CN104096605A - 可以同时检测铁和铜离子的微流控芯片技术 - Google Patents
可以同时检测铁和铜离子的微流控芯片技术 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及的用于检测铁和铜离子的微流控芯片,是用计算机辅助设计软件(CAD)设计和绘制微流控芯片的微通道图形;然后通过微加工技术在微流控芯片的基材表面制备CAD设计的微通道图形;将微流控芯片基材切割后得到上下两片微流控芯片(3×5cm),用乙醇、去离子水和乙醇依次清洗,自然晾干。将上下芯片粘合,并放置在马弗炉里300℃烧制1小时,将芯片封合。将正负铂电极放置在电极微槽中,和外置高压电源相连,组成液体驱动的电渗泵系统。制备1mmol/L的鲁米诺-过氧化氢溶液(0.1mol/L鲁米诺/氢氧化钠和 1mol/L过氧化氢)。将鲁米诺-过氧化氢溶液用注射器加入微流控芯片检测通道中,将待测铁和铜离子溶液(0.005mol/L)用注射器导入到微分离通道中,同时将芯片与发光检测器相连,从而制备成用于铁和铜离子检测用的微流控芯片。
Description
技术领域
本发明涉及分析检测领域,具体涉及一种用于铁和铜离子检测的微流控芯片及其制作方法。
背景技术
随着城市的扩大和大规模工业的发展,重金属污染广泛存在于大气、水和土壤中,其中水环境中的重金属污染尤为严重.导致水环境污染的重金属元素种类众多,重金属具有富集性,很难在环境中降解,直接影响着人类的生存环境,危及人民生活与健康,这就迫切的需要对水环境中的重金属进行现场实时在线检测。传统的重金属检测方法是基于分离采样的实验室分析技术,最常用的有原子吸收光谱法、电感耦合等离子体质谱法以及荧光光谱法等.这些方法没有对化学反应的本质特性进行分析,如物质的扩散运动、迁移过程等,也没有考虑待测样本长期保存所带来的测量误差.此外,传统的分析方法所采用的仪器设备复杂、价格昂贵、分析时间长、对操作环境及操作流程的要求较为严苛,不利于现场快速实时检测。
近年来,微流控芯片作为一种新型的分析平台,具有微型化、集成化、快速检测和药品用量少等优点,已经在很多领域获得了广泛的应用,然而在重金属的微流控芯片检测方面研究较少,尚未形成突破性进展。
发明内容
本发明的目的是提供一种可以检测铁和铜离子的微流控芯片。克服现有技术存在的测量过程复杂,测量时间长,费用高,无法现场实时检测的缺点。
本发明所述的用于检测铁和铜离子的微流控芯片,是用计算机辅助设计软件(CAD)设计和绘制微流控芯片的微通道图形;然后通过微加工技术在微流控芯片的基材表面制备CAD设计的微通道图形;将微流控芯片基材切割后得到上下两片微流控芯片(3×5cm),用乙醇、去离子水和乙醇依次清洗,自然晾干。将上下芯片粘合,并放置在马弗炉里300℃烧制1小时,将芯片封合。将正负铂电极放置在电极微槽中,和外置高压电源相连,组成液体驱动的电渗泵系统。制备1mmol/L的鲁米诺-过氧化氢溶液(0.1mol/L鲁米诺/氢氧化钠和 1mol/L过氧化氢)。将鲁米诺-过氧化氢溶液用注射器加入微流控芯片检测通道中,将待测铁和铜离子溶液(0.005mol/L)用注射器导入到微分离通道中,同时将芯片与发光检测器相连,从而制备成用于铁和铜离子检测用的微流控芯片。
本发明具有以下显著特点:
(1) 发明所述检测铁和铜离子的微流控芯片,反应速度快,测试简单,易于操作,方便快捷;
(2) 发明所述检测铁和铜离子的微流控芯片体积小,携带方便,测试成本低,且可实现现场测试;
(3) 发明所述微流控芯片性能稳定,寿命长,可以长期保存使用。
Claims (2)
1. 本发明涉及一种检测铁和铜离子的微流控芯片及其制作方法,其特征在于:用计算机辅助设计软件(CAD)设计和绘制微流控芯片的微通道图形;然后通过微加工技术在微流控芯片的基材表面制备CAD设计的微通道图形;将微流控芯片基材切割后得到上下两片微流控芯片(3×5cm),用乙醇、去离子水和乙醇依次清洗,自然晾干;将上下芯片粘合,并放置在马弗炉里300℃烧制1小时,将芯片封合;将正负铂电极放置在电极微槽中,和外置高压电源相连,组成液体驱动的电渗泵系统;制备1mmol/L的鲁米诺-过氧化氢溶液(0.1mol/L鲁米诺/氢氧化钠和1mol/L过氧化氢);将鲁米诺-过氧化氢溶液用注射器加入微流控芯片检测通道中,将待测铁和铜离子溶液(0.005mol/L)用注射器导入到微分离通道中,同时将芯片与发光检测器相连,从而制备成用于铁和铜离子检测用的微流控芯片。
2. 根据权力1要求所述的检测铁和铜离子的微流控芯片基材可以是石英、玻璃、高分子聚合物。
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CN201410249267.4A CN104096605A (zh) | 2014-06-08 | 2014-06-08 | 可以同时检测铁和铜离子的微流控芯片技术 |
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CN104096605A true CN104096605A (zh) | 2014-10-15 |
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Cited By (1)
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CN105424629A (zh) * | 2015-12-11 | 2016-03-23 | 苏州汶颢芯片科技有限公司 | 微流控芯片及铜离子检测系统 |
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2014
- 2014-06-08 CN CN201410249267.4A patent/CN104096605A/zh active Pending
Cited By (2)
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CN105424629A (zh) * | 2015-12-11 | 2016-03-23 | 苏州汶颢芯片科技有限公司 | 微流控芯片及铜离子检测系统 |
CN105424629B (zh) * | 2015-12-11 | 2018-10-23 | 苏州汶颢芯片科技有限公司 | 微流控芯片及铜离子检测系统 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20141015 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |