CN104076992A - 触控元件及电子装置 - Google Patents

Abstract

一种触控元件及电子装置，该触控元件包括一基材以及一感测线路。感测线路配置在基材上。感测线路包括多个金属感测电极，各个金属感测电极的厚度均在500埃以内且光穿透率均在5至85之间。

Description

触控元件及电子装置

技术领域

本发明涉及一种触控元件以及使用此触控元件的电子装置，特别是指一种采用金属来制作感测线路（sensing circuit）的触控元件以及其所应用的电子装置。

背景技术

现今的移动装置（mobile device），例如平板电脑（tablet computer）以及智能手机（smart phone），大多采用电容式触控面板（capacitive touchpanel）来作为触控屏幕（touch screen）。目前许多电容式触控面板是采用铟锡氧化物（Indium Tin Oxide，ITO）来制成感测电极（sensing electrode）。虽然铟锡氧化物具有很高的光穿透率（transmittance），但铟锡氧化物却有偏高的电阻。如果采用铟锡氧化物来制造大尺寸电容式触控面板内的感测电极，则可能因为铟锡氧化物所具有的高电阻而导致触控信号衰减或失真，进而可能造成电容式触控面板运行异常。

发明内容

本发明提供一种触控元件，其具有多个金属制成的感测电极。

本发明另提供一种电子装置，其具有上述触控元件。

本发明其中一实施例提出一种触控元件，其包括一基材以及一感测线路。感测线路配置在基材上。感测线路包括多个金属感测电极，且各个金属感测电极的厚度在500埃以内。光穿透率在5至85之间。

本发明另一实施例提出一种电子装置，其包括一显示元件以及上述触控元件，其中触控元件与显示元件组合。

综上所述，在本发明的触控元件中，感测线路所包括的这些金属感测电极能作为感测电极，因此与已知以铟锡氧化物所制成的感测电极相比，本发明的感测电极（即金属感测电极）具有偏低的薄膜电阻，从而能减轻触控信号衰减或失真的程度。其次，上述金属感测电极的厚度在500埃以内，所以这些金属感测电极具有相当薄的厚度，以至于光线可以穿透这些金属感测电极。由此可知，利用厚度在500埃以内的金属感测电极来作为感测电极，本发明的触控元件不仅可以用来制造中等尺寸以及小尺寸电容式触控面板，而且也适合用来制造大尺寸电容式触控面板。

此外，在本发明一实施例的电子装置中，触控元件与显示元件二者可以整合成内嵌式触控显示模块（in-cell touch display module）、面上触控显示模块（on-cell touch display module）或是外加式触控显示模块（out-celltouch display module），因此触控元件与显示元件二者可以制作成电子装置的触控屏幕，让使用者可以经由此触控屏幕来操作电子装置。

附图说明

图1A是本发明一实施例中触控元件的感测线路结构的剖面示意图。

图1B是本发明另一实施例中触控元件的感测线路结构的剖面示意图。

图1C是本发明另一实施例中触控元件的感测线路结构的剖面示意图。

图2A是本发明第一实施例的触控元件的俯视示意图。

图2B是图2A中沿线I-I剖面所示出的剖面示意图。

图3A是本发明第二实施例的触控元件的俯视示意图。

图3B是图3A中沿线II-II剖面所示出的剖面示意图。

图4A是本发明第三实施例的触控元件的俯视示意图。

图4B是图4A中沿线III-III剖面所示出的剖面示意图。

图5是本发明一实施例的电子装置的示意图。

【符号说明】

50：电子装置

100a、100b、100c、200、300、400、520：触控元件

110、210、310、410a：基材

112、212：平面

120、222a、222b、322a、322b、422a、422b：金属感测电极

130a、230a、330a、330b：透光层

130b、430a、430b：透光垫

214：透光区

220、320、420：感测线路

224a：桥接线

224b、324a、324b、424a、424b：接线

226a、226b、326a、326b、426a、426b：连接线

228a、228b、328a、328b、428a、428b：连接垫

240a、240b、524：软性电路板

312、412a：第一平面

314、412b：第二平面

331a、331b、332a、332b：绝缘层

410b：板件

510：显示元件

530：控制单元

550：光源模块

T1、T2、T3：厚度

具体实施方式

图1A是本发明一实施例中触控元件的感测线路结构的剖面示意图。请参阅图1A，触控元件100a的主要元件包括基材110以及感测线路，而感测线路包括多个金属感测电极120（图1仅示出一个）。金属感测电极120配置在基材110的平面112上，并且用来作为触控元件100a的感测电极。

基材110可为透明板或不透明板。其中，以透明板而言，基材110可以是硬式（rigid）透明板，其例如是玻璃板或聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethylmethacrylate，PMMA，即压克力，Acrylic）基板。基材110也可以是可挠性（flexible）透明板，其例如是采用聚对苯二甲酸乙二酯（Polyethylene Terephthalate，PET）或聚酰亚胺（Polyimide，PI）所制成的高分子基板。另外，不透明板可以为透明板体内加入染色剂或于透明板体外涂布染料，又或是本身带有颜色的材质。

基材110也可为其他基板上的透明膜层（film），例如基材110可为液晶面板（liquid crystal panel）中的介电层或平坦层（passivation layer）。具体而言，液晶面板包括晶体管阵列基板（transistor array substrate）以及彩色滤光基板（color filter substrate），而基材110可为晶体管阵列基板内的介电层或平坦层。此外，基材110也可为彩色滤光基板内的平坦层。或者，直接以彩色滤光基板来当做基材110。

另外，根据上述不同类型透明板的基材110，利用其本身材质透明可视的特性，因此可应用于显示器上，也即，设计基材110本身在至少对应于显示器的显示区的区域位置（透光区）可透光，而当感测线路配置在基材110上，且位于透光区时，触控元件100a可以用来制造成内嵌式触控显示模块、面上触控显示模块或外加式触控显示模块。当基材110为不透明板，且感测线路配置在基材110上时，触控元件100a可以应用于非显示器上的触控模块。因此，本实施例中的金属感测电极120可以形成在多种类型的基材110上，而且也能用来作为内嵌式触控显示模块、面上触控显示模块以及外加式触控显示模块三者的感测电极，亦或用于非显示器上的触控模块的感测电极。

金属感测电极120为金属薄膜（metallic film），且金属感测电极120的厚度T1在500埃以内。金属感测电极120的形成方法可以包括沉积法（deposition），其可以是物理气相沉积法（Physical Vapor Deposition，PVD），例如溅镀（sputter）或蒸镀。金属感测电极120可由单一金属材质或合金材质制成。详细而言，除了汞之外，金属感测电极120的材质可以是过渡金属，或者是Ⅴ族或Ⅵ族中的金属，例如金、银、铜、铝或铁。或者，金属感测电极120的材质也可为合金，例如铝铜合金。

在本实施例中，金属感测电极120可用溅镀来形成，而在此溅镀的流程中，真空腔体（chamber）内的背景压力（background pressure）可在10^-3帕（Pa）以内，而工作压力（operating pressure）可在10^-1帕以内。上述背景压力是指在未通入任何气体的情况下，真空腔体可以进行溅镀来形成金属感测电极120的最大压力，而工作压力是指在进行溅镀的过程中，真空腔体内可被允许的最大压力。

由于金属通常具有不透光性，所以可见光通常会被金属遮挡而很难穿透金属。然而，只要金属感测电极120的厚度T1够薄，例如厚度T1约在500埃以内，则金属感测电极120仍具有光穿透性，而可见光也能穿透金属感测电极120，其中，金属感测电极120的光穿透率（TY）介于5至85之间。

举例说明，请参阅以下表（一），其中，表（一）披露当金属感测电极120的材质为铜与银时，金属感测电极120的光穿透率与厚度T1之间的关系。

厚度T1为500埃的银金属薄膜已具有3.8的光穿透率（TY），而同样厚度（500埃）的铜金属薄膜具有6.5的光穿透率（TY）。厚度T1为50埃的银金属薄膜也具有83.2的光穿透率，而同样厚度（50埃）的铜金属薄膜具有70.2的光穿透率（TY）。因此，只要金属感测电极120具有适当的厚度T1（例如厚度500埃以下），金属感测电极120所具有的光穿透率也能满足一般触控屏幕所需的光穿透率设计规格，而且金属感测电极120的厚度T1越薄，光穿透效果越好。

此外，根据一般电学知识，虽然金属薄膜的厚度越薄，金属薄膜的薄膜电阻（sheet resistance）越大，但是当金属感测电极120的厚度T1小于500埃时，金属感测电极120仍具有相当低的薄膜电阻。举例而言，当金属感测电极120例如是采用铜金属制作而成，且金属感测电极120的厚度T1例如是介于100埃至200埃之间时，金属感测电极120的薄膜电阻可以介于3Ω/□（欧姆/平方）至12Ω/□（欧姆/平方）之间，而金属感测电极120的光穿透率（TY）可以大于30。因此，当金属感测电极120的厚度T1薄到一定程度，例如厚度T1小于500埃，或是介于100埃至300埃之间时，金属感测电极120不仅具有良好的光穿透性，而且也具有偏低的薄膜电阻。

图1B与图1C是本发明其他实施例中触控元件的感测线路结构的剖面示意图。请参阅图1B，本实施例的触控元件100b与触控元件100a相似，而差异仅在于：触控元件100b还包括一透光层130a，其配置在金属感测电极120上，并且覆盖金属感测电极120，其中，透光层130a覆盖金属感测电极120与基材110。

透光层130a的材质为电绝缘体（electric insulator），且透光层130a例如是氧化硅（例如二氧化硅，SiO₂）、氮化硅、五氧化二铌（Nb₂O₅）或高分子材料。因此，即使透光层130a覆盖金属感测电极120，透光层130a也不会让这些金属感测电极120发生短路。

请参阅图1C，本实施例的触控元件100c与触控元件100b相似，而差异仅在于：触控元件100c包括多个至少一层的透光垫130b，而各个至少一层的透光垫130b分别叠置于各个金属感测电极120上，且各透光垫130b的边缘与对应的金属感测电极120的边缘大致平齐而未接触基材110。透光垫130b的材质可以是导体，例如铟锡氧化物（ITO）或铟锌氧化物（Indium Zinc Oxide，IZO）。不过，透光垫130b的材质也可为电绝缘体，且材质可与透光层130a相同，在此不作赘述。由于各透光垫130b叠置于各个金属感测电极120上且各透光垫130b的边缘与对应的金属感测电极120的边缘大致平齐的设计，因此即使透光垫130b选用导体材质也不会造成各金属感测电极120导通的问题出现。

透光层130a或透光垫130b适当地选用可具有折射率匹配（indexmatching）的功能。透光层130a或各个透光垫130b的折射率大致可介于1.45至2.50之间，以降低金属感测电极120的光反射率，并且提高金属感测电极120的光穿透率。另外，关于透光层130a及透光垫130b二者与金属感测电极120（以银作为示例）之间的光反射率（RY）与光穿透率（TY）的变化，请参阅以下表（二）：

表（二）

表（二）中的光反射率及光穿透率分别为金属感测电极120与透光层130a，或金属感测电极120与透光垫130b的整体光反射率及光穿透率。从表（二）来看，当金属感测电极120具有透光层130a（或透光垫130b）时，其中，金属感测电极120与透光层130a（或透光垫130b）二者整体的光反射率确实有下降的趋势，且金属感测电极120与透光层130a（或透光垫130b）二者整体的光穿透率也有上升的趋势。因此，即使金属感测电极120具有偏厚的厚度T1（例如厚度T1小于500埃，且大于100埃），金属感测电极120仍可利用透光层130a或透光垫130b来提高光穿透率，并降低光反射率，以满足触控屏幕的设计规格。

上述内容是利用图1A至图1C中的触控元件100a、100b与100c以及表（一）与表（二）来说明本发明触控元件中的感测线路的制造方法、构成材质及大体结构。接下来，将以图2A至图4B所示的第一至第三实施例为例，详细说明触控元件的具体实施方式。然而，必须强调的是，以下第一至第三实施例仅供举例说明，并非用于限定本发明。

图2A是本发明第一实施例的触控元件的俯视示意图，而图2B是图2A中沿线I-I剖面所示出的剖面示意图。请参阅图2A与图2B，触控元件200包括基材210以及感测线路220，其中，基材210的种类可与基材110相同。基材210具有平面212与透光区214，而感测线路220配置在平面212上且位于透光区214。感测线路220包括多个金属感测电极222a与222b，其中，这些金属感测电极222a与这些金属感测电极222b均配置在平面212上，并且呈阵列排列。

以图2A为例，这些金属感测电极222a与222b呈行列排列，其中，这些金属感测电极222a排成多列（row），而这些金属感测电极222b排成多行（column）。此外，相邻四个金属感测电极222a之间的区域会配置一个金属感测电极222b，而相邻四个金属感测电极222b之间的区域会配置一个金属感测电极222a，如图2A所示。

金属感测电极222a与222b可以是由同一层金属薄膜在经过微影（photolithography）与蚀刻（etching）之后而形成，所以金属感测电极222a与222b二者材质相同，且大致具有相同的厚度T2。此外，金属感测电极222a与222b的构成材质、形成方法以及厚度（即厚度T2）均可与金属感测电极120相同，且金属感测电极222a与222b的厚度T2均在500埃以内。因此，金属感测电极222a与222b也具有光穿透性。此外，金属感测电极222a与222b二者的薄膜电阻可以介于0.5Ω/□至50Ω/□之间。与目前常用的铟锡氧化物相比，金属感测电极222a与222b二者具有偏低的薄膜电阻。

触控元件200还包括透光层230a，而透光层230a配置在基材210的平面212上。透光层230a覆盖平面212以及位于平面212上的这些金属感测电极222a与222b，其中，透光层230a接触平面212以及金属感测电极222a与222b。此外，透光层230a可为透光层130a。

透光层230a可以降低金属感测电极222a与222b的光反射率，并且提高金属感测电极222a与222b的光穿透率，而透光层230a基本上可具有折射率匹配的功能。在本实施例中，透光层230a的厚度T3可以介于0埃至1500埃之间，而透光层230a的折射率可以介于1.45至2.50之间，其中透光层230a的优选折射率可以接近空气的折射率，以减少透光层230a与空气之间的界面所反射的光线，从而提高金属感测电极222a与222b的光穿透率。

在本实施例中，排列在同一列的这些金属感测电极222a彼此电性连接，而排列在同一行的这些金属感测电极222b彼此电性连接，其中，金属感测电极222a与金属感测电极222b彼此没有电性导通。详细而言，感测线路220还包括多条桥接线（bridge）224a与多条接线224b，其中各条桥接线224a配置在透光层230a上，并且接触透光层230a。各条桥接线224a穿过透光层230a而电性连接其他相邻两个金属感测电极222a。如此，排列在同一列的这些金属感测电极222a得以彼此电性连接。

这些接线224b配置在透光层230a与平面212之间，并且接触透光层230a与平面212，其中，这些桥接线224a配置在这些接线224b的上方，且各条桥接线224a与其中一条接线224b交错，如图2A所示。各条接线224b电性连接其他相邻两个个金属感测电极222b，以使排列在同一行的这些金属感测电极222b得以彼此电性连接。

此外，桥接线224a与接线224b二者可为金属线，且接线224b、金属感测电极222a与222b三者可由同一层金属薄膜在经过微影与蚀刻之后而形成，所以接线224b也具有厚度T2，且接线224b的构成材质和金属感测电极222a与222b相同。不过，桥接线224a与接线224b二者也可以是金属线以外的导线，其例如是由铟锡氧化物（ITO）或铟锌氧化物（IZO）制成。

特别说明的是，虽然在本实施例中，触控元件200包括多个呈阵列排列的金属感测电极222a与222b，但在其他实施例中，即使金属感测电极222a与222b呈其他排列方式，并具有不同于图2A所示的形状，且触控元件200不包括透光层230a与任何接线（例如桥接线224a与接线224b），触控元件200仍可以具有触控感测（touch sensing）的功能。例如，金属感测电极222a与222b可制作成共平面单层触控传感器（co-planarsingle-layer touch sensor）。因此，图2A与图2B所披露的触控元件200仅只是举例说明，而非用于限定本发明。

触控元件200还包括多条连接线226a、226b与多个连接垫228a、228b，其中，这些连接线226a与226b以及这些连接垫228a与228b均配置在基材210的平面212上。连接垫228a与228b能分别输入外部电信号至金属感测电极222a与金属感测电极222b，以及分别输出由金属感测电极222a与金属感测电极222b所产生的触控信号。

具体而言，这些连接线226a电性连接这些金属感测电极222a与这些连接垫228a，而这些连接线226b电性连接这些金属感测电极222b与这些连接垫228b，其中，连接线226a不电性连接金属感测电极222b与连接垫228b，而连接线226b不电性连接金属感测电极222a与连接垫228a。如此，金属感测电极222a能与连接垫228a电性导通，而金属感测电极222b能与连接垫228b电性导通。此外，在本实施例中，透光层130a也可以同时覆盖多条连接线226a、226b。

触控元件200还可以包括软性电路板240a与240b，而透光层230a不覆盖这些连接垫228a与228b，以使软性电路板240a能装设在这些连接垫228a上，并电性连接这些连接垫228a，而软性电路板240b能装设在这些连接垫228b上，并电性连接这些连接垫228b。利用软性电路板240a与240b，连接垫228a与228b能分别输入外部电信号至金属感测电极222a与金属感测电极222b，以及分别输出由金属感测电极222a与金属感测电极222b所产生的触控信号。

须说明的是，在本实施例中，触控元件200包括两个软性电路板：软性电路板240a与240b，但在其他实施例中，触控元件200所包括的软性电路板的数量可以仅为一个。换句话说，软性电路板240a与240b二者可以整合成一块软性电路板。因此，图2A所示的软性电路板240a与240b仅供举例说明，并非限定本发明。此外，软性电路板240a与240b二者可以是Y形软性电路板（Y-shaped flexible circuit board）。

图3A是本发明第二实施例的触控元件的俯视示意图，而图3B是图3A中沿线II-II剖面所示出的剖面示意图。请参阅图3A与图3B，第二实施例的触控元件300与第一实施例的触控元件200相似，而以下将主要介绍触控元件200与300二者的差异特征。

触控元件300包括基材310以及感测线路320，其中，基材310与基材210相同。基材310同时具有第一平面312与第二平面314，其中，第一平面312与第二平面314相背对。感测线路320分布在第一平面312与第二平面314上。感测线路320包括多个呈行列排列的金属感测电极322a与322b，其中，这些金属感测电极322a配置在第一平面312上，而这些金属感测电极322b配置在第二平面314上。

感测线路320还包括多条接线324a与324b。各条接线324a配置在第一平面312上，并电性连接相邻二个金属感测电极322a。各条接线324b配置在第二平面314上，并电性连接相邻二个金属感测电极322b。利用接线324a与接线324b，排列在同一列的这些金属感测电极322a彼此电性连接，而排列在同一行的这些金属感测电极322b彼此电性连接。此外，各条接线324a与其中一条接线324b交错。

接线324a与接线324b均为金属线，其中，接线324a与金属感测电极322a可由同一层金属薄膜在经过微影与蚀刻之后而形成，而接线324b与金属感测电极322b则可由另一层金属薄膜在经过微影与蚀刻之后而形成。所以，接线324a与金属感测电极322a二者的构成材质与厚度都相同，而接线324b与金属感测电极322b二者的构成材质与厚度都相同。

另外，触控元件300还可包括两层透光层330a与330b，其中，透光层330a与330b二者的构成材质及结构均可相同，且透光层330a与330b都是电绝缘层。不同于第一实施例，第一实施例中的透光层230a为单层结构的电绝缘层，但是第二实施例中的透光层330a与330b均为多层结构的电绝缘层。

详细而言，透光层330a包括两层绝缘层331a与332a，而透光层330b包括两层绝缘层331b与332b，其中，绝缘层332a位在绝缘层331a与基材310之间，而绝缘层332b处在绝缘层331b与基材310之间。绝缘层331a、332a、331b与332b可由二氧化硅、氮化硅或高分子材料等透明的电绝缘材料制成，其中，绝缘层331a与331b二者材质可相同，而绝缘层332a与332b二者材质可相同。此外，透光层330a与330b二者整体的折射率可以与第一实施例中的透光层230a的折射率相同。

须说明的是，虽然图3B所示的透光层330a与330b为具有两层结构的电绝缘层，但在其他实施例中，透光层330a与330b可以是具有三层或三层以上结构的电绝缘层。或者，图3B中的透光层330a与330b二者可以更换成图2B中的透光层230a，即，透光层330a与330b可为单层结构的电绝缘层。因此，透光层330a与330b二者所具有的层数并不加以限制。此外，根据不同的产品规格，触控元件300也可以不包括任何透光层330a与330b。

触控元件300还包括多条连接线326a、326b与多个连接垫328a、328b，其中，连接垫328a与328b的功用与第一实施例中的连接垫228a与228b相同。这些连接线326a与这些连接垫328a均配置在第一平面312上，而这些连接线326b与这些连接垫328b均配置在第二平面314上。这些连接线326a电性连接这些金属感测电极322a与这些连接垫328a，而这些连接线326b电性连接这些金属感测电极322b与这些连接垫328b，其中，连接线326a不电性连接金属感测电极322b与连接垫328b，而连接线326b不电性连接金属感测电极322a与连接垫328a。此外，在本实施例中，透光层330a与330b可分别覆盖多条连接线326a、326b。

触控元件300也还可包括软性电路板240a与240b，其中，软性电路板240a电性连接连接垫328a，而软性电路板240b电性连接连接垫328b。另外，软性电路板240a与240b二者可以整合成一块软性电路板，所以图3A所示的软性电路板240a与240b不限定本发明。

图4A是本发明第三实施例的触控元件的俯视示意图，而图4B是图4A中沿线III-III剖面所示出的剖面示意图。请参阅图4A与图4B，第三实施例的触控元件400类似于第二实施例的触控元件300，而以下将主要介绍触控元件300与400二者的差异特征。

触控元件400包括基材410a、板件410b（示出于图4B中）以及感测线路420。基材410a可以与图1A中的基材110相同，并具有第一平面412a。板件410b具有第二平面412b，而第二平面412b与第一平面412a彼此面对面。感测线路420分布在第一平面412a与第二平面412b上。感测线路420包括多个金属感测电极422a与422b、多条连接线426a与426b以及多个连接垫428a与428b，其中，金属感测电极422a、连接线426a与连接垫428a均配置在第一平面412a上，而金属感测电极422b、连接线426b与连接垫428b均配置在第二平面412b上。

这些连接线426a电性连接这些金属感测电极422a与这些连接垫428a，而这些连接线426b电性连接这些金属感测电极422b与这些连接垫428b，其中，连接线426a不电性连接金属感测电极422b与连接垫428b，而连接线426b不电性连接金属感测电极422a与连接垫428a。如此，金属感测电极422a能与连接垫428a电性导通，而金属感测电极422b能与连接垫428b电性导通。此外，连接垫428a与428b的功用与第二实施例中的连接垫328a与328b相同，故不再重复赘述。

在本实施例中，透光层330a与330b分别覆盖多条连接线326a、326b。此外，触控元件400还可以包括软性电路板240a与240b，其中，软性电路板240a电性连接连接垫428a，而软性电路板240b电性连接连接垫428b，其中，软性电路板240a与240b二者可以整合成一块软性电路板。

这些金属感测电极422a与422b呈阵列排列，而感测线路420还包括多条接线424a与多条接线424b。各条接线424a配置在第一平面412a上，并电性连接相邻二个金属感测电极422a。各条接线424b配置在第二平面412b上，并电性连接相邻二个金属感测电极422b。利用接线424a与接线424b，排列在同一列的这些金属感测电极422a彼此电性连接，而排列在同一行的这些金属感测电极422b彼此电性连接。此外，各条接线424a与其中一条接线424b交错。接线424a与接线424b均为金属线，其中，接线424a与金属感测电极422a可由同一层金属薄膜在经过微影与蚀刻之后而形成，而接线424b与金属感测电极422b则可由另一层金属薄膜在经过微影与蚀刻之后而形成。

触控元件400还包括多个透光垫430a与430b，而透光垫430a与430b均可与透光垫130b相同。各个透光垫430a堆叠于其中一个金属感测电极422a，且透光垫430a的边缘与金属感测电极422a的边缘平齐。各个透光垫430b堆叠于其中一个金属感测电极422b，且透光垫430b的边缘与金属感测电极422b的边缘平齐。此外，透光垫430a可接触于金属感测电极422a，而透光垫430b可接触于金属感测电极422b。

透光垫430a与金属感测电极422a二者可在同一个蚀刻流程中形成，而透光垫430b与金属感测电极422b二者可在同一个蚀刻流程中形成，其中，上述蚀刻流程可以是搭配屏蔽图案的湿蚀刻或干蚀刻，或者是激光蚀刻。因此，透光垫430a的边缘与金属感测电极422a的边缘平齐，而透光垫430b的边缘与金属感测电极422b的边缘平齐，其中透光垫430a没接触第一平面412a，而透光垫430b也没接触第二平面412b。

须说明的是，在图4B所示的触控元件400中，这些透光垫430a与430b可以更换成一对如图2B所示的透光层230a或是图3B中的透光层330a与330b。换句话说，这些透光垫430a与430b可以换成全面性覆盖并接触第一平面412a与第二平面412b的电绝缘层。此外，图4B所示的透光垫430a与430b也可以应用于第二实施例的触控元件300，即图3B中的透光层330a可更换成边缘与金属感测电极322a平齐的透光垫，而图3B中的透光层330b可更换成边缘与金属感测电极322b平齐的透光垫。

图5是本发明一实施例的电子装置的示意图。请参阅图5，电子装置50为具有触控屏幕的装置，其例如是平板计算机、智能手机、笔记本电脑（laptop）、掌上游戏机（handheld game console）或数字相机等可携式电子装置（portable electronic device）。或者，电子装置50也可以是自动柜员机（Automated Teller Machine，ATM）、大型电玩（arcade）或触控电视机（touch television）等具有大尺寸触控屏幕的装置。

电子装置50包括显示元件510、触控元件520、控制单元530与光源模块550。触控元件520与显示元件510组合，并包括至少一块软性电路板524，其中，触控元件520可为前述实施例中的触控元件100a、200、300或400，而软性电路板524可为前述实施例中的软性电路板240a或240b。软性电路板524电性连接显示元件510、触控元件520以及控制单元530，而控制单元530可以经由软性电路板524来控制触控元件520与显示元件510。

控制单元530可以包括至少一个处理器（processor），其例如是微处理器（microprocessor）或中央处理器（Central Processing Unit）。显示元件510可以是液晶面板，而光源模块550可以是背光模块（backlight module），其例如是直下式背光模块或侧边入光式背光模块，其中，光源模块550能发出光线至显示元件510，以使显示元件510能显示出影像。

值得一提的是，虽然图5的电子装置50包括光源模块550，但在其他实施例中，显示元件510也可以是主动矩阵有机发光二极管面板（Active-Matrix Organic Light Emitting Diode，AMLED）、被动式有机发光二极管面板或反射式液晶面板。所以，在其他实施例中，显示元件510可以具有自发光性或是不需要背光源，以至于电子装置50不一定要包括光源模块550。

此外，触控元件520与显示元件510可整合成内嵌式触控显示模块、面上触控显示模块或外加式触控显示模块，即，触控元件520与显示元件510的组合方式为触控元件520外置或内嵌于显示元件510。所以，触控元件520可以制作在显示元件510内或是装设在显示元件510外。

举例而言，当显示元件510为液晶面板时，触控元件520可以制作在彩色滤光基板上，以形成面上触控显示模块。或者，触控元件520可形成于彩色滤光基板与晶体管阵列基板之间，以形成内嵌式触控显示模块。当然，触控元件520也可以是单独一块触控面板，并且能与显示元件510组装成外加式触控显示模块。

综上所述，本发明采用厚度在500埃以内的金属感测电极作为感测电极。与已知电容式触控面板的感测电极（材质例如是铟锡氧化物）相比，本发明的金属感测电极具有偏低的薄膜电阻，从而能减轻触控信号衰减或失真的程度。其次，由于金属感测电极的厚度在500埃以内，所以光线可以穿透金属感测电极。由此可知，本发明的触控元件不仅能应用于中等及小尺寸的触控面板（例如可携式电子装置的触控屏幕），而且也可应用于大尺寸的触控面板（例如自动柜员机、大型电玩或触控电视机的触控屏幕）。

以上所述仅为本发明的优选可行实施例，凡依本发明权利要求所做的均等变化与修饰，均应属本发明的涵盖范围。

Claims (10)

1.一种触控元件，其特征在于，所述触控元件包括：

基材；以及

感测线路，配置在所述基材上，所述感测线路包括多个金属感测电极且各个所述金属感测电极的厚度均在500埃以内且光穿透率均在5至85之间。

2.根据权利要求1所述的触控元件，其特征在于，各个所述金属感测电极均由单一金属材质或合金材质制成。

3.根据权利要求1所述的触控元件，其特征在于，所述触控元件还包括透光层，所述透光层覆盖所述基材以及所述多个金属感测电极。

4.根据权利要求3所述的触控元件，其特征在于，所述透光层的折射率介于1.45至2.50之间。

5.根据权利要求4所述的触控元件，其特征在于，所述透光层的材质为电绝缘体。

6.根据权利要求1所述的触控元件，其特征在于，所述触控元件还包括多个至少一层的透光垫，各个所述多个至少一层的透光垫分别叠置于各个所述金属感测电极上。

7.根据权利要求6所述的触控元件，其特征在于，各个所述多个至少一层的透光垫的折射率均介于1.45至2.50之间。

8.根据权利要求7所述的触控元件，其特征在于，所述多个至少一层的透光垫的材质为导体或电绝缘体。

9.一种电子装置，其特征在于，所述电子装置包括：

显示元件；以及

触控元件，与所述显示元件组合，并且包括：

基材；以及

感测线路，配置在所述基材上，所述感测线路包括多个金属感测电极，并且各个所述金属感测电极的厚度均在500埃以内且光穿透率均在5至85之间。

10.根据权利要求9所述的电子装置，其特征在于，所述触控元件与所述显示元件的组合方式为所述触控元件外置或内嵌于所述显示元件。