CN104029440A - 离线低辐射玻璃镀膜的膜系 - Google Patents

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陈君
汤传兴
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Zhejiang Zhongli Energy Efficient Glass Manufacture Co ltd
Hangzhou Dianzi University
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Zhejiang Zhongli Energy Efficient Glass Manufacture Co ltd
Hangzhou Dianzi University
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Abstract

本发明公开一种离线低辐射玻璃镀膜的膜系。本发明是在现有的离线低辐射玻璃镀膜的膜系中用氮氧化锌膜层替换原有的金属Ti层或者NiCr合金。氮氧化锌膜层采用磁控溅射法制作,在磁控溅射镀膜过程中以氮气为溅射气体和工艺气体,同时根据实际产品性能要求通入少量氧气。本发明有较低遮阳系数的同时保持较低的可见光反射率。颜色柔和,可轻易达成中性色要求,角度颜色偏差较小。产品耐磨性能优秀,可加工性能优异,能有效提高产品的成品率,降低生产成本。

Description

离线低辐射玻璃镀膜的膜系
技术领域
本发明涉及一种离线低辐射玻璃镀膜的膜系。
背景技术
常规离线低辐射镀膜玻璃的膜系设计中,一般以金属Ti层或者NiCr合金作为功能层银层的保护层和光衰减层,但是由于这2种金属材料对可见光的衰减系数较低,导致在生产低遮阳离线镀膜玻璃时会有较高的可见光反射率,容易引起光污染,同时角度颜色容易偏红,影响产品美观。
发明内容
为了解决现有技术中生产低遮阳低辐射镀膜产品存在的高反射率和角度颜色容易偏红的技术问题,本发明提供了一种具有较高光衰减效果、角度颜色稳定、耐磨性能好的膜系。
本发明是在现有的离线低辐射玻璃镀膜的膜系中用氮氧化锌膜层替换原有的金属Ti层或者NiCr合金。氮氧化锌膜层采用磁控溅射法制作,在磁控溅射镀膜过程中以氮气为溅射气体和工艺气体,同时根据实际产品性能要求通入少量氧气。
与现有技术相比,本发明可以达到以下技术效果:
1、有较低遮阳系数的同时保持较低的可见光反射率。
2、颜色柔和,可轻易达成中性色要求,角度颜色偏差较小。
3、产品耐磨性能优秀,可加工性能优异,能有效提高产品的成品率,降低生产成本。
附图说明
图1a现有离线低辐射镀膜玻璃的单银膜系。
图1b现有离线低辐射镀膜玻璃的双银膜系。
图1c现有离线低辐射镀膜玻璃的三银膜系。
图2a本发明的离线低辐射镀膜玻璃的单银膜系。
图2b本发明的离线低辐射镀膜玻璃的双银膜系。
图2c本发明的离线低辐射镀膜玻璃的三银膜系。
具体实施方式
现有离线低辐射镀膜玻璃的膜系设计常规方案见图1a、图1b和图1c:由于功能层Ag层的保护为金属,对可见光的光吸收较少,对光的衰减主要表现在光反射上,在设计一些低遮阳的镀膜产品时容易产生较高的光反射率,形成光污染,并且薄膜金属的固有光学特性对可见光中的长波段反射较高,而对短波反射较弱,并且随着金属薄膜厚度的增加对光反射的不均衡性影响越大,因此在设计低遮阳镀膜产品时由于反射光波段的不均衡性容易造成反射颜色很难保持中性色,特别是在设计高端的双银和三银产品时尤为严重,影响建筑美观。
本发明的离线低辐射镀膜玻璃的膜系设计见图2a、图2b和图2c,其中所使用的光衰减层和保护层氮氧化锌材料在可见光全波段都有较高的吸收,同时它与Ag层和介质层SiAlNx的膜层附着力较强,机械性能优越,耐磨性能优秀。它可以作为Ag层的保护层使用,同时由于该材料的高吸收性能,可以根据产品性能要求自由选择所需要使用的保护层的数量。
以下将本发明中双银结构的膜系Low-E与国内外同类产品对比,其中每层的厚度依次为:
SiAlNx:37nm
NiCr:2nm
Ag:12nm
ZnAlONx:10nm
SiAlNx:65nm
ZnAlOx:25nm
Ag:10nm
NiCr:2nm
SiAlNx:45nm
单片6mmLow-E的参数
6mmLow-E+12A+6mmClear中空玻璃的参数
由以上对比例数据可知:
法国圣戈班SKN154产品可见光反射率过高,颜色偏绿,色值过深;
美国Guardian的SN51产品室内反射率过高影响视线,颜色偏绿,色值过深;
中国南玻CED12-52产品颜色偏红,节能性能较差;
中国信义DG150产品反射率过高,颜色偏红;
而应用本发明的产品反射率较低,外观颜色为蓝灰色,色泽柔和,同时节能性能优秀。

Claims (2)

1. 离线低辐射玻璃镀膜的膜系,其特征在于:该膜系中将氮氧化锌膜层作为功能层银层的保护层兼光衰减层。
2.根据权利要求1所述的离线低辐射玻璃镀膜的膜系,其特征在于:氮氧化锌膜层采用磁控溅射法制作,在磁控溅射镀膜过程中以氮气为溅射气体和工艺气体,同时根据实际产品性能要求通入少量氧气。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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