CN104142611B - 一种掩模板 - Google Patents

一种掩模板 Download PDF

Info

Publication number
CN104142611B
CN104142611B CN201410340364.4A CN201410340364A CN104142611B CN 104142611 B CN104142611 B CN 104142611B CN 201410340364 A CN201410340364 A CN 201410340364A CN 104142611 B CN104142611 B CN 104142611B
Authority
CN
China
Prior art keywords
shading strip
groove
light
transparency carrier
mask plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201410340364.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104142611A (zh
Inventor
张思凯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Display Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201410340364.4A priority Critical patent/CN104142611B/zh
Publication of CN104142611A publication Critical patent/CN104142611A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104142611B publication Critical patent/CN104142611B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明涉及到显示装置制造的技术领域，公开了一种掩模板。该掩模板包括：透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设置有与所述遮光条设置位置一一对应且将照射到遮光条上的光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构。在上述技术方案中，通过采用透镜结构将原来照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙上，使得更多的光线能够照射到被曝光的基板上，参与曝光，从而提高了光线的利用率。

Description

一种掩模板
技术领域
本发明涉及到显示装置制造的技术领域，尤其涉及到一种掩模板。
背景技术
如图1所示，目前掩模板主要是由石英玻璃1和一层有着特定图形设计的铬层2组成，假定铬层2的图形宽度为L2，铬层2之间的间隙宽度为L1。曝光时，曝光灯光线先从掩模板无铬的那一侧进入，到达有铬的那一侧时，对应L2宽度的光线被铬层2图形挡住从而不能透过，其余光线从L1宽度的间隙中透过，到达涂有光刻胶的玻璃基板3后形成图案。
由于L1狭缝对曝光光线的衍射作用，最终在玻璃基板3形成的图案宽度要比L1大2L3。
以上可以看出，正常的掩模板的设计对于曝光灯能量的利用率为在L1减小，L2增大的情况下，光利用率会大幅下降。
发明内容
本发明提供了一种掩模板，用以提高光线的利用率。
本发明提供了一种掩模板，该掩模板包括：透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设置有与所述遮光条设置位置一一对应且将照射到遮光条上的光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构。
在上述技术方案中，通过采用透镜结构将原来照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙上，使得更多的光线能够照射到被曝光的基板上，参与曝光，从而提高了光线的利用率。
优选的，所述透明基板上背离所述遮光条的一表面上设置有与所述遮光条设置位置一一对应的凹槽，所述凹槽与所述透明基板形成所述透镜结构。通过凹槽与透明基板形成的透镜结构使光线发生折射。
优选的，所述凹槽为弧形凹槽，且所述弧形凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同。通过不同结构的凹槽形成入射面。
优选的，所述弧形凹槽的宽度不大于所述遮光条的宽度。从而使得形成的透镜结构不影响原来照射到遮光条之间间隙的光线。
优选的，所述弧形凹槽的宽度等于所述遮光条的宽度。使得更多的照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙。
优选的，所述弧形凹槽为圆弧形凹槽。采用圆弧面作为入射面。
优选的，所述圆弧形凹槽的圆弧角满足以下关系：
其中，θ为圆弧角，θ1圆弧端部的入射光线的折射角，L3为遮光条与被曝光的基板上需要保留的金属条的重叠宽度，d为透明基板与被曝光的基板之间的间距。使得被曝光的基板上形成的图案与使用现有技术的遮光板形成的图案相同。
优选的，所述凹槽为横截面为V型凹槽，且所述凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同。采用V型凹槽的侧壁作为入射面。
优选的，所述遮光条为铬条。具有良好的遮光效果。
附图说明
图1为现有技术中的掩模板的使用状态参考图；
图2为本发明实施例提供的掩模板的使用状态参考图；
图3为本发明实施例提供的另一掩模板的使用状态参考图。
附图标记：
1-石英玻璃 2-铬层 3-玻璃基板
10-透明基板 11-遮光条 12-凹槽
121-弧形凹槽 122-V型凹槽 20-被曝光的基板
具体实施方式
为了提高曝光光线的利用率，本发明提供了一种掩模板，在本发明实施例的技术方案中，通过采用在透明基板上增设透镜结构将原来照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙上，从而使其能够照射到被曝光的基板，提高了光线的利用率。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下以非限制性的实施例为例对本发明作进一步详细说明。
如图2所示，图2示出了本发明实施例提供的掩模板的结构。
本发明实施例提供了一种掩模板，该掩模板包括：透明基板10，多个间隔设置在透明基板10一个表面上的遮光条11，且透明基板10上背离遮光条11的一表面设置有与遮光条11设置位置一一对应且将照射到遮光条11上的光线折射到相邻的遮光条11之间间隙的透镜结构。
在上述实施例中，通过采用透镜结构将原来照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间的间隙上，使得更多的光线能够照射到被曝光的基板20上，提高了光线的利用率。具体的，在光线照射到透镜结构上时，光线在入射面上发生折射，改变光线的传播路径，由于透明基板10的折射率大于空气的折射率，因此，当光线照射到入射面上时，入射角大于折射角，光线发生折射，使得原来照射到遮光条11上的光线能够更多的折射到遮光条11之间的间隙上，参与曝光，从而提高了光线的利用率。另外，当参与曝光的光线能量增加时，为保证和目前掩模板曝光时相同的曝光量，本实施例提供的掩模板就可以通过以下手段来实现：(1)保证相同曝光时间的情况下，降低曝光灯的照度。这样做的优点是可以延长曝光灯的使用寿命。(2)保证曝光灯照度的情况下，减少曝光时间。这样做的优点是能够减少曝光时间，使得产线能够在相同时间内生产更多的产品，提高产能。
其中的遮光条11为铬条。具有良好的遮光效果。
具体的，设置在透明基板10上的透镜结构可以选用不同的结构来实现对光线的折射效果。较佳的，透明基板10上背离所述遮光条11的一表面设置有与所述遮光条11设置位置一一对应的凹槽12，所述凹槽12与所述透明基板10形成所述透镜结构。其中的凹槽12可以为不同形状的凹槽，下面结合具体实施例对其结构进行详细说明。
实施例1
继续参考图2，凹槽12为弧形凹槽121，且弧形凹槽121的长度方向与遮光条11的长度方向相同。
具体的，平行的光线在照射到弧形凹槽121的侧壁上时，由于光线在弧形面上的入射角小于九十度，因此，光线在弧形面上发生折射，使得原来照射到遮光条11上的光线能够折射到遮光条11之间的间隙内，从而参与曝光，提高光线的利用率。
此外，为了避免形成的弧形凹槽121影响原来照射到遮光条11之间间隙的光线，较佳的，弧形凹槽121的宽度不大于遮光条11的宽度，从而使得照射到遮光条11之间间隙内的光线增多，进而提高光线的利用率，更佳的，弧形凹槽121的宽度等于遮光条11的宽度。使得更多的照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间的间隙内，提高光线的利用率。
其中弧形凹槽121可以为圆弧形凹槽、椭圆弧形凹槽或其他任意能够将照射到遮光条11上的光线折射到相邻的遮光条11之间间隙的弧形凹槽。
较佳的，弧形凹槽121为圆弧形凹槽，并且圆弧形凹槽的圆弧角满足以下关系：
其中，θ为圆弧角，θ1圆弧端部的入射光线的折射角，L3为遮光条11与被曝光的基板20上需要保留的金属条的重叠宽度，d为透明基板10与被曝光的基板20之间的间距。
具体的，如图2所示，当光线从空气进入凹面弧形区域时，由于空气的折射率为1，透明基板10(较佳的采用石英玻璃制作的透明基板)折射率为n>1，光线会在凹面处发生折射现象，其中以A1和B1处入射的光线折射偏转角度最大。以A1处入射光线为例，假设出射角为θ1，那么θ与θ1满足以下关系：
把A1和B1处的出射光线反向延长，两条线的交点即为该凹面弧形区域的焦点F。焦点F与遮光条11两端进行连接形成的两条线与线A1B1线相交于A2和B2点。设定A1A2以及B1B2区域的宽度均为w，当入射光线落在这两个区域的时候，可以保证光线经过折射后最终不被遮光条11遮挡住。设定掩模板使用的透明基板10的厚度为D，那么w的大小如下式所示：
此时，曝光光线能量的利用率为：
从上式可以看出，本实施例提供的掩模板的光能利用率可以通过θ，D以及L2的大小来进行调整，但不管如何调整，利用率相比于现有技术中的掩模板设计提高了
此外，由于折射作用，凹面出射的光线变为斜线，为保证最终玻璃基板上图案的L3与现有技术中正常的掩模板形成的图案一样，需要对凹面的弧度角θ进行限定。假设曝光时掩模板的遮光条11距离被曝光的基板20上表面的距离为d。θ角需要满足的条件如下式所示：从而保证了曝光形成的图案与现有技术中的掩模板形成的图案相同。
实施例2
如图3所示，图3示出了另外一种的凹槽结构。该凹槽12为V型凹槽122，且V型凹槽122的长度方向与遮光条11的长度方向相同。
具体的，平行的光线在照射到V型凹槽122的V型侧壁上时，由于光线在侧壁上的入射角小于九十度，因此，光线在弧形面上发生折射，使得原来照射到遮光条11上的光线能够折射到遮光条11之间的间隙内，从而参与曝光，提高光线的利用率。
通过上述描述可以看出，本实施例提供的透镜结构可以采用不同的形状的凹槽形成透镜结构，只需满足能够将照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间的间隙即可，应当理解的是，本实施例提供的透镜结构不仅限于上述具体实施例1和实施2列举的形状，其他任意可实现改变光线传播路径，将照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间间隙的光线均可，如凹槽的横截面为具有四条线段的折线、具有五条线段的折线等任意形状的凹槽。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (4)

1.一种掩模板，其特征在于，包括：透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设置有与所述遮光条设置位置一一对应且将照射到遮光条上的光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构；
所述透明基板上背离所述遮光条的一表面上设置有与所述遮光条设置位置一一对应的凹槽，所述凹槽与所述透明基板形成所述透镜结构；
所述凹槽为弧形凹槽，且所述弧形凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同；或所述凹槽为V型凹槽，且所述V型凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同；
当所述凹槽为弧形凹槽，且所述弧形凹槽为圆弧形凹槽时，所述圆弧形凹槽的圆弧角满足以下关系：
其中，θ为圆弧角，θ1圆弧端部的入射光线的折射角，L3为遮光条与被曝光的基板上需要保留的金属条的重叠宽度，d为透明基板与被曝光的基板之间的间距。
2.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的宽度不大于所述遮光条的宽度。
3.如权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的宽度等于所述遮光条的宽度。
4.如权利要求1～3任一项所述的掩模板，其特征在于，所述遮光条为铬条。
CN201410340364.4A 2014-07-16 2014-07-16 一种掩模板 Expired - Fee Related CN104142611B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410340364.4A CN104142611B (zh) 2014-07-16 2014-07-16 一种掩模板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410340364.4A CN104142611B (zh) 2014-07-16 2014-07-16 一种掩模板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104142611A CN104142611A (zh) 2014-11-12
CN104142611B true CN104142611B (zh) 2018-03-30

Family

ID=51851829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410340364.4A Expired - Fee Related CN104142611B (zh) 2014-07-16 2014-07-16 一种掩模板

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104142611B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110967922B (zh) * 2018-09-30 2021-06-08 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种掩模版及离焦量的方法
CN111092109B (zh) * 2020-01-02 2022-04-08 武汉天马微电子有限公司 显示面板及显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0566551A (ja) * 1991-09-09 1993-03-19 Fujitsu Ltd 露光マスク及びその作成方法
JPH07287388A (ja) * 1994-04-18 1995-10-31 Ricoh Opt Ind Co Ltd 露光用マスク
CN102597880A (zh) * 2009-10-29 2012-07-18 株式会社V技术 曝光装置和光掩模
CN202522841U (zh) * 2012-04-20 2012-11-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN202735675U (zh) * 2012-09-07 2013-02-13 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0566551A (ja) * 1991-09-09 1993-03-19 Fujitsu Ltd 露光マスク及びその作成方法
JPH07287388A (ja) * 1994-04-18 1995-10-31 Ricoh Opt Ind Co Ltd 露光用マスク
CN102597880A (zh) * 2009-10-29 2012-07-18 株式会社V技术 曝光装置和光掩模
CN202522841U (zh) * 2012-04-20 2012-11-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN202735675U (zh) * 2012-09-07 2013-02-13 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板

Also Published As

Publication number Publication date
CN104142611A (zh) 2014-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20190361165A1 (en) Light guide plate with multi-directional structures
US10838226B2 (en) Optical device and display unit
CN101268387B (zh) 背光灯用光学片、背光灯及显示装置
KR100771828B1 (ko) 도광판 및 이를 갖는 액정 디스플레이 장치
JP2011090117A (ja) 光学結像装置及びそれを用いた光学結像方法
JP2009081094A (ja) 面光源用導光板
CN203882085U (zh) 反射型屏幕
CN110161602A (zh) 漫射板、漫射板的设计方法、显示装置、投影装置和照明装置
RU2645300C2 (ru) Оптический элемент с формированием света
CN104142611B (zh) 一种掩模板
TW201510614A (zh) 背光模組及液晶顯示器
KR20070105916A (ko) 광 시스템
US8031405B2 (en) Optical adjusting apparatus with composite pattern structure
TWI406057B (zh) 背光模組
TWI467084B (zh) 窗組及其導光膜
JP2008242269A (ja) 光学シート及びそれを用いたバックライトユニット
CN204629365U (zh) 具有均匀发光面的圆形导光板及其手表
CN205121004U (zh) 背光模组及其导光板
JP6763528B2 (ja) 光学レンズ、バックライトモジュール及び表示装置
US20220291579A1 (en) Projection screen
CN105425471B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
US20170315285A1 (en) Light adjustment film and backlight module using the same
TWM532584U (zh) 光調整膜片以及使用其之背光模組
TW201917426A (zh) 導光板、背光模組及顯示裝置
TW201017282A (en) Method and structure of light-emitting uniformity for backlight module

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20180330

Termination date: 20210716

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee