CN104204403A - 可调节流动控制装置 - Google Patents

Abstract

一种流动控制装置，其包括：流体路径，被构造成在井管的外部与井管的内部之间提供流体连通；流动限制件，被设置在流体路径中；流动堵塞件，被设置在流体路径中；以及保持构件，被构造成将流动堵塞件保持在流体路径中，并允许接近流体路径中的流动堵塞件。该流动堵塞件基本上防止流体流经所述流体路径。

Description

可调节流动控制装置

背景技术

井眼有时被钻到地层中，用以从地层中产出一种或多种流体。例如，井眼可用于产出一种或多种碳氢化合物。如水之类额外的成分也可与碳氢化合物一起被产出，虽然(人们)会进行多种尝试以限制从井眼或者井眼中特定的区段产出水。在井眼的使用寿命中，如碳氢化合物气体之类的其他成分基于各种原因也可能被限制。

在从被井眼穿过的地层的长区段产出流体的情况下，公知的是，平衡流体沿该区段的产出能够引起水锥和气锥减小，以及更加受控的浓度，从而增大从该区段产出的油或其他期望流体的比例和总量。各种装置和完井组件已被用于帮助使流体从井眼中的区段的产出平衡。例如，流入控制装置(ICD)已经与井筛共同使用，以便为了平衡沿着一区段的产出的目的，而限制产出的流体流经这些井筛。例如，在长的水平井眼中，与靠近井眼的趾部(toe)流动的流体相比，靠近井眼的跟部(heel)流动的流体可被更多地限制，由此平衡沿着井眼的产出。

发明内容

根据一实施例，一种流动控制装置包括：流体路径，被构造成在井管的外部与井管的内部之间提供流体连通；流动限制件，被设置在流体路径中；流动堵塞件，被设置在流体路径中；以及保持构件，被构造成将流动堵塞件保持在流体路径中，并允许接近流体路径中的流动堵塞件。该流动堵塞件基本上防止了通过该流体路径的流体流动。

在实施例中，一种方法包括：设置流动控制装置，该流动控制装置包括多个流体路径，这些流体路径位于井管的外部与井管的内部之间，且该流动控制装置包括多个流动限制件，这些流动限制件被设置在多个流体路径的对应的流体路径中；选择性地将一个或多个流动堵塞件安装到多个流体路径、或从多个流体路径去除一个或多个流动堵塞件；以及通过清除了一个或多个流动堵塞件的流体路径来产出流体。

在实施例中，一种调节流动的流体阻力的方法包括：确定来自井眼中的区段的期望的流体的流阻；以及通过多个单独的流动限制器来选择性地阻挡或接通一个或多个流体路径，以向全部流体路径提供期望的流体流阻。

从与附图和权利要求书配合的以下详细的描述中将更清晰地理解这些和其他特征。

附图说明

为了更完整地理解本发明，现在参照以下与附图和详细的描述有关的简短描述：

图1是根据本发明的井眼检修系统的实施例的剖视图；

图2是包括流动控制装置的实施例的井筛组件的部分剖视图；

图3是沿着图2中的线A-A'截取的流动控制装置的实施例的部分剖视图；

图4是包括流动控制装置的又一实施例的井筛组件的部分剖视图；

图5是包括流动控制装置的再一实施例的井筛组件的部分剖视图；

图6是包括流动控制装置的另一实施例的井筛组件的部分剖视图；

图7是包括流动控制装置的又一实施例的井筛组件的部分剖视图；

图8是包括流动控制装置的再一实施例的井筛组件的部分剖视图。

具体实施方式

在附图以及以下描述中，相似的部分在整个说明书和附图中通常分别用相同的附图标记进行标记。附图并非一定成比例。本发明的某些特征可以以放大的比例或者以稍微示意性的形式示出，并且现有元件的一些细节可以为了清楚和简明而不示出。

除非另有说明，否则术语“连接”、“接合”、“联接”、“附接”或描述元件之间相互作用的任何其他术语的任何形式的任何使用不打算将这种相互作用限制为元件之间的直接的相互作用，而是也可包括所描述的元件之间的间接的相互作用。在以下的讨论中以及权利要求书中，术语“包括”和“包含”以开放式的方式来使用，并且因此应被解释为其含义是“包括，但不限于……”。为了描述的目的，会以“上”、“上部”、“向上”、“上游”或“以上”来提到上、或以“下”、“下部”、“向下”、“下游”或“以下”来提到下，“上”、“上部”、“向上”、“上游”或“以上”的含义是朝向井眼的地面，而“下”、“下部”、“向下”、“下游”或“以下”的含义是朝向井的末端，而不管井眼的方向。一旦阅读以下对本发明的详细描述，并且通过参照附图，以上提到的多个特性，以及以下更详细地描述的其他特征和特性在本说明书的帮助下，对于本领域技术人员将是显而易见的。

在此披露的是在井眼中使用的可调节流动控制装置，其可作为ICD使用。流动控制装置可构成井筛组件的一部分，并且可包括流体路径，该流体路径可被选择性地调整，以允许流体流动或者基本上防止流体流动。因此，通过流动控制装置的流动能够基于对来自井眼中的区段的期望的流动阻力和/或流速而被调整，从而允许来自井眼中的一个或多个区段的产出被平衡。在某些实施例中，流动控制装置可包括多个流体路径和流动限制件，每个流体路径和流动限制件可被选择性地且单独地调整，以提供待选择的期望的总流动阻力和/或总体流速。多个流动限制件中的每一个可具有不同的流动阻力，从而提供范围广泛的总体阻力和/或流速。因此，可调节流动控制装置可用于对来自井眼的产出进行细调(fine tune)，相对于具有相对固定的阻力和/或流速的其他ICD这是有利的。

在此披露的可调节流动控制装置可允许对单独的流体路径进行选择性的调整，而无需去除被设置在流体路径中的流动限制件。为使该类型的通路能够实现，可用保持构件对每个流体路径提供单独且直接的入口，并且允许流动堵塞件被设置在流体路径中和/或从流体路径中被去除。相对于需要整套路径被打开或密封地关闭的其他ICD来说这是有利的。另外，保持构件可从流动控制装置的外部直接地接近，从而相对于需要去除盖和/或套管的其他设计来说节省时间。而且，在此披露的流动控制装置可被容易地调整，这样就能够允许在被制造与被设置在井眼中之间的时候，对通过流动控制装置的流动进行一次或多次的调整和/或再调整。

参照图1，其示出了井眼操作环境的示例，流动控制装置可在该井眼操作环境中使用。如图所示，操作环境包括修井架和/或钻架106，该修井架和/或钻架被定位在地球表面(地面)104上，并且在井眼114上且围绕井眼114延伸，该井眼为了取得碳氢化合物的目的而穿过地层102。井眼114可利用任何适当的钻孔技术钻到地层102中。井眼114在竖直井眼部116上基本竖直地离开地面104延伸，在偏斜井眼部136上相对于地面104从竖直方向偏斜，并且过渡到水平井眼部117。在替代的操作环境中，井眼的所有部分或多个部分可以是竖直的、以任何适当的角度偏斜的、水平的、和/或弯曲的。井眼可以是新的井眼、现有的井眼、直的井眼、大位移井眼、侧钻井眼(sidetracked wellbore)、多侧井眼、以及其他类型的用于钻开和完成一个或多个产出层的井眼。而且，井眼可用于产出井和注入井两者。

井眼管柱120可被下放到地层102中，以在井眼的整个寿命中用于各种钻井、完井、修井、处理和/或产出过程。图1所示实施例示出的井管(井眼管柱)120呈被设置在井眼114中的完井组件管柱的形式。应理解的是，井管120可同样地适用到被插入到井眼中的任何类型的井管，作为非限制性的示例，井管包括钻杆、套管、衬管、连接管和/或螺旋管。而且，井管120可沿任何井眼方向(例如竖直、偏斜、水平和/或弯曲)操作和/或按照此处描述的类型操作。在实施例中，井眼可包括井眼套管112，该井眼套管可用水泥固定在井眼114中的适当位置。

在实施例中，井眼管柱120可包括完井组件管柱，该完井组件管柱包括一个或多个井管类型以及一个或多个井下工具(例如，层段封隔装置118、筛、阀，等等)。一个或多个井下工具可采取多种形式。例如，层段封隔装置118可用于隔离井眼114中的多个区域，并且可包括(但是不限于)封隔器(例如，产出封隔器、砾石充填封隔器、压裂充填封隔器，等等)。在实施例中，井眼管柱120可包括多个井筛组件122，这些井筛组件可被设置在水平井眼部117中。层段封隔装置118例如可被用在多个井筛组件122之间，以使沿着井眼114的不同的区域或者区段彼此隔离。

修井架和/或钻架106可包括井架108，井架108具有钻台110，井管120从钻架106通过该钻台向下延伸到井眼114中。修井架和/或钻架106可包括马达驱动式绞车以及其他相关的设备，用于将井管120运输到井眼114中，以将井管120设置在选定的深度。虽然图1示出的操作环境是指陆基井眼114中的用于运输井管120的静止的修井架和/或钻架106，但在替代的实施例中，移动式修井架、井眼检修单元(如螺旋管单元)以及相似设备可用于运输井眼114中的井管120。应理解的是，井管120可在其他操作环境中被替代性地使用，如在离岸井眼操作环境中。

在此描述的流动控制装置允许通过流动控制装置的流动阻力和/或流速被选择性地调整。在此描述的流动控制装置基本包括：流动限制件，被设置在井管的外部与井管的内部之间的流体路径中；流动封阻器，被设置在流体路径中，其中，该流动封阻器被构造成基本上防止通过流体路径的流体流动；以及保持构件，被构造成将流动封阻器保持在流体路径中。流动控制装置可当将流动限制件留在流体路径中的一定位置的同时被调整。另外，流动控制装置可通过从流动控制装置的外部穿过保持构件直接进入流体路径而被调整。

现在参照图2，其以放大的比例代表性地示出包括流动控制装置的一个井筛组件122的示意性的部分剖视图。井筛组件122的流动控制装置是以下描述的流动控制装置的若干不同的示例中的一个示例，这些流动控制装置具有替代性的构造。井筛组件122基本包括过滤部202和流动控制装置204。过滤部202用于从流体中过滤任何砂粒和/或其他岩屑的至少一部分，上述流体通常从外部216流到筛组件122的内部。过滤部202在图2中是作为被称为“绕丝”的类型示出的，因为过滤部由围绕井管206螺旋式地紧密缠绕的线材构成，并且线材的多个圈之间的间隔被选择为防止大于选定尺寸的砂粒和相似物从线材的多个圈之间穿过。也可以使用其他类型的过滤部(诸如烧结式过滤部、网孔式过滤部、预充填式过滤部、可膨胀式过滤部、槽式过滤部、穿孔式过滤部，等等)。

流动控制装置204可执行若干种功能。在实施例中，流动控制装置204是ICD，其功能是限制经过流动控制装置的流动，例如用以平衡沿一区段的流体的产出。流动控制装置204基本包括流动限制件208，该流动限制件被设置在流体路径210中，流体路径210位于井管206的外部216与井管206的内部通孔218之间。在实施例中，流动限制件208被设置在壳体226中。壳体226可包括一基本圆筒形的构件，该基本圆筒形的构件被设置成围绕井管206。壳体226可与井管206固定地接合，并且一个或多个密封件可被设置在壳体226与井管206的外表面之间，以在壳体226与井管206之间提供基本上不透流体的接合。

套管228包括一环形构件，该环形构件被设置成围绕壳体226的一部分和过滤部202的一部分，以对井管206的外部216和穿过壳体226的流体路径210提供密封。套管228与壳体226的外表面形成密封接合，并且一个或多个密封件(例如O形环)可被用在套管228和/或壳体226中的对应的凹部中，以帮助形成密封接合。套管228可被构造成与过滤部202的一部分接合，并且防止流体没有首先经过过滤部202就进入到壳体226中。在套管228的内表面、井管206的外表面、壳体226与过滤部202之间可限定有腔室232。虽然套管是作为壳体226的单独的部件示出的，但套管228可与壳体226一体化，和/或壳体226和套管228可以是单个的单元式部件。

任何经过过滤部202和腔室232的流体可被引向流体路径210，流体路径210被设置为沿基本纵向穿过壳体226。流体路径210可在井管206的内部通孔218与外部216之间提供流体连通的通路。流体路径210通常可包括圆柱形通孔，但也可使用诸如椭圆形、正方形、矩形、梯形等其他横截面形状。流体路径210通常从壳体226的第一端234延伸到壳体226的第二部分236，壳体226的第一端234与腔室232流体连通，壳体226的第二部分236中设有一个或多个端口222。端口222可与被设置在井管206中的一个或多个端口224对准，并且端口222、224可一起提供流体路径210与井管206的内部通孔218之间的流体连通路线。

在实施例中，多个流体路径210可围绕井管206的周缘，被设置在壳体226中。图3示出沿着图2的线A-A'截取的流动控制装置的实施例的剖视图。在该实施例中，八个流动限制件302、304围绕井管206，被设置在壳体226中的八个对应的流体路径中。每个流体路径可被构造成在井管206的外部216与井管206的内部通孔218之间提供流体连通。虽然图3示出八个流体路径，但在壳体226中的流体路径210的可用空间的限制条件下，任何数量的流体路径可与在此描述的流动控制装置一起被使用。在实施例中，流动控制装置可包括约1个到约12个之间的流体路径，替代地包括约2个到约10个之间的流体路径。在某些实施例中，在壳体226中可设有多于12个的流体路径，以对通过流动控制装置的更大的流体流速提供更大的流动面积。

在实施例中，这些流体路径可围绕井管206均匀地分布，或者多个流体路径210可不均匀地分布。例如，井管206在壳体226中的偏心对准能够允许流体路径围绕井管206以偏心对准方式来使用。在实施例中，每个流体路径210可具有相同或不同的直径和/或纵向长度。

回到图2，流动限制件208通常可被设置在位于第一端234与一个或多个端口222之间的流体路径210中。流动限制件208被构造成对通过流动限制件208的流体流动提供期望的阻力。流动限制件208可被选择为提供用于平衡沿一区段的产出的阻力。多种类型的流动限制件208能够与在此描述的流动控制装置一起使用。在图2示出的实施例中，流动限制件包括喷嘴，该喷嘴包括中心开口(例如孔口)，用于在流经流动限制件208的流体中产生阻力和压降。其他合适的流动限制件也可被使用，包括(但是不限于)狭窄的流管、环形通道、弯管流动限制器、螺旋管以及相似物。狭窄的流管可包括具有大于约2.5的长度对直径比并且提供期望的流动阻力的任何管。相似地，环形通道包括狭窄的流动通道，由于流体路径的表面施加的摩擦力，使得上述狭窄的流动通道提供流动阻力。弯管流动限制器包括管状结构，该管状结构迫使流体当其进入且流经流动限制器时改变方向。类似地，螺旋管流动限制器包括流体路径，该流体路径迫使流体当其流经流动限制器时跟随螺旋流动路径。通过弯管和/或螺旋管流动限制器的流体的动量的重复改变增加了流动阻力，并且能够允许较大的流动通道的使用，该较大的流动通道不会像狭窄的流管和/或环形通道的狭窄的流动通道那么容易阻塞。这些不同的流动限制件类型的每一个可用于提供流体流动通过流动限制器的期望的流动阻力和/或压降。由于流动阻力可基于流体的类型改变，流动限制件的类型可选择为对于一种或多种类型的流体提供期望的流动阻力。

流动限制件会受到经过流动限制件的流体的腐蚀和/或磨耗。因此，流动限制件，或者至少接触流体流动的那些部分可由任何合适的耐腐蚀和/或耐磨材料形成。合适的材料可包括各种硬质材料，诸如各种钢、钨、铌、钒、钼、硅、钛、钽、锆、铬、钇、硼、碳化物(例如碳化钨、碳化硅、碳化硼)、氮化物(例如氮化硅、氮化硼)、氧化物、硅化物、及其合金、以及它们的任何组合。在实施例中，这些硬质材料中的一种或多种可形成复合材料的一部分。例如，硬质材料可形成在抵抗腐蚀和/或磨耗中有用的颗粒相或不连续相，并且基质材料可与硬质颗粒相结合。合适的基质材料可包括铜、镍、铁、钴、及其合金，以及它们的任何组合。由于机器加工硬质耐磨耐腐蚀和/或耐磨损材料通常既困难又昂贵，所以流动限制件可由期望构造的金属形成，且随后流动限制件的一个或多个部分可被处理以提供期望的耐磨耗、耐腐蚀和/或耐磨损。用于提供耐腐蚀和/或耐磨损特性的合适的表面处理可包括(但不限于)渗碳、渗氮、热处理、以及它们的任何结合。在腐蚀和/或磨耗不成问题的实施例中，还可使用如各种聚合物等额外的合适材料。

在多个流体路径210围绕井管206被设置在壳体226中的实施例中，流动限制件208可被设置在每个流体路径210中。流动限制件208的设计和类型可针对被设置在每个流体路径210中的每个流动限制件而改变。例如，每个流体路径中的流动限制件208的类型可以是相同或不同的。

在实施例中，被设置在每个流体路径210中的每个流动限制件的设计也可以是相同或不同的。在如图3所示的实施例中，喷嘴类型的流动限制件302、304中的中心开口的尺寸可确定通过每个流动限制件302、304的流动阻力以及压降。被设置在每个流体路径210中的流动限制件302、304各自可具有不同尺寸的中心开口，从而与具有较高流动阻力的其他流动限制件304(例如利用较小的中心开口)相比，使一些流动限制件302具有较低的流动阻力(例如利用较大的中心开口)。在图3示出的实施例中，流动限制件302的中心开口可大于流动限制件304的中心开口。因此，大流动限制件302与小流动限制件304的组合可用于提供通过流动控制装置的期望的总流阻和/或流速。虽然图3中仅示出两个中心开口尺寸，但应理解，还可设有三个或更多个不同的尺寸，并且在实施例中，每个流动限制件可具有不同尺寸的限制部。在实施例中，通过流动控制装置的总流速和总流阻或总体的流速和流动阻力可以是由多个流动限制件208(这些流动限制件被设置在多个流体路径210中)所提供的每一个单独的流速和阻力的组合的函数。能够利用对流体具有不同阻力的流动限制件208的组合，就能够对于给定流动控制装置，实现大范围供选择的总流速以及流动阻力，从而提供平衡沿着一区段的产出的能力。

返回图2的实施例，流动限制件208可被固定地接合在流体路径210中。例如，流动限制件208可被压配合、扣合、结合(例如，粘附、软钎焊(soldered)、焊接，等等)，和/或与壳体一体地形成，从而不能从壳体226移动。在某些情况下，这可被认为是永久地安装在壳体226中。在某些实施例中，流动限制件208可与壳体226接合，但不与壳体226永久地接合，而是仅可通过去除流动控制装置中的一个或多个部分，例如通过去除套管228而接近。在实施例中，流动限制件208可以是不能通过进入端口230和/或壳体226中凹进的保持构件214来接近和/或去除的。

在产出操作期间，流体220通常会从井管206的外部216流到筛组件122，通过过滤部202，并流到流动控制装置204。在流动控制装置204中，流体220能够流经腔室232，通过流动限制件208(该流动限制件可对流体220的流动提供阻力)，通过流体路径210，通过壳体226中的一个或多个端口222，且随后通过被设置在井管206中的一个或多个端口224。然后，流体220能够流入井管206的内部通孔218中，该内部通孔纵向地延伸穿过作为管柱120的一部分的流动控制装置。流体220能够通过管柱120被产出到地面。流体220还可通过过滤部202和/或流动控制装置204向外流动。例如，在完井操作期间，流体220可从井管206的内部通孔218朝向井管206的外部216向外流动。当根据过滤部202和流动控制装置204的具体的设置来描述时，流动控制装置204可相对于从井管206的外部216流到内部通孔218的流体，处于过滤部202的上游。

流动堵塞件212可被设置在流体路径210中，并且可通过保持构件214被保持在流体路径210中。保持构件214可与壳体226可去除地接合，以允许设置和/或去除流体路径210中的流动堵塞件212。在图2示出的实施例中，保持构件包括进入插塞，该进入插塞具有带螺纹的外部，该螺纹被构造成接合被设置在壳体226上的对应螺纹。在实施例中，进入插塞可被压配合、扣合和/或通过诸如固定夹(例如开口环)、定位螺钉或相似物的保持元件的使用而保持与壳体226接合。在包括围绕井管206被设置在壳体226中的多个流体路径210的实施例中，对应的保持构件214可与每个流体路径210一起使用，以允许进入每个单独的流体路径210。

保持构件214可通过进入端口230从流动控制装置的外部216接近，该进入端口允许直接进入到每个单独的流体路径210。进入端口230可从外部216进入而无需去除流动控制装置中的任何额外的部件和/或任何其他完井装配部件。由于保持构件214可直接暴露于井眼环境，所以保持构件214可与壳体226形成基本上不透流体的密封。一个或多个密封件(例如O形环密封件等等)可用于在保持构件214与壳体226之间提供密封。相对于现有技术的设有盖或套管、必须去除盖或套管才能进入内部流体路径210的设计，能够直接进入单独的流体路径210是优点。

流动堵塞件212当被设置于流体路径210中时，可用于基本上防止通过流体路径210的流体流动，并且可包括任何能够基本上防止或阻挡通过流体路径210的流体流动的机构。流动堵塞件212可允许对壳体226中的一个或多个流体路径210进行选择性的限制。与通过保持构件214进入相结合，设置在流体路径210中的流动堵塞件212可用于快速地配置和/或再配置流动阻力和/或通过流动控制装置(该流动控制装置具有多个流动限制件208，这些流动限制件被固定在壳体226中)的压降。

在图2示出的实施例中，流动堵塞件212可包括杆或插塞。杆可被构造成该杆被可去除地设置在流体路径中，并且具有对应的形状以与流体路径210配合。相对于流体路径210，杆可具有相对较小的容差，由此当杆被设置在流体路径210中时，在杆与流体路径210之间可仅保留较小的环形间隙。杆的长度可足够延伸到流体路径210中，超出被设置在壳体226中的一个或多个端口222，由此基本上防止通过流体路径210的流动。杆的直径可大于通过流动限制件的路径(例如，喷嘴的中心开口)，并由此被保持在位于保持构件214与流动限制件208之间的流体路径210中。在实施例中，杆也可不与流体路径210形成不透流体的密封。然而，杆的外表面与流体路径210的内表面之间的任何小环形空间可形成具有相对较高的流动阻力的环空，该流动阻力可基本上大于任何通过相同或不同的流动控制装置上的另一流体路径210的流动阻力。由于流动阻力增大，所以可基本上防止流体流经其中设有杆的流体路径210。在实施例中，一个或多个密封件(例如O形环密封件)可被设置在杆和/或流体路径210的凹部中，以在杆与流体路径210之间提供不透流体的密封。

杆可通过从壳体226去除保持构件214而从流体路径210被去除，保持构件214可通过进入端口230来接近。保持构件214和进入端口230的尺寸可允许去除杆。因此，杆可被去除，且保持构件214随后能够与壳体226重新接合，以允许通过流体路径210的流动。相似地，杆可通过从壳体去除保持构件214、并将杆插入到流体路径210中而被设置在流体路径中。然后，保持构件214能够与壳体226重新接合，从而基本上防止通过流体路径210的流体流动。

在图4示出的实施例中，示出了流动控制装置的另一实施例。在该实施例中，流动堵塞件412包括杆，该杆具有锥形(例如圆锥形、平头圆锥形、弯曲形等等)的末端部分402。该杆可被设置在流体路径210中，使得内部通孔218中的压力(此压力大于井管206的外部216的压力)可作用到杆的端部406，并且使杆偏移成与流动限制件208接触。锥形的末端部分可接合流动限制件208的开口(例如，喷嘴类型的流动限制件的中心开口)，该开口可具有对应的倒角和/或斜面式的支座404。锥形的末端部分402与支座404相互作用，可对通过流体路径210朝向腔室232的流体的流动形成基本上不透流体的密封。

当井管206的外部216的压力大于内部通孔218中的压力时，杆可朝向保持构件214偏移，并且通过保持构件214而被保持在流体路径210中。在该构造中，杆的外表面与流体路径210的内表面之间的狭窄的环形间隙可对流体流动提供实质的阻力，从而基本上防止通过流体路径210的流体流动。在实施例中，一个或多个密封件(例如O形环密封件)可被设置在杆上的凹部和/或流体路径210上的凹部中，以在杆与流体路径210之间提供不透流体的密封，相对于锥形的末端部分402与流动限制件208之间形成的密封，这种不透流体的密封可充当备用的密封。

杆可通过从壳体226去除保持构件214而从流体路径210被去除，该流体路径可通过进入端口230进入。保持构件214和进入端口230的尺寸可允许用于去除杆。因此，杆可被去除，且随后保持构件214能够与壳体226重新接合，以允许通过流体路径210的流动。相似地，杆可通过从壳体去除保持构件214、并将杆插入到流体路径210中而被设置在流体路径210中。然后，保持构件214能够与壳体226重新接合，从而基本上防止通过流体路径210的流体流动。

在图5示出的实施例中，示出了流动控制装置的另一实施例。在该实施例中，流动堵塞件512包括一球。此球可由任何合适的材料形成，并且可基本上呈球形，不过其他形状也是可行的。球可被设置在流体路径210内形成的腔室506中。球的直径大于与流动限制件208流体连通的开口502的直径，并且大于被设置在壳体226中的端口222的开口504的直径。开口502和/或开口504可具有斜面式的和/或球面式的匹配表面，以充当用于接触球的支座。

当球与开口502和/或开口504之间接合时，球可对分别通过开口502和/或开口504的流体流动形成实质的密封。如在此注意到的，不需要理想的流体密封件，这是因为只要流动阻力基本上大于通过在井管206的外部216与内部通孔218之间的替代的路径的流动阻力，一定量的泄漏就是可接受的。因此，当通过流体路径210施加压差时，球可基本上防止通过流体路径210的流体流动。例如，当内部通孔218中存在的压力大于井管206的外部216的压力时，压力和任何作为结果的流体流动可起到使贴靠开口502的球偏移的作用。球可接合流体路径的开口502，并由此对通过流体路径210的流动形成密封。类似地，当井管206的外部216的压力大于内部通孔218中的压力时，球可贴靠开口504被偏移。球可接合流体路径210的开口504，并由此对通过流体路径210的流动形成密封。在实施例中，开口502的直径可大于球的直径。在该实施例中，球可构造成接合流动限制件208的开口，从而基本上形成密封。

球可通过从壳体226去除保持构件214而从流体路径210被去除，该流体路径可通过进入端口230进入。保持构件214和进入端口230的尺寸可允许去除球。因此，球可从腔室506被去除，并且保持构件214能够随后与壳体226重新接合，以允许通过流体路径210的流动。相似地，球可通过从壳体226去除保持构件214、并将球插入到流体路径210中的腔室506中而被设置在流体路径中。然后，保持构件214能够与壳体226重新接合，从而基本上防止通过流体路径210的流体流动。

在图6示出的实施例中，示出了流动控制装置的另一实施例。在该实施例中，流动堵塞件612包括一插塞，该插塞被设置在位于流动限制件208与壳体226中的端口222之间的流体路径210中。可利用任何合适的附接机构或装置，将插塞可去除地和/或可释放地接合在流体路径210中。在图6示出的实施例中，插塞包括带螺纹外部，该带螺纹外部被构造成接合设置在流体路径210的内部上的对应的螺纹。在实施例中，插塞可包括压配合、扣合和/或通过使用保持元件而被保持，保持元件例如为固定夹(例如开口环)、定位螺钉或相似元件。插塞可基本上防止通过流体路径210的流体流动。插塞可基于插塞与流体路径210的接合提供基本上不透流体的密封。在实施例中，一个或多个密封件(例如O形环密封件)可被设置在插塞和/或流体路径210内的对应的凹部中，以在插塞与流体路径210之间提供不透流体的密封。

插塞可通过从壳体226去除保持构件214而从流体路径210被去除，该流体路径可通过进入端口230进入。保持构件214和进入端口230的尺寸可允许去除插塞。然后，插塞可与流体路径210脱离，并且从流动控制装置被去除。然后，保持构件214能够与壳体226重新接合，以允许通过流体路径210的流动。相似地，插塞可通过从壳体226去除保持构件214、并将插塞插入到流体路径210中而被设置在流体路径210中。然后，插塞可与流体路径210接合。然后，保持构件214能够与壳体226重新接合，从而基本上防止通过流体路径210的流体流动。

在图7示出的实施例中，示出了流动控制装置的另一实施例。在该实施例中，流动堵塞件712包括与关于图6描述的插塞相似的插塞。然而，图7示出的插塞包括薄化部分702，薄化部分702位于插塞的中心处。插塞可被构造成基本上防止通过流体路径210的流体流动，并且承受井管206的外部216与内部通孔218之间的预期的压差。插塞还可被构造成使薄化部分702能够被合适的冲孔机构或穿孔机构刺穿和/或破裂，从而通过插塞形成流体连通。在图7示出的实施例中，插塞包括带螺纹外部，该带螺纹外部被构造成接合被设置在流体路径210的内部的对应的螺纹。在实施例中，插塞可包括压配合、扣合和/或通过使用保持元件而被保持，保持元件例如为固定夹(例如开口环)、定位螺钉或相似元件。插塞在被穿刺之前可基本上防止通过流体路径210的流体流动。在实施例中，一个或多个密封件(例如O形环密封件)可被设置在插塞内的对应的凹部和/或流体路径210内的对应的凹部中，以在插塞与流体路径210之间提供密封。

当插塞被接合在流体路径210中时，可通过从壳体226去除保持构件214(保持构件可通过进入端口230来接近)，来建立通过具有薄化部分702的插塞的流体连通。保持构件214和进入端口230的尺寸可允许进入流体路径210使用冲孔机构或其他穿孔机构。因此，插塞可被刺穿和/或破裂，以提供通过插塞的流体连通路径。然后，保持构件214能够与壳体226重新接合，以允许沿流体路径210通过被刺穿的插塞的流动。

为了基本上防止通过流体路径210的流体流动，破裂的插塞可用新的插塞替换。新的插塞可通过从壳体226去除保持构件214、并从流体路径210去除刺穿的插塞而被设置在流体路径210中。然后，新的插塞可被插入且接合在流体路径210中。然后，保持构件214能够与壳体226重新接合，从而基本上防止通过流体路径210的流体流动。

在图8示出的实施例中，示出了流动控制装置的又一实施例。在该实施例中，流动堵塞件812包括可变形插塞。可变形插塞可包括一种或多种可变形材料，并且可被构造成用以通过压配合或其他合适的方法而被设置在流体路径210中。当该插塞被压配合到流体路径210中时，插塞可变形(例如弹性地和/或塑性地变形)，并且接合流体路径210的内表面，从而基本上防止通过流体路径210的流体流动。用于形成可变形插塞的合适材料可包括任何数量的相对软的金属，如铅、锌、铜、银、锑、金、锡、铋、铟、铝、及其组合物、以及它们的合金。在实施例中，一种或多种合适的聚合物成分可用于形成可变形插塞。多种聚合物成分可适合于在井下井眼环境中使用，包括(但不限于)丁晴橡胶(例如腈基丁二烯橡胶、氢化丁腈橡胶等等)、含氟聚合物(例如全氟橡胶、四氟乙烯、四氟乙烯/丙烯混合物)、聚酰胺、三元乙丙橡胶以及相似物。还可使用额外的能够在流体路径210中变形的合适材料。

为了基本上防止通过流体路径210的流体流动，保持构件214可从壳体226被去除，保持构件214可通过进入端口230来接近。然后，可变形插塞可被至少部分地设置在流体路径210中。然后，可变形插塞可被压配合在流体路径210中，从而使可变形插塞变形，并且迫使可变形插塞处于流体路径210中。然后，可变形插塞可基本上防止通过流体路径210的流体流动。然后，保持构件214可与壳体226重新接合。

当插塞被接合在流体路径210中时，可变形插塞可通过首先从壳体226去除保持构件214而被去除。在实施例中，可变形插塞可通过夹持并去除可变形插塞而被去除。在实施例中，可变形插塞可被钻通和/或铣通，以去除可变形插塞的至少一部分，从而建立通过可变形插塞且沿流体路径210的流体连通。然后，保持构件214可与壳体226重新接合，以允许通过可变形插塞的任何剩余部分的流动。

在多个流体路径与流动控制装置一起使用的实施例中，流动限制件、流动堵塞件、以及在流体路径中安装和/或去除流动堵塞件的多种方法的任何一者可与多个流体路径中的任何一个一起使用。每个流体路径可包括相同类型的流动堵塞件或不同类型的流动堵塞件。而且，多种类型的流动堵塞件中的每种类型的流动堵塞件可与在此描述的任何一种流动限制件一起使用。流动限制件与流动堵塞件之间的所有组合被认为是在此描述的流动控制装置的一部分。从以上描述还可注意到，在每个实例中，流动堵塞件可被设置在流体路径中和/或从流体路径中被去除，而无需去除流动限制件，流动限制件可被固定地设置在流体路径中。

在实施例中，多个流动控制装置可与一个或多个井管部分一起使用，这可覆盖井眼中的一个或多个区段。井眼管柱通常是指连接到一起以在井眼中运送的多个井管部分。例如，井眼管柱可包括在井眼中被运送用于从井眼产出一种或多种流体的产出管柱。流动控制装置的数量和类型，以及多个流动控制装置沿井管的间隔，可基于井眼中的预期条件和多个区段的位置，沿着井管的长度变化。在实施例中，多个流动控制装置可形成井眼管柱的一部分，上述多个流动控制装置包括一个或多个流动限制件和/或流体堵塞件，上述流动限制件和/或流体堵塞件被设置在一个或多个对应的流体路径中。然后，井眼管柱可被放置在井眼中，该井眼被设置在地层中并且用于从地层产出一种或多种流体。在实施例中，流动控制装置可构成一个或多个井筛组件的一部分，并且可用于平衡来自地层中的一个或多个区段的产出。

能够进入流体路径以设置和/或去除流体路径中的流动堵塞件，就能够允许流动控制装置被重新配置，以提供期望的流动阻力，并因此对于井眼区段中的预期条件提供期望的通过流动控制装置的流速。流动控制装置可开始于流动堵塞件，这些流动堵塞件被设置在所有的流体路径中，而不是所有的流体路径中均不设置流动堵塞件，或者流动堵塞件被设置在流体路径的某部分中。因此，通过在单独的路径中安装和/或去除流动堵塞件，流动堵塞件可被选择性地调整，以按需要提供通过流动控制装置的期望的流动阻力。在实施例中，流动堵塞件可基于多种原因，包括(但不限于)期望的流体阻力和/或流速的确定，而被调整。

在实施例中，流动控制装置可被设置为包括多个流体路径，这些流体路径位于井管的外部与井管的内部之间。每个流体路径可包括一流动堵塞件和一流动限制件，该流动堵塞件和该流动限制件被构造成基本上防止通过流体路径的流体流动。对应的多个保持构件可被构造成将流动堵塞件保持在每个流体路径中。在这种构造中，可基本上防止通过所有流体路径的流动。为了选择性地调整流动控制装置以提供期望的流动阻力，可利用以上描述的任何方法，使一个或多个流动堵塞件从多个流体路径中的一个或多个被选择性地去除。例如，流动堵塞件可从多个流体路径被去除，这些流体路径设有多个流动限制件适当的组合，上述流动限制件中的每一个可以是相同的、不同的，或是相同流动限制件与不同流动限制件的任何组合，以提供通过流动控制装置的期望的总流动阻力。然后，可允许流体流经流动堵塞件已被去除的一个或多个流体路径。例如，流动控制装置可用于通过流动堵塞件已被去除的一个或多个流体路径，从地层产出流体和/或将流体注入到地层中。

使流动控制装置与包括流动堵塞件的所有流体路径一起可以有效地为井眼管柱提供一定程度的可调整性，该井眼管柱包括额外的流动控制装置，上述额外的流动控制装置被构造成用于预期的井眼条件。在该实施例中，一个或多个流动控制装置可充当沿管柱的备份，用于调节井眼的区域中的总体流动阻力。例如，若期望通过一区域的流速增大和/或总体流动阻力减小，一个或多个流动堵塞件可从流体路径被去除。接近单独的流动堵塞件的能力可允许在将流动控制装置设置在井眼中之前的任何时间，对流速和/或流动阻力进行细调。

在实施例中，流动控制装置可被设置为包括位于井管的外部与井管的内部之间的多个流体路径。每个流体路径可包括流动限制件，而没有任何流动堵塞件。多个保持构件可被构造成允许进入每个流体路径，并且能够从流动控制装置的外部接近，而无需去除诸如盖或套管等额外的部分。在此构造中，可允许通过所有流体路径的流动，从而提供总体的流动阻力，该总体的流动阻力是由通过每个流体限制件的单独的流动阻力的组合产生的。为了选择性地调整流动控制装置，以提供小于总体流动阻力的期望流动阻力，一个或多个流动堵塞件可利用以上描述的任何方法，被选择性地设置和/或安装在多个流体路径的一个或多个中。例如，流动堵塞件可被设置在一个或多个流体路径中，以使一个或多个敞开的流体路径具有多个流动限制件的合适的组合，这些流动限制件的每一个可以是相同的、不同的、以及相同流动限制件与不同流动限制件的任何组合，以提供通过流动控制装置的期望的总流动阻力。然后，可允许流体流经一个或多个流体路径而无需安装流动堵塞件。例如，流动控制装置可用于通过未安装流动堵塞件的一个或多个流体路径，从地层产出流体和/或将流体注入到地层中。

使没有任何流体路径的流动控制装置包括流动堵塞件，可有效地用于提供能够按需要被调整的初始组件。例如，能够提供并且选择性地调整多个流动控制装置，以基于井眼中的预期操作条件来提供期望的流速和/或流动阻力。在该实施例中，一个或多个流动堵塞件可被安装，以在井眼中处于被制造与被设置之间的任何点提供期望的流动阻力。

在实施例中，流动控制装置可被设置为包括位于井管的外部与井管的内部之间的多个流体路径。流体路径中的一个或多个(但并非所有的流体路径)可包括流动限制件和流动堵塞件，该流动限制件和流动堵塞件被构造成基本上防止通过对应的流体路径的流体流动。多个保持构件可被构造成允许进入每个流体路径，以将流动堵塞件保持在包括流动堵塞件的每个流体路径中。在该构造中，可基本上防止通过包括流动堵塞件的多个流体路径中的每一个流体路径的流动。为了选择性地调整流动控制装置以提供期望的流动阻力，利用以上描述的任何方法，一个或多个流动堵塞件可被选择性地安装和/或从多个流体路径中的一个或多个流体路径被选择性地去除。例如，流动堵塞件可被安装和/或从流体路径中的一个或多个流体路径被去除，以提供流动限制件的合适组合，上述多个流动限制件中的每一个流动限制件可以是相同的、不同的、或者相同流动限制件与不同流动限制件的组合，以提供通过流动控制装置的期望的总流动阻力。然后，可允许流体流经流动堵塞件已被清除(去除)的一个或多个流体路径。例如，流动控制装置可用于通过任何流动堵塞件已被清除的一个或多个流体路径，从地层产出流体和/或将流体注入到地层中。

流动控制装置可在被设置在井眼中之前的任何点被选择性地调整。例如，流动控制装置可在设有流动堵塞件、或没有任何流动堵塞件被设置在流体路径中的情况下被制造。然后，流动控制装置可经过多个运输和配送中心来运送；在这些运输和配送中心，流体路径可被选择性地调整。当被运送到合适位置以便在井眼中使用时，流动控制装置能够在被设置在井眼中之前，在地面被选择性地调整。更进一步，流动控制装置可在被设置在井眼中之后，再从井眼被收回。然后，流动控制装置能够在被收回之后而被重新设置在井眼中之前，被选择性地调整。

在实施例中，流动控制装置可基于通过流动控制装置的期望的流体阻力和/或流速的确定，利用以上描述的任何方法被选择性地调整。一般而言，通过流动控制装置的流体阻力和/或流速可被选择为用以平衡沿着一区段的流体的产出。用于一区段的流体阻力和/或流速的确定可基于来自该区段的期望的产出以及该区段中的预期条件来确定，上述预期条件包括(但不限于)区段中的地层的浸透性、区段的总长度、从区段产出的流体的类型、和/或区段中产出的流体的流体性质。一旦用于区段的期望的流体阻力和/或流速被确定，可通过将一个或多个流动堵塞件安装到流动控制装置中的一个或多个对应的流体路径和/或从流动控制装置中的一个或多个对应的流体路径去除一个或多个流动堵塞件，而使流动控制装置被选择性地调整，以提供具有期望的流体阻力和/或流速的总流体路径。在实施例中，流动控制装置可被选择性地调整而无需去除流动限制件。在实施例中，流动控制装置可借助通过保持构件(其能够从流动控制装置的外部直接接近)进入流体路径，而被选择性地调整，而无需去除套管、盖和/或其他进入机构。

在此已经描述了多种系统和方法，多个实施例可包括(但不限于)：

在第一实施例中，一种流动控制装置包括：流体路径，被构造成在井管的外部与井管的内部之间提供流体连通；流动限制件，被设置在流体路径中；流动堵塞件，被设置在流体路径中；以及保持构件，被构造成将流动堵塞件保持在流体路径中，并允许接近流体路径中的流动堵塞件。流动堵塞件基本上防止通过流体路径的流体流动。在第二实施例中，第一实施例的流动控制装置还可包括过滤部，该过滤部被设置在位于井管的外部与井管的内部之间的流体路径中。在第三实施例中，第一或第二实施例的流动限制件可包括喷嘴、狭窄流管、环形通道、弯管流动限制器、或螺旋管。在第四实施例中，第一到第三实施例的任一实施例的流动限制件可被永久地安装在流体路径中。在第五实施例中，第一到第四实施例的任一实施例的流动堵塞件可包括杆，该杆被构造成可去除地设置在流体路径中。在第六实施例中，第五实施例的杆可包括锥形的末端部分，并且锥形的末端部分可被构造成密封地接合流动限制件。在第七实施例中，第一实施例的流动堵塞件可包括球，并且球可被构造成接合一个或多个流体路径中的开口，以基本上防止通过流体路径的流体流动。在第八实施例中，第一实施例的流动堵塞件可包括插塞，该插塞被构造成可去除地设置在流体路径中。在第九实施例中，第八实施例的插塞可包括薄化部分，并且薄化部分可被构造成能够被刺穿以建立通过插塞的流体连通。在第十实施例中，第八实施例的插塞可包括可变形插塞，可变形插塞被构造成用以被设置在流体路径中。在第十一实施例中，第一到第十实施例的任一实施例的流动控制装置还可包括多个流动限制件，上述流动限制件设置在井管的外部与井管的内部之间的对应的多个流体路径中，并且流动堵塞件可被设置在多个流体路径的第一流体路径中。在第十二实施例中，总体流动阻力可由流动路径提供，该流动路径包括第十一实施例的多个流体路径中的清除了流动堵塞件的每个流体路径。在第十三实施例中，第十一或第十二实施例的流动控制装置还可包括对应于多个流体路径的多个保持构件，并且多个保持构件中的每个保持构件可被构造成提供到每个对应的流体路径的直接的入口。在第十四实施例中，第十一到第十三实施例的任一实施例的多个流动限制件中的第一个流动限制件对流体流动的阻力可不同于多个流动限制件中的第二个流动限制件对流体流动的阻力。

在第十五实施例中，一种方法包括：设置流动控制装置，将一个或多个流动堵塞件选择性地安装到多个流体路径或者从多个流体路径去除，并且通过清除了流动堵塞件的一个或多个流体路径来产出流体。流动控制装置包括位于井管的外部与井管的内部之间的多个流体路径，以及被设置在多个流体路径的对应的流体路径中的多个流动限制件。在第十六实施例中，在一个或多个流动堵塞件的选择性的安装或去除期间，第十五实施例的多个流动限制件可保持在流体路径中。在第十七实施例中，选择性地安装或去除第十五或第十六实施例的一个或多个流动堵塞件可包括通过进入端口进入一个或多个流体路径，并且进入端口可提供从井管的外部到流体路径的直接的入口。在第十八实施例中，第十五到第十八实施例的任一实施例的流动堵塞件可包括：至少一个杆，被可去除地设置在一个或多个流体路径中；锥形杆，被可去除地设置在一个或多个流体路径中；球，被构造成在一个或多个流体路径中接合一个或多个开口；插塞，被构造成可去除地设置在一个或多个流体路径中，插塞包括薄化部分，该薄化部分被构造成用以被刺穿而建立通过插塞的流体连通，或者可变形插塞，被构造成用以被设置在一个或多个流体路径中。

在第十九实施例中，一种调节流动的流体阻力的方法包括由井眼中的区段确定期望的流体的流阻，并且选择性地阻挡或接通通过单独的流动限制器的一个或多个流体路径，以向全部流体路径提供期望的流体流阻。在第二十实施例中，第十九实施例的方法还可包括通过每个接通的单独的流动限制器从地层产出流体。

至少一个实施例所披露，并且由本领域技术人员做出的一个或多个实施例的变体、组合和/或改型和/或一个或多个实施例的特征处于本发明的范围内。通过结合、整合和/或省略一个或多个实施例的特征产生的替代性实施例也处于本发明的范围内。当数值范围或限制被清楚地表达时，这样的表达范围和限制应被理解为包括落入清楚地表达的范围或限制中的相似的量级的迭代的范围或限制(例如，从约1到约10包括2、3、4，等等；大于0.10包括0.11、0.12、0.13，等等)。例如，只要公开了具有下限R_L和上限R_U的数值范围，则落入该范围内的任何数量均被具体地公开。特别是，在该范围内的以下数量被具体地公开：R＝R₁+k×(R_u-R_l)，其中k是以1％的增量从1％增大至100％的变量，即k是1％、2％、3％、4％、5％……50％、51％、52％……95％、96％、97％、98％、99％或100％。此外，由如上所述的两个R限定的任一数值范围也被具体地公开。针对权利要求中的任何元件使用术语“可选择地”的意思是指该元件是必要的，或者可能地指该元件是不必要的，两者都处于权利要求书的范围内。若使用较广泛的术语如“包含”、“包括”、“具有”等等，则应理解为旨在对较狭窄的术语如“由……构成”、“必要地由……构成”、“基本上包括”等等，提供支持。因此，保护的范围不受以上陈述的描述所限制，但是受所附权利要求书的范围的限制，该范围包括权利要求书的主旨的所有等价物。每个权利要求作为进一步的公开被结合到说明书中，并且权利要求书是本发明的实施例。

Claims (20)

1.一种流动控制装置，包括：

流体路径，被构造成在井管的外部与所述井管的内部之间提供流体连通；

流动限制件，被设置在所述流体路径中；

流动堵塞件，被设置在所述流体路径中，其中，所述流动堵塞件基本上防止通过所述流体路径的流体流动；以及

保持构件，被构造成将所述流动堵塞件保持在所述流体路径中，并且允许接近所述流体路径中的流动堵塞件。

2.根据权利要求1所述的流动控制装置，还包括：过滤部，被设置在位于所述井管的外部与所述井管的内部之间的流体路径中。

3.根据权利要求1或2所述的流动控制装置，其中，所述流动限制件包括喷嘴、狭窄的流管、环形通道、弯管流动限制器、或螺旋管。

4.根据权利要求1到3中任一项所述的流动控制装置，其中，所述流动限制件被永久地安装在所述流体路径中。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的流动控制装置，其中，所述流动堵塞件包括杆，所述杆被构造成能够被去除地设置在所述流体路径中。

6.根据权利要求5所述的流动控制装置，其中，所述杆包括锥形的末端部分，并且其中，所述锥形的末端部分被构造成密封地接合所述流动限制件。

7.根据权利要求1所述的流动控制装置，其中，所述流动堵塞件包括球，其中，所述球被构造成接合所述流体路径中的一个或多个开口，以基本上防止通过所述流体路径的流体流动。

8.根据权利要求1所述的流动控制装置，其中，所述流动堵塞件包括插塞，所述插塞被构造成能够被去除地设置在所述流体路径中。

9.根据权利要求8所述的流动控制装置，其中，所述插塞包括薄化部分，其中，所述薄化部分构造成用以被刺穿以通过所述插塞形成流体连通。

10.根据权利要求8所述的流动控制装置，其中，所述插塞包括能变形的插塞，所述能变形的插塞被构造成用以被设置在所述流体路径中。

11.根据权利要求1到10中任一项所述的流动控制装置，还包括：

多个流动限制件，被设置在位于所述井管的外部与所述井管的内部之间的对应的多个流体路径中，其中，所述流动堵塞件被设置在所述多个流体路径的第一流体路径中。

12.根据权利要求11所述的流动控制装置，其中，总体流动阻力由流动路径提供，所述流动路径包括所述多个流体路径中清除了流动堵塞件的每个流体路径。

13.根据权利要求11或12所述的流动控制装置，还包括：

对应于所述多个流体路径的多个保持构件，其中，所述多个保持构件中的每个保持构件被构造成提供到每个对应的流体路径的直接的入口。

14.根据权利要求11到13中任一项所述的流动控制装置，其中，所述多个流动限制件的第一个流动限制件与所述多个流动限制件中的第二个流动限制件相比，具有不同的流体流动阻力。

15.一种方法，包括：

设置一种流动控制装置，所述流动控制装置包括：多个流体路径，位于井管的外部与所述井管的内部之间；以及多个流动限制件，被设置在所述多个流体路径的对应的流体路径中；

将一个或多个流动堵塞件选择性地安装到所述多个流体路径，或者从所述多个流体路径去除所述一个或多个流动堵塞件；以及

通过清除了所述流动堵塞件的一个或多个流体路径产出流体。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，在所述一个或多个流动堵塞件的选择性的安装或去除期间，所述多个流动限制件保持在所述流体路径中。

17.根据权利要求15或16所述的方法，其中，选择性地安装或去除所述一个或多个流动堵塞件包括通过进入端口来进入所述流体路径中的一个或多个流体路径，其中，所述进入端口提供从所述井管的外部到所述流体路径的直接的入口。

18.根据权利要求15到17中任一项所述的方法，其中，所述流动堵塞件包括：至少一个杆，能够被去除地设置在所述多个流体路径的一个或多个流体路径中；锥形杆，能够被去除地设置在所述多个流体路径的一个或多个流体路径中；球，被构造成接合所述多个流体路径的一个或多个流体路径中的一个或多个开口；插塞，被构造成能够被去除地设置在所述多个流体路径的一个或多个流体路径中，插塞包括薄化部分或可变形插塞，所述薄化部分被构造成用以被刺穿以通过所述插塞建立流体连通，所述可变形插塞被构造成用以被设置在所述多个流体路径的一个或多个流体路径中。

19.一种调节流体流动阻力的方法，包括：

确定来自井眼中的区段的期望的流体流阻；以及

通过多个单独的流动限制器选择性地阻挡或接通一个或多个流体路径，以向总体流体路径提供所述期望的流体流阻。

20.根据权利要求19所述的方法，还包括：

通过每个被接通的单独的流动限制器，从地层产出流体。