CN103969956A - 曝光装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于基底上，所述曝光装置包括照明模块，提供照明光；成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及工件台，所述基底置于所述工件台上，本发明提供的曝光装置节省了现有技术的曝光装置所需损耗的能量，增加了其曝光的效率，并有效降低了其曝光图形的模糊度。

Description

曝光装置

技术领域

本发明涉及电路板制造领域，尤其涉及一种曝光装置。

背景技术

投影曝光装置是将掩模版上的电路图形，经过投影曝光透镜等光学系统做投影曝光，将电路图形以一定放大或缩小的倍率投影于制造集成电路的硅片上的一种装置，已知用于集成电路的制造，近年来该投影曝光装置也适用于印刷电路板的制造。

随着市场对半导体产品需求量的不断增大和生产商对其价格竞争力的不断追求，初始加工的薄膜液晶面板（TFT）基板和印刷电路板（PCB）基板的尺寸不断增大，掩模的尺寸也随之增大，导致光刻设备结构复杂，且大尺寸、多数量的掩模的管理和维护成本不断上升。

无掩模光刻能有效地降低光刻系统的复杂度和掩模的维护成本，是进行大尺寸基底光刻的发展趋势，而基于光开关的无掩模光刻方法因其制作灵活、可靠性高和产率较客观等优势越来越多地被用来制作印刷电路板（PCB）、薄膜液晶面板（TFT）和微机电系统（MEMS）。

在无掩模曝光系统中，每幅曝光图形由成像单元生成后会保持一段时间，在上一幅图形显示结束到下一幅图形显示结束的时间为成像单元的显示周期，在显示周期内，显示的图形是静止的，而扫描中的工件台是运动的，因此在曝光过程中硅片上的图形会变模糊，所以在较短的时间内完成曝光能减小曝光图形的模糊程度。

在现有技术中，已有能够有效降低图形模糊程度的曝光装置，如图1所示，图1为现有技术中曝光装置的结构示意图，这种曝光装置包括光源1a、照明模块2a、反射镜或反射镜组80、一个或一组光开关100、一个或一组成像单元200和工件台17，基底16设置于所述工件台17上，所述光源1a发出光束，所述照明模块2a使所述光束均匀并通过所述反射镜或反射镜组80反射到所述一个或一组光开关100上，所述光开关100能够在开启和关闭状态之间转换，当其转换为开启状态时，将入射光射入成像单元200中，成像单元200将曝光图形成像于所述工件台17上的基底16上；当其转换为关闭状态时，光开关100射出另一路光，并通过光吸收器吸收（图中未示），此时成像200接收不到光，光能量损失。

上述这种曝光装置利用连续光离散化曝光方式降低了曝光图形的模糊度，但该曝光装置存在以下不足：当该曝光装置中的光开关为关闭状态时，曝光能量全部损失，造成该曝光装置的能量利用率不高；该曝光装置中的一个光开关只对应一个成像单元，其成像效率不高。

发明内容

本发明的目的是提供一种曝光装置，以实现在提高能量利用率的同时，减小曝光图形的模糊度。

为达到上述目的，本发明提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于基底上，所述曝光装置包括照明模块；提供均匀的照明光；成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及工件台，所述基底置于所述工件台上，所述工件台能够带动所述基底做六自由度的运动。

进一步的，所述第一光开关为第一空间光调制器。

进一步的，所述成像单元包括第二空间光调制器和投影物镜，所述第二空间光调制器与所述投影物镜的数量相同并且一一对应匹配，所述第二空间光调制器用于接收从所述第一光开关处输出的照明光，并通过所述投影物镜将所述曝光图形成像于所述基底上。

进一步的，所述成像单元还包括第二光吸收器，所述第二空间光调制器能够在开启与关闭两个状态之间切换，当所述第二空间光调制器处于开启状态时，其用于接收从所述第一光开关处输出的光，并通过所述投影物镜将曝光图形成像于所述基底上；当所述第二空间光调制器处于关闭状态时，其将接收到的光折射入所述第二光吸收器中。

进一步的，所述照明模块包括光源、匀光单元、准直单元和反射镜，所述光源发出光束，所述匀光单元使所述光束能量均匀化，所述准直单元调整所述光束的发散角和方位角，所述反射镜将所述光束以一定角度导入所述成像模块中。

进一步的，所述光源包括汞灯、分色镜和第一光吸收器，所述汞灯发出光束，所述分色镜将所述光束中特定波长的光线反射向所述匀光单元，所述第一光吸收器吸收所述光束中其他波长的光线。

进一步的，所述匀光单元包括耦合透镜和积分棒，所述光源发出的光束穿过所述耦合透镜并由所述积分棒进行匀光，所述耦合透镜用于提高所述积分棒的耦合效率。

进一步的，所述准直单元为聚光镜组，所述聚光镜组将经过所述匀光单元的光束进行处理，使其具有合适的照明视场和入射角度。

进一步的，所述曝光装置还包括垂向位置测量单元，所述垂向位置测量单元用于测量所述基底的垂向位置。

进一步的，所述成像模块中的成像单元的数量能够以2ⁿ倍数拓展，第一光开关的数量相应以2^n-1倍数拓展，n取大于等于1的正整数，其中，当n取大于等于2的正整数时，在所述照明模块与成像模块之间增加第二光开关及反射镜，所述第二光开关的数量为2⁰+2¹+……+2^n-2，且所述第二光开关与所述反射镜的数量比为1：2。

可选的，所述成像模块中的成像单元的数量拓展为四个，第一光开关的数量拓展为两个，相应的在所述照明模块与成像模块之间增加一个第二光开关及两个反射镜，所述第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的照明光通过所述两个反射镜分别反射到所述两个第一光开关，所述两个第一光开关将所述照明光通过其状态切换分为四路输出到所述四个成像单元中。

对于上段所述成像模块，其一种形式为：所述另两个第一光开关和四个成像单元的几何中心均位于同一平面内；

其另一种形式为：所述两个第一光开关中的一个光开关及两个成像单元的几何中心位于第一平面内，所述两个第一光开关中的另一个光开关及另两个成像单元的几何中心位于第二平面内，所述第一平面与所述第二平面平行。

可选的，所述成像模块中的成像单元的数量拓展为八个，第一光开光的数量拓展为四个，相应的在所述照明模块与成像模块之间增加三个第二光开关及六个反射镜，所述三个第二光开关中的一个第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的光通过所述六个反射镜中的两个反射镜反射到所述三个第二光开关中的另两个第二光开关上，所述另两个第二光开关将照明光通过其状态切换分为四路输出，其输出的光通过所述六个反射镜中的另四个反射镜反射到所述四个第一光开关上，所述四个第一光开关将照明光通过其状态切换分为八路输出到所述八个成像单元中。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

本发明提供的曝光装置相对于现有技术的区别在于：（1）本发明中的曝光装置使一个第一光开关与两个成像单元相对应，使第一光开关在开启和关闭两种状态下输出的光均能够利用到，节省了现有技术中的曝光装置所需损耗的能量；（2）由于第一光开关在关闭状态时该曝光装置依然能够进行曝光图形的成像，并且该曝光装置能够实现多成像单元同时进行曝光图形成像作业，因此该曝光装置还节省了曝光过程所需的时间，增加了其曝光的效率；（3）通过光开关的周期性开关设置，使得多个成像单元的曝光图形成像时间分配合理，有利于降低曝光图形的模糊度。

附图说明

下面结合附图对本发明作进一步说明：

图1为现有技术中曝光装置的结构示意图；

图2为本发明实施例一提供的曝光装置的结构示意图；

图3为本发明实施例一提供的曝光装置中各空间光调制器的工作时序图；

图4为本发明实施例一提供的曝光装置的曝光过程图；

图5为图4中曝光过程延续步骤的过程示意图；

图6为本发明实施例二提供的曝光装置中的成像模块在其两个光开关和四个成像单元的几何中心均位于同一平面内时的部分结构示意图；

图7为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/4，且最先接触到光束的那个空间光调制器为开启状态时，各空间光调制器的工作时序图；

图8为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/n，且最先接触到光束的那个空间光调制器为开启状态时，各空间光调制器的工作时序图；

图9为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/4，且最先接触到光束的那个空间光调制器为关闭状态时，各空间光调制器的工作时序图；

图10为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/n，且最先接触到光束的那个空间光调制器为关闭状态时，各空间光调制器的工作时序图；

图11为本发明实施例二提供的曝光装置中的成像模块在第一平面与第二平面平行时的部分结构示意图；

图12为图11中曝光装置的成像单元在旋转一定角度后其静态视场俯视图；

图13为图12中曝光装置的曝光图形成像过程图；

图14为本发明实施例三提供的曝光装置中成像模块的部分结构示意图。

在图1至图14中，

1a：光源；2a：照明模块；80：反射镜或反射镜组；100’：一个或一组光开关；200’：一个或一组成像单元；1；汞灯；2：分色镜；3：第一光吸收器；4：耦合透镜；5：积分棒；6：聚光镜组；100、101、102、103：第一空间光调制器；200、201、202、203、204：第二空间光调制器；131、132：投影物镜；400：成像模块；91、92：第二光吸收器；15：垂向位置测量单元；16：基底；17：工件台；8、80、81、82：反射镜；501、502、503、504：静态曝光视场正在曝光的区域；501a、502a、501b、502b、503b、504b、501c、502c、503c、504c：静态曝光视场曝光过的区域。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的曝光装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

本发明的核心思想在于，提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于基底上，所述曝光装置包括照明模块；提供均匀的照明光；成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及工件台，所述基底置于所述工件台上，所述工件台能够带动所述基底做六自由度的运动，本发明提供的曝光装置节省了现有技术的曝光装置所需损耗的能量，增加了其曝光的效率，并有效降低了其曝光图形的模糊度。

请参考图2至图14，图2为本发明实施例一提供的曝光装置的结构示意图；图3为本发明实施例一提供的曝光装置中各空间光调制器的工作时序图；图4为本发明实施例一提供的曝光装置的曝光过程图；图5为图4中曝光过程延续步骤的过程示意图；图6为本发明实施例二提供的曝光装置中的成像模块在其两个光开关和四个成像单元的几何中心均位于同一平面内时的结构示意图；图7为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/4，且最先接触到光束的那个空间光调制器为开启状态时，各空间光调制器的工作时序图；图8为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/n，且最先接触到光束的那个空间光调制器为开启状态时，各空间光调制器的工作时序图；图9为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/4，且最先接触到光束的那个空间光调制器为关闭状态时，各空间光调制器的工作时序图；图10为本发明实施例二提供的曝光装置在其曝光时间为T/n，且最先接触到光束的那个空间光调制器为关闭状态时，各空间光调制器的工作时序图；图11为本发明实施例二提供的曝光装置中的成像模块在第一平面与第二平面平行时的结构示意图；图12为图11中曝光装置的成像单元在旋转一定角度后其静态视场俯视图；图13为图12中曝光装置的曝光图形成像过程图；图14为本发明实施例三提供的曝光装置中成像模块的结构示意图。

实施例一

请重点参考图2，如图2所示，本发明实施例提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于基底16上，所述曝光装置包括照明模块；提供均匀的照明光；成像模块400，包括一个第一光开关及两个成像单元，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底16上；以及工件台17，所述基底16置于所述工件台17上，所述工件台17能够带动所述基底16做六自由度的运动。

进一步的，所述第一光开关为第一空间光调制器（SLM）101，空间光调制器既能够起到将输入光分为两路输出的作用，又能够进行光学信息处理，起到图形成像的作用，在这里把它作为一个光路转换器使用。

进一步的，所述成像单元包括第二空间光调制器（SLM）201、202和投影物镜131、132，所述第二空间光调制器201、202与所述投影物镜131、132的数量相同并且一一对应匹配，所述第二空间光调制器201、202用于接收从所述第一光开关处输出的光，并通过所述投影物镜131、132将所述曝光图形成像于所述基底16上。

进一步的，所述成像单元还包括第二光吸收器91、92，所述第二空间光调制器201、202能够在开启与关闭两个状态之间切换，当所述第二空间光调制器201、202处于开启状态时，其用于接收从所述第一光开关处输出的光，并通过所述投影物镜131、132将曝光图形成像于所述基底16上，当所述第二空间光调制器201、202处于关闭状态时，其将接收到的光折射入所述第二光吸收器91、92中。

进一步的，所述照明模块包括光源、匀光单元、准直单元和反射镜8，所述光源发出光束，所述匀光单元使所述光束能量均匀化，所述准直单元调整所述光束的发散角和方位角，所述反射镜8将所述光束以一定角度导入所述成像模块400中。

进一步的，所述光源包括汞灯1、分色镜2和第一光吸收器3，所述汞灯1发出光束，所述分色镜2将所述光束中特定波长的光线反射向所述匀光单元，所述第一光吸收器3吸收所述光束中其他波长的光线。

进一步的，所述匀光单元包括耦合透镜4和积分棒5，所述光源发出的光束穿过所述耦合透镜4并由所述积分棒5进行匀光，所述耦合透镜4用于提高所述积分棒5的耦合效率。

进一步的，所述准直单元为聚光镜组6，所述聚光镜组6将经过所述匀光单元的光束进行处理，使其具有合适的照明视场和入射角度。

进一步的，所述曝光装置还包括垂向位置测量单元15，所述垂向位置测量单元15用于测量所述基底16的垂向位置，提高该曝光装置的曝光精度。

图3是与图2相对应的工作时序图，如图3所示，第一空间光调制器101和第二空间光调制器201、202有相同的显示周期T，第二空间光调制器201、202与第一空间光调制器SLM101在相位上有位移，这种方式能实现连续光离散化曝光，以减小曝光图形的模糊程度。第二空间光调制器201与第一空间光调制器101的开启状态在时间上有重合，重合时间为第一空间光调制器101显示周期T的n分之一，即T/n，这是有效曝光时间，理论上n可以为任何大于1的整数；当第一空间光调制器101为关闭状态时，入射光能到达第二空间光调制器202，同理，第二空间光调制器202的开启状态与第一空间光调制器101的关闭状态在时间上有重合，重合时间也为T/n，这是有效曝光时间，理论上n可以为任何大于1的整数。

图4是对应图3中曝光装置的扫描曝光过程，如图4所示，图3中的曝光装置生成如图4中的两个静态曝光视场501、502，由于每个视场是按一定周期交替曝光，所以，随着基底在扫描方向上的移动，先前的曝光区域501a、502a在基底16扫描方向上有位移。

图5是图4所示曝光装置扫描曝光过程的延续，如图5所示，在图4中的曝光装置扫描曝光一列后，扫描方向反向且曝光视场501、502与基底16在垂直扫描方向的方向上相对移动一个曝光视场501的宽度，以同样的方式完成基底16的曝光。

实施例二

请重点参考图6和图10，如图6和图10所示，本发明实施例提供的曝光装置相对于实施例一的区别在于：所述成像模块中的成像单元的数量拓展为四个，第一光开关的数量拓展为两个，相应的在所述照明模块与成像模块400之间增加一个第二光开关及两个反射镜81、82，所述第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的照明光通过所述两个反射镜81、82分别反射到所述两个第一光开关，所述两个第一光开关将所述照明光通过其状态切换分为四路输出到所述四个成像单元中。

进一步的，所述两个第一光开关与一个第二光开关分别为第一空间光调制器（SLM）102、103、101。

进一步的，所述成像单元包括第二空间光调制器（SLM）201、202、203、204和投影物镜（图中未示），所述第二空间光调制器201、202、203、204与所述投影物镜的数量相同并且一一对应匹配，所述第二空间光调制器201、202、203、204用于接收从所述第一光开关处输出的光，并通过所述投影物镜将曝光图形成像于所述基底16上。

本实施例中曝光装置的成像模块400的第一种形式为：所述两个第一光开关和四个成像单元的几何中心均位于同一平面内。

如图6所示，第一空间光调制器102、103与第二空间光调制器201、202、203、204的几何中心位于同一平面内。

图7是与图6中曝光装置相对应的工作时序图，如图7所示，图7中第一空间光调制器101为开启状态时，第一空间光调制器102与101特定的相位偏移使它们均为开启状态的重合时间为T/4，且该时间段在第二空间光调制器201为开启时间段内；同理，当第一空间光调制器102为关闭状态和第一空间光调制器101为开启状态的重合时间也为T/4，该时间段与第二空间光调制器202的开启时间段相重合部分即为有效曝光时间。对于此种情况，有效曝光时间为T/4。

图8是在图7的基础上改变第二空间光调制器201和202的相位，使曝光时间缩短为第一空间光调制器101显示周期T的n分之一，即T/n，理论上n可以为任何大于1的整数。对于此种情况，有效曝光时间为T/n。

图9是与图6中曝光装置相对应的工作时序图，如图9所示，，图9中第一空间光调制器101为关闭状态时，第一空间光调制器103与101特定的相位偏移使第一空间光调制器101的关闭状态和第一空间光调制器103的开启状态的重合时间为T/4，且该时间段在第二空间光调制器203为开启时间段内；同理，当第一空间光调制器103为关闭状态和第一空间光调制器101为关闭状态的重合时间也为T/4，该时间段与第二空间光调制器204的开启时间段相重合部分即为有效曝光时间。对于此种情况，有效曝光时间为T/4。

图10是在图9的基础上改变第二空间光调制器203和204的相位，使曝光时间缩短为第一空间光调制器101显示周期T的n分之一，即T/n，理论上n可以为任何大于1的整数。对于此种情况，有效曝光时间为T/n。

上述第一种形式成像模块400的扫描曝光方式和实施例一中曝光装置的扫描曝光方式相似，再次便不再赘述。

如图11所示，本实施例中曝光装置的成像模块400的第二种形式为：所述两个第一光开关中的一个光开关及两个成像单元的几何中心位于第一平面内，所述两个第一光开关中的另一个光开关及另两个成像单元的几何中心位于第二平面内，所述第一平面与所述第二平面平行。

如图11所示，第一空间光调制器102及第二空间光调制器201、202的几何中心所组成的平面与第一空间光调制器103及第二空间光调制器203、204的几何中心所组成的平面相互平行。

图11中曝光装置的工作时序图与图7～图10所示相同。

图12为对应图11中曝光装置的静态视场俯视图，如图12所示，501b～504b为静态曝光视场501～504的原始位置，为了实现更优化的扫描曝光，以四个第二空间光调制器201、202、203、204整体的中心为圆心将整个成像模块400旋转θ角度以实现整片基底16的曝光。

θ角度的确定可以通过计算获得最优化值，设静态曝光视场503（各静态曝光视场501、502、503、504几何尺寸完全相等）的两条边长分别为a，b，如图12所示，静态曝光视场503与504的距离为c，静态视场501与503的距离为d，根据几何关系可得θ角度的最优化值计算公式，即：

$\tan \mathrm{\θ}=\frac{b}{a+c},$

其中a、b、c为设计输入，可认为是已知量，所以根据上式可得θ角的最优化值，接着根据公式：

d＝a·tanθ+b，

可得出静态视场501与503之间的距离d，从而确定各第二空间光调制器201、202、203、204之间的距离，以实现最优化的曝光过程。

图13为对应图12中曝光装置的曝光图形成像过程图，如图13所示，501c～504c为扫描方向上已曝光的视场区域，分别对应静态视场501～504，可以从图13中看出，在转动了θ角度后，该曝光装置能够同时在基底16上进行四列静态曝光视场区域的曝光工作，提高了该曝光装置的工作效率。

实施例三

请重点参考图14，如图14所示，本发明实施例提供的曝光装置相对于实施例一的区别在于：所述成像模块中的成像单元的数量拓展为八个，第一光开光的数量拓展为四个，相应的在所述照明模块与成像模块400之间增加三个第二光开关及六个反射镜80，所述三个第二光开关中的一个第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的光通过所述六个反射镜80中的两个反射镜反射到所述三个第二光开关中的另两个第二光开关上，所述另两个第二光开关将照明光通过其状态切换分为四路输出，其输出的光通过所述六个反射镜中的另四个反射镜反射到所述四个第一光开关上，所述四个第一光开关将照明光通过其状态切换分为八路输出到所述八个成像单元中。

进一步的，所述第一光开关与第二光开关均为第一空间光调制器100。

进一步的，所述成像单元包括第二空间光调制器200和投影物镜（图中未示），所述第二空间光调制器200与所述投影物镜的数量相同并且一一对应匹配，所述第二空间光调制器200用于接收从所述光开关处输出的光，并通过所述投影物镜将曝光图形成像于所述基底16上。

本实施例中的曝光装置表示出该曝光装置可以以这种形式在不增加光源的情况下不断增加第二空间光调制器的数量，即增加成像单元的数量，以使基底的曝光时间缩短，曝光效率得到更大的提升。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变形而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (14)

1.一种曝光装置，用于将电路图形投影于基底上，其特征在于，包括：

照明模块；提供均匀的照明光；

成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及

工件台，所述基底置于所述工件台上，所述工件台能够带动所述基底做六自由度的运动。

2.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述第一光开关为第一空间光调制器。

3.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述成像单元包括第二空间光调制器和投影物镜，所述第二空间光调制器与所述投影物镜的数量相同并且一一对应匹配，所述第二空间光调制器用于接收从所述第一光开关处输出的照明光，并通过所述投影物镜将所述曝光图形成像于所述基底上。

4.根据权利要求3所述曝光装置，其特征在于，所述成像单元还包括第二光吸收器，所述第二空间光调制器能够在开启与关闭两个状态之间切换，当所述第二空间光调制器处于开启状态时，其用于接收从所述第一光开关处输出的光，并通过所述投影物镜将曝光图形成像于所述基底上；当所述第二空间光调制器处于关闭状态时，其将接收到的光折射入所述第二光吸收器中。

5.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述照明模块包括光源、匀光单元、准直单元和反射镜，所述光源发出光束，所述匀光单元使所述光束能量均匀化，所述准直单元调整所述光束的发散角和方位角，所述反射镜将所述光束以一定角度导入所述成像模块中。

6.根据权利要求5所述曝光装置，其特征在于，所述光源包括汞灯、分色镜和第一光吸收器，所述汞灯发出光束，所述分色镜将所述光束中特定波长的光线反射向所述匀光单元，所述第一光吸收器吸收所述光束中其他波长的光线。

7.根据权利要求5所述曝光装置，其特征在于，所述匀光单元包括耦合透镜和积分棒，所述光源发出的光束穿过所述耦合透镜并由所述积分棒进行匀光。

8.根据权利要求5所述曝光装置，其特征在于，所述准直单元为聚光镜组，所述聚光镜组将经过所述匀光单元的光束进行处理，使其具有合适的照明视场和入射角度。

9.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，还包括垂向位置测量单元，所述垂向位置测量单元用于测量所述基底的垂向位置。

10.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述成像模块中的成像单元的数量以2ⁿ倍数拓展，第一光开关的数量相应以2^n-1倍数拓展，n取大于等于1的正整数，其中，当n取大于等于2的正整数时，在所述照明模块与成像模块之间增加第二光开关及反射镜，所述第二光开关的数量为2⁰+2¹+......+2^n-2，且所述第二光开关与所述反射镜的数量比为1：2。

11.根据权利要求10所述曝光装置，其特征在于，所述成像模块中的成像单元的数量拓展为四个，第一光开关的数量拓展为两个，相应的在所述照明模块与成像模块之间增加一个第二光开关及两个反射镜，所述第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的照明光通过所述两个反射镜分别反射到所述两个第一光开关，所述两个第一光开关将所述照明光通过其状态切换分为四路输出到所述四个成像单元中。

12.根据权利要求11所述曝光装置，其特征在于，所述两个第一光开关和四个成像单元的几何中心均位于同一平面内。

13.根据权利要求11所述曝光装置，其特征在于，所述两个第一光开关中的一个光开关及两个成像单元的几何中心位于第一平面内，所述两个第一光开关中的另一个光开关及另两个成像单元的几何中心位于第二平面内，所述第一平面与所述第二平面平行。

14.根据权利要求10所述曝光装置，其特征在于，所述成像模块中的成像单元的数量拓展为八个，第一光开光的数量拓展为四个，相应的在所述照明模块与成像模块之间增加三个第二光开关及六个反射镜，所述三个第二光开关中的一个第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的光通过所述六个反射镜中的两个反射镜反射到所述三个第二光开关中的另两个第二光开关上，所述另两个第二光开关将照明光通过其状态切换分为四路输出，其输出的光通过所述六个反射镜中的另四个反射镜反射到所述四个第一光开关上，所述四个第一光开关将照明光通过其状态切换分为八路输出到所述八个成像单元中。