CN103913982A

CN103913982A - 激光全息防伪图标制造方法

Info

Publication number: CN103913982A
Application number: CN201410132053.9A
Authority: CN
Inventors: 王笑冰; 李兰芳; 李建兵; 张海明
Original assignee: REFLECTIVE MATERIALS MANUFACTORY Co SZU
Current assignee: REFLECTIVE MATERIALS MANUFACTORY Co SZU
Priority date: 2014-04-02
Filing date: 2014-04-02
Publication date: 2014-07-09

Abstract

本发明提供了一种激光全息防伪图标制造方法，是同一参照物在不同状态下衍射的两相干光波进行干涉。在同一张全息照相干板上，首先让参照物在某一状态下曝光，作第一次全息记录；让参照物的状态发生改变，如前后、左右移动或作倾斜状态等，或其他技术指标作改变，如参考光的角度、使用激光器的波长等，在此状态下对参照物再次曝光，作第二次全息记录。在全息照相干板处理后用再现光照明再现，同一参照物的两束不同的物光波相干叠加，在参照物表面形成干涉条纹。本发明可在原来防伪产品的基础上增加一种防伪方法，主要是隐性的防伪方法，在增加产品的技术含量同时，却并不增加产品成本。

Description

激光全息防伪图标制造方法

技术领域

本发明涉及防伪技术领域，尤其涉及一种激光全息防伪图标制造方法。

背景技术

全息包装材料的普遍应用是目前市场广泛的应用方向，它具有特殊的防伪效果，如栩栩如生的立体效果，其分辨率高，可根据客户要求设计得美观精致，并可用于微缩文字以及其他防伪方法相结合，在许多高品质、高档次产品和易被仿制产品上大量使用，是一个规模庞大、迅速发展的市场。

现在，随着精密自动控制特别是计算机技术的发展，全息特别是模压全息的制版工艺由人工转向自动化。波兰的KineMax系统、Firefly hologram masteringunit系统等制作出来的母版美轮美奂、精美异常，生产模压全息产品的技术门槛越来越低，使现有全息产品的防伪功能弱化，造成使用此种防伪产品的假冒伪劣产品横行，可能给商家造成重大损失。申请人潜心研究，志在发明一种新型激光全息防伪图标制作方法。

发明内容

本发明解决的技术问题在于提供一种激光全息防伪图标制造方法，以提供一种可靠的隐性的防伪技术。

为了解决以上技术问题，本发明提供了一种激光全息防伪图标制造方法，其包括如下步骤：

S1、搭建光路系统，在同一全息照相干板上，让同一参照物在不同状态下分别曝光，对应进行全息记录；

S2、对全息照相干板进行湿法处理，并晾干至干板恢复原状，并用再现光照明干板；

S3、在再现光下，所记录的全息信息进行显示，同一参照物的两束不同的物光波相干叠加，在参照物表面形成干涉条纹。

优选的，在步骤S1中，所述全息照相干板上设有与激光波长相适应的记录材料，所述记录材料为重铬酸盐明胶或银盐材料。

优选的，在步骤S1中，所述光路系统包括激光光源、第一反射镜、分束镜、与分束镜分别对应的第二反射镜和第三反射镜、与第二反射镜和第三反射镜分别对应第一显微物镜和第二显微物镜。

优选的，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物在物平面的各个方向随机移动0.1um至100um，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

优选的，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物沿物平面的垂直方向随机移动0.1um至100um，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

优选的，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物随机沿X、Y或Z轴转动或倾斜0.01°至5°的角度，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

优选的，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参照物位置以及记录材料位置不变的情况下，改变参考光0.01°至5°的角度，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

优选的，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参照物位置、记录材料位置以及参考光角度不变的情况下，改变局部参考光的光程，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

优选的，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持参考光角度、参照物位置、记录材料位置不变的情况下，改变所用记录激光光波波长，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

本发明提供了一种激光全息防伪图标制造方法，是同一参照物在不同状态下衍射的两相干光波进行干涉。在同一张全息照相干板上，首先让参照物在某一状态下曝光，作第一次全息记录；让参照物的状态发生改变，如前后、左右移动或作倾斜状态等，或其他技术指标作改变，如参考光的角度、局部参考光的光程、使用激光器的波长等，在此状态下对参照物再次曝光，作第二次全息记录。在全息照相干板处理后采用再现光照明再现，同一参照物的两束不同的物光波相干叠加，在参照物表面形成干涉条纹。本发明可在原来防伪产品的基础上增加一种防伪方法，主要是隐性的防伪方法，在增加产品的技术含量同时，却并不增加产品成本。

附图说明

图1为本发明激光全息防伪图标制造方法的流程示意图；

图2为本发明进行二次曝光记录全息图的示意图；

图3为图2中全息图再现的示意图；

图4为本发明形成的干涉条纹的示意图；

图5为本发明中参考光改变角度的示意图；

图6为本发明中参考光局部改变光程的示意图；

图7为本发明中双激光记录物体的示意图；

图8为本发明中记录波长改变的示意图。

具体实施方式

本发明根据全息干涉理论，引入了一种激光全息防伪图标制造方法。请参考图1至图4，所述激光全息防伪图标制造方法包括如下步骤：

在步骤S1中，所述光路系统包括激光光源10、第一反射镜20、分束镜30、与分束镜30分别对应的第二反射镜40和第三反射镜50、与第二反射镜40和第三反射镜50分别对应第一显微物镜60和第二显微物镜70。激光从光源10射出，经第一反射镜20反射、分束镜后30分成两束。其中一束经第三反射镜50反射、第二显微物镜70扩束照到全息照相干板200上作参考光；另一束经第二反射镜40反射、第一显微物镜60扩束照到参照物300上，从参照物300上散射的光照射到全息照相干板200上作为物光。

所述全息照相干板200上设有与激光波长相适应的记录材料，所述记录材料为重铬酸盐明胶或银盐材料。所述参照物300一般为实物模型或客户所要求拍摄的其他物体，如客户的公司标志、公司名称等，也可自行设计图案供用户选择。

本发明针对步骤S1，可以有多种不同的实施例来实现，下面将结合附图以及各种实施例来对本发明的步骤S1作进一步详细说明。

实施例一：

在步骤S1中，搭建如图2的光路系统，在暗室情况下，在同一全息照相干板200上，光路系统对参照物300进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物300在物平面的各个方向随机移动0.1um至100um，所述光路系统对参照物300进行第二次曝光，再进行全息记录。

实施例二：

在步骤S1中，搭建如图2的光路系统，在暗室情况下，在同一全息照相干板200上，光路系统对参照物300进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物300沿物平面的垂直方向随机移动0.1um至100um，所述光路系统对参照物300进行第二次曝光，再进行全息记录。

实施例三：

在步骤S1中，搭建如图2的光路系统，在暗室情况下，在同一全息照相干板200上，光路系统对参照物300进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物300随机沿X、Y或Z轴转动或倾斜0.01°至5°的角度，所述光路系统对参照物300进行第二次曝光，再进行全息记录。

实施例四：

在步骤S1中，搭建如图2的光路系统，在暗室情况下，在同一全息照相干板上200上，光路系统对参照物300进行第一次曝光，进行全息记录；参考第一次曝光光路系统，保持激光波长、参照物300位置以及记录材料位置不变的情况下，改变参考光0.01°至5°的角度，所述光路系统对参照物300进行第二次曝光，再进行全息记录。所述参考光角度改变见图5（虚线为第二次曝光参考光方向）。

实施例五：

在步骤S1中，搭建如图2的光路系统，在暗室情况下，在同一全息照相干板上200上，光路系统对参照物300进行第一次曝光，进行全息记录；参考第一次曝光光路系统，保持激光波长、参照物300位置、记录材料位置以及参考光角度不变的情况下，改变局部参考光的光程，所述光路系统对参照物300进行第二次曝光，再进行全息记录。所述局部参考光光程改变的一个示例见图6，即在参考光局部加一相位延迟器80。

实施例六：

在步骤S1中，搭建如图7的光路系统，相比于图2，增加有一激光光源11和一分束镜31。在暗室情况下，在同一全息照相干板上200上，只使用激光光源11的光路系统对参照物300进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持参考光角度、参照物300位置、记录材料位置不变的情况下，只改变所用记录激光光波波长，即只使用激光光源10，所述光路系统对参照物300进行第二次曝光，再进行全息记录。

根据步骤S1的各实施例，对步骤S2、S3有着不同的说明：

在实施例一至三中，已经记录的全息照相干板200经显影、漂定等湿法处理及晾干后处理后采用如图3的方法观察全息照相干板200。如果记录材料没有收缩、膨胀或收缩、膨胀较小，则可以观察到清晰的参照物图像及其上的明暗相间的干涉条纹。参照物300偏离原来的状态越大，条纹间隔越小。可以根据客户要求调整参照物300的位置，提供显性（肉眼可见、对应条纹间隔较大）或隐性（使用放大镜、对应条纹间隔很小）的明暗相间干涉条纹。

在实施例四中，已经记录的全息照相干板200经显影、漂定等湿法处理及晾干后采用图3的方法观察全息照相干板200。如果记录材料没有收缩、膨胀或收缩、膨胀较小，则可以观察到清晰的参照物图像及其上的明暗相间的干涉条纹。所述参考光改变的角度越大，条纹间隔越小。可以根据客户要求调整参照物300位置，提供显性（肉眼可见、对应条纹间隔较大）或隐性（使用放大镜、对应条纹间隔很小）的明暗相间干涉条纹。

在实施例五中，光楔或平板玻璃起相位延迟作用，起相位延迟作用的相位延迟器80在这里均可使用。已经记录的全息照相干板200经显影、漂定等湿法处理及晾干后采用图3方法观察全息照相干板200。如果记录材料没有收缩、膨胀或收缩、膨胀较小，可以观察到清晰的参照物图像及其上的明暗相间的干涉条纹。条纹间隔会随相位延迟器80的相位随机变化而变化，相位延迟器80附加相位变化越大，参考光通过该相位延迟器80后等相位面变化越大，条纹间隔越小。可以根据客户要求调整参照物300位置，提供显性（肉眼可见、对应条纹间隔较大）或隐性（使用放大镜、对应条纹间隔很小）的明暗相间干涉条纹。

在实施例六中，启用两台记录用激光器，其光斑很好地捏合在一起。两激光器的波长应相差在0.1nm至10nm之间。全息照相干板200可以依次曝光，两台激光器的启用顺序可以不同，可分别先后，也可以同时曝光，这根据可视记录材料而定。已经记录的全息照相干板200经显影、漂定等湿法处理及晾干后，用图3方法、任一单束激光照明观察全息照相干板200。如果记录材料没有收缩、膨胀或收缩、膨胀较小，可以观察到清晰参照物图像及其上的明暗相间的干涉条纹。如用两束激光照明再现，会有两套干涉条纹。激光波长改变越大，干涉条纹对比度下降越明显，条纹间隔越小。可以根据客户要求调整参照物的位置，提供显性（肉眼可见、对应条纹间隔较大）或隐性（使用放大镜、对应条纹间隔很小）的明暗相间干涉条纹。

综上所述，本发明所涉及的全息干涉，是同一参照物在不同状态下衍射的两相干光波可以进行干涉。在同一张全息照相干板上，首先让参照物在某种状态下曝光，作第一次全息记录；让参照物的状态发生改变，如前后、左右移动或作倾斜状态等），或其他技术指标作改变，如参考光的角度、局部参考光的光程、使用激光器的波长等，在此状态下对参照物再次曝光，作第二次全息记录，如图2所示。对全息照相干板显影、漂定等湿法处理后及晾干后用再现光照明再现，如图3所示，同一参照物的两束不同的物光波相干叠加，结果是参照物以及其上叠加的干涉条纹可以清晰看见。本发明可在原来防伪产品的基础上增加一种防伪方法，主要是隐性的防伪方法，在增加产品的技术含量，却并不增加产品成本。

本发明针对步骤S1所述的各实施例，可以两两结合或三个及三个以上结合，所形成的干涉条纹也更加复杂。此外，使用本发明提供的方法拍摄的物体如果是一平面物体，则再现观察时，除了可以观察到原本的参照物外，附加在其上的干涉条纹基本上是平行的，或者是一族双曲线。如果拍摄的参照物是一立体模型，则其上附加的干涉条纹是物体的轮廓线，可以根据客户要求对此轮廓线做某些调整，达到防伪的目的。本发明以透射全息方式说明，亦完全适用于反射全息，并且，当记录参照物再现像趋近或位于全息记录干板表面时，不仅可以在记录时所用激光下观察到干涉条纹（记录材料有没有收缩、膨胀或收缩、膨胀较小），某些条件下在白光下亦可以观察。用激光来观察时，由于激光的单色性很好，记录时参照物位置的改变或参考光角度的改变可以较大；用白光来观察时，由于白光的谱线很宽，记录时参照物位置的改变或参考光角度的改变会受到限制。

可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其他各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims

1.一种激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，所述全息照相干板上设有与激光波长相适应的记录材料，所述记录材料为重铬酸盐明胶或银盐材料。

3.如权利要求1所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，所述光路系统包括激光光源、第一反射镜、分束镜、与分束镜分别对应的第二反射镜和第三反射镜、与第二反射镜和第三反射镜分别对应第一显微物镜和第二显微物镜。

4.如权利要求3所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物在物平面的各个方向随机移动0.1um至100um，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

5.如权利要求3所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物沿物平面的垂直方向随机移动0.1um至100um，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

6.如权利要求3所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参考光角度以及记录材料位置不变的情况下，所述参照物随机沿X、Y或Z轴转动或倾斜0.01°至5°的角度，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

7.如权利要求3所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参照物位置以及记录材料位置不变的情况下，改变参考光0.01°至5°的角度，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

8.如权利要求3所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持激光波长、参照物位置、记录材料位置以及参考光角度不变的情况下，改变局部参考光的光程，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。

9.如权利要求3所述的激光全息防伪图标制造方法，其特征在于，在步骤S1中，在同一全息照相干板上，光路系统对参照物进行第一次曝光，进行全息记录；采用所述第一次曝光光路系统，保持参考光角度、参照物位置、记录材料位置不变的情况下，改变所用记录激光光波波长，所述光路系统对参照物进行第二次曝光，再进行全息记录。