管连接头。本发明中设有环形的花篮，圆板喷头可以从上端对硅片进行冲洗，中心圆管喷头可以从内圆管中心孔中向外对硅片进行清洗，清洗时的工作效率高，而且环形的花篮不存在死角，容易清洗，而且清洗的干净。

Description

一种硅片清洗装置
技术领域
本发明涉及一种硅片清洗装置。
背景技术
目前的硅片清洗装置中采用的花篮为方形，通过花篮上方的喷头对花篮中的硅片进行清洗，但是现有的硅片清洗装置清洗硅片时的速度较慢，工作效率低；由于方形的花篮存在很多死角，很难清洗干净。
发明内容
本发明提供了一种硅片清洗装置，旨在解决现有的硅片清洗装置清洗硅片效率低的问题。
为了解决以上技术问题，本发明通过以下技术方案实现：一种硅片清洗装置，包括用于放置硅片的花篮、用于清洗硅片的清洗装置，所述花篮包括同轴的内圆管和外圆管，所述内圆管的外侧壁上设有外卡槽，所述外圆管的内侧壁上设有与外卡槽一一对应且与外卡槽配合放置硅片的内卡槽，所述内圆管底部和外圆管的底部之间固连有杆；所述内圆管上开设有用于连通外卡槽与内圆管内部且与外卡槽一一对应的内通槽，每个外卡槽顶部均与内圆管的上端相通，每个外卡槽的底部均不与内圆管底端相通；所述外圆管上开设有用于连通内卡槽与外圆管外部且与内卡槽一一对应的外通槽，每个内卡槽顶部均与外圆管的上端相通，每个内卡槽的底部均不与外圆管的底端相通；所述清洗装置包括设置在花篮上方的圆板、穿设在圆板中心上且下端封闭的中心圆管；中心圆管外侧壁上位于圆板下方的部分环绕有中心圆管喷头；所述圆板上设有一圈向下喷淋的圆板喷头，所述圆板喷头位于内圆管和外圆管之间部分的正上方，每个圆板喷头上端均连有一个穿设在圆板上的水管连接头。
进一步，还包括用于夹持花篮且可旋转的三爪卡盘；通过旋转可以将脏物甩出，清洗完后，也有利于硅片的干燥。
进一步，所述杆有三个且均布在内圆管和外圆管之间；多于三个时，浪费材料；少于三个时，内圆管和外圆管连接时的牢固性较差。
与现有技术相比本发明的优点是：本发明中设有环形的花篮，圆板喷头可以从上端对硅片进行冲洗，中心圆管喷头可以从内圆管中心孔中向外对硅片进行清洗，清洗时的工作效率高，而且环形的花篮不存在死角，容易清洗，而且清洗的干净。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明：
图1为本发明的爆炸图；
图2为本发明中清洗装置底面朝上时的结构示意图；
图3为本发明中花篮的结构示意图。
具体实施方式
参阅图1、图2和图3，一种硅片清洗装置，包括用于放置硅片的花篮2、用于清洗硅片的清洗装置3，所述花篮2包括同轴的内圆管21和外圆管22，所述内圆管21的外侧壁上设有外卡槽211，所述外圆管22的内侧壁上设有与外卡槽211一一对应且与外卡槽211配合放置硅片的内卡槽221，一个硅片卡接在两个对应的外卡槽211和内卡槽221之间；所述内圆管21底部和外圆管22的底部之间固连有杆23；所述内圆管21上开设有用于连通外卡槽211与内圆管21内部且与外卡槽211一一对应的内通槽212，每个外卡槽211顶部均与内圆管21的上端相通，每个外卡槽211的底部均不与内圆管21底端相通；所述外圆管22上开设有用于连通内卡槽221与外圆管22外部且与内卡槽221一一对应的外通槽222，每个内卡槽221顶部均与外圆管22的上端相通，每个内卡槽221的底部均不与外圆管22的底端相通；所述清洗装置3包括设置在花篮2上方的圆板31、穿设在圆板31中心上且下端封闭的中心圆管32；中心圆管32外侧壁上位于圆板31下方的部分环绕有中心圆管喷头34；所述圆板31上设有一圈向下喷淋的圆板喷头33，所述圆板喷头33位于内圆管21和外圆管之间部分的正上方，每个圆板喷头33上端均连有一个穿设在圆板31上的水管连接头35；所述中心圆管32和连接头35均与水管相连。
使用时，用三爪卡盘1将花篮2固定住，然后将清洗装置3中的中心圆管32插入到内圆管21的中心孔内，然后使圆板喷头33和中心圆管喷头34喷水，在喷水过程中定期使三角卡盘1带动花篮2旋转，可以将脏物甩出；当冲洗完后，旋转三角卡盘1，可以甩出硅片上的残留水分，有利于后序硅片的快速干燥；然后取下花篮。
本发明中设有环形的花篮，圆板喷头可以从上端对硅片进行冲洗，中心圆管喷头可以从内圆管中心孔中向外对硅片进行清洗，清洗时的工作效率高，而且环形的花篮不存在死角，容易清洗，而且清洗的干净；三爪卡盘可以进一步提高除去硅片表面脏污的效率，而且有利于后续的干燥。
以上所述仅为本发明的具体实施例，但本发明的技术特征并不局限于此，任何本领域的技术人员在本发明的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围之中。

Claims (1)

1.一种硅片清洗装置，包括用于放置硅片的花篮(2)、用于清洗硅片的清洗装置(3)，其特征是：所述花篮(2)包括同轴的内圆管(21)和外圆管(22)，所述内圆管(21)的外侧壁上设有外卡槽(211)，所述外圆管(22)的内侧壁上设有与外卡槽(211)一一对应且与外卡槽(211)配合放置硅片的内卡槽(221)，所述内圆管(21)底部和外圆管(22)的底部之间固连有杆(23)；所述内圆管(21)上开设有用于连通外卡槽(211)与内圆管(21)内部且与外卡槽(211)一一对应的内通槽(212)，每个外卡槽(211)顶部均与内圆管(21)的上端相通，每个外卡槽(211)的底部均不与内圆管(21)底端相通；
所述外圆管(22)上开设有用于连通内卡槽(221)与外圆管(22)外部且与内卡槽(221)一一对应的外通槽(222)，每个内卡槽(221)顶部均与外圆管(22)的上端相通，每个内卡槽(221)的底部均不与外圆管(22)的底端相通；
所述清洗装置(3)包括设置在花篮(2)上方的圆板(31)、穿设在圆板(31)中心上且下端封闭的中心圆管(32)；中心圆管(32)外侧壁上位于圆板(31)下方的部分环绕有中心圆管喷头(34)；所述圆板(31)上设有一圈向下喷淋的圆板喷头(33)，所述圆板喷头(33)位于内圆管(21)和外圆管之间部分的正上方，每个圆板喷头(33)上端均连有一个穿设在圆板(31)上的水管连接头(35)；
还包括用于夹持花篮且可旋转的三爪卡盘(1)；
所述杆(23)有三个且均布在内圆管(21)和外圆管(22)之间。
CN201410413741.2A 2014-08-21 2014-08-21 一种硅片清洗装置 Expired - Fee Related CN104241172B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410413741.2A CN104241172B (zh) 2014-08-21 2014-08-21 一种硅片清洗装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410413741.2A CN104241172B (zh) 2014-08-21 2014-08-21 一种硅片清洗装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104241172A CN104241172A (zh) 2014-12-24
CN104241172B true CN104241172B (zh) 2017-01-25

Family

ID=52229014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410413741.2A Expired - Fee Related CN104241172B (zh) 2014-08-21 2014-08-21 一种硅片清洗装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104241172B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106298601A (zh) * 2016-10-08 2017-01-04 无锡宏纳科技有限公司 晶圆储存筒

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201315314Y (zh) * 2008-12-19 2009-09-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶片清洗装置
CN203983246U (zh) * 2014-08-21 2014-12-03 浙江辉弘光电能源有限公司 一种硅片清洗装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201315314Y (zh) * 2008-12-19 2009-09-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶片清洗装置
CN203983246U (zh) * 2014-08-21 2014-12-03 浙江辉弘光电能源有限公司 一种硅片清洗装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN104241172A (zh) 2014-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN208582358U (zh) 一种水槽洗碗机
CN206102599U (zh) 一种可自净清洗的洗碗机
CN104241176B (zh) 一种用于放置硅片的环形花篮
CN203987826U (zh) 马桶内边缘清刷器
CN206483757U (zh) 一种多功能高压清洗机
CN104241172B (zh) 一种硅片清洗装置
CN105215025A (zh) 饮料用清洗装置
CN208926271U (zh) 一种清洗机
CN206779097U (zh) 旋转洗杯器
CN206342439U (zh) 家用洗碗机
CN203983246U (zh) 一种硅片清洗装置
CN209136491U (zh) 净污水分离的拖把清洗装置
CN204542004U (zh) 一种洗碗机顶喷淋组件及洗碗机
CN204445747U (zh) 洗碗机
CN109330524A (zh) 一种用于清洗水瓶的洗碗机
CN203776746U (zh) 一种可入水冲洗的蔬菜脱水器
CN104586333A (zh) 洗碗机
CN109965814A (zh) 一种清洗机
CN209020904U (zh) 一种清洗装置
CN207615303U (zh) 小型金属管材清洗盒
CN203556616U (zh) 一种半自动喷水清洗装置
CN107616770A (zh) 一种洗碗机喷淋装置及洗碗机
CN204802618U (zh) 一种自动放料清洗装置
CN205165297U (zh) 针头式药瓶清洗器
JP2015146951A (ja) 洗浄機

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP03 Change of name, title or address
CP03 Change of name, title or address

Address after: 314200 No. 899 Xinxing three road, Pinghu economic and Technological Development Zone, Jiaxing, Zhejiang

Patentee after: Zhejiang Hui Guang light Limited by Share Ltd

Address before: 314200 No. 899 Xinxing three road, Pinghu Economic Development Zone, Jiaxing, Zhejiang

Patentee before: ZHEJIANG HUIHONG PHOTOELECTRIC ENERGY CO., LTD.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170125

Termination date: 20190821