CN103905736A - 自动曝光控制的实现方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种自动曝光控制的实现方法,其包括:将控制电离室曝光量的输出电压依次经过模拟开关电路、采样保持电路和A/D电路后输入控制器;由控制器将输入电压与基准曝光电压经D/A电路输出并由比较电路进行比较,当两者数值相等时,中止曝光以实现AEC反馈回路的控制。其中,控制器采用FPGA芯片实现。本发明运用FPGA实现数字积分,控制曝光量的电压Vi转化的数字量与FPGA内部设置基准值经D/A芯片输出并进行比较,当两者数值相等时,截止逆变高压,中止曝光,实现AEC反馈回路的控制。
Description
技术领域
本发明涉及一种曝光控制技术,尤其是涉及一种用于X射线传感器的自动曝光控制的实现方法。
背景技术
自动曝光控制(Automatic Exposure Control,AEC)是利用X射线传感器(电离室)探测穿过被照肢体到达胶片的射线量,从而控制X线机曝光时间,可以使对不同部位、不同病人所拍摄的X线照片具有相同的感光量,彻底解决自动洗片机冲洗不同照片感光量不一致的问题。
针对AEC技术中由模拟电路实现积分运算需要清零、保持,如果处理不好,容易出现同样的AEC条件曝光产生不同的积分电压,束光器关闭曝光产生AEC电压等不正常现象,并且模拟积分电路存在零点漂移、非线性误差和电容泄露等问题。
发明内容
为克服现有技术的缺陷,本发明提出一种自动曝光控制的实现方法。
本发明采用如下技术方案实现:一种自动曝光控制的实现方法,其包括:
将控制电离室曝光量的输出电压依次经过模拟开关电路、采样保持电路和A/D电路后输入控制器;
由控制器将输入电压与基准曝光电压经D/A电路输出并由比较电路进行比较,当两者数值相等时,中止曝光以实现AEC反馈回路的控制。
其中,控制器采用FPGA芯片实现。
其中,电离室的输出电压通过一个分离电路降压处理后传送至A/D电路。
其中,当电离室有输出电压时,由控制器向A/D电路传送控制信号,使A/D电路将电离室的输出电压转化为8位的数字信号并送到控制器的输入端。
其中,A/D电路使用过零点检测的方法对采样周期进行自适应调整。
其中,首先采集100个数据,计算其平均值,作为输出电压的平均值的估计值;再采样100个数据,由比较电路与输出电压的平均值的估计值进行比较,计算过零点的数量并统计;根据此数量,调整采样周期,当此数量大于20个时,令采样周期为1ms,当此数量不大于10时,令采样周期为5ms,其他令采样周期为2ms。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:
本发明运用FPGA实现数字积分,控制曝光量的电压Vi转化的数字量与FPGA内部设置基准值经D/A芯片输出并进行比较,当两者数值相等时,截止逆变高压,中止曝光,实现AEC反馈回路的控制。
附图说明
图1是本发明的系统框图;
图2是模拟开关电路的电路示意图;
图3是采样保持电路的电路示意图;
图4是D/A电路及比较电路的示意图。
具体实施方式
本发明运用FPGA实现数字积分,将控制电离室曝光量的输出电压Vi转化成数字量与FPGA内部设置基准曝光电压值经D/A电路输出并进行比较,当两者数值相等时,截止逆变高压,中止曝光,实现AEC反馈回路的控制。
如图1所示,本发明包括:用于输出一电压Vi至X射线传感器(电离室)的电压输入电路,由电压Vi控制电离室的曝光量;电压Vi经过滤波电路后传送至电压转换电路,并依次经过模拟开关电路、采样保持电路、A/D电路后传送至控制器,控制器的输出信号经过D/A电路、滤波电路后传送至比较电路。
其中,模拟开关电路采用CD4051芯片,见图2所示。采样保持电路采用LF398芯片和74HC74芯片,见图3所示。非门芯片采用74HC14D芯片,A/D电路采用12位的AD7933芯片,控制器采用型号是EP2C5T144的FPGA芯片,D/A电路采用AD5343芯片,比较电路采用LM339芯片,如图4所示。
CD4051芯片是单8通道数字控制模拟开关电路,有三个二进制控制输入端A、B、C和INH输入,具有低导通阻抗和截止漏电流。当INH输入端=“1”时,所有的通道截止,三位二进制信号选通8通道中的一通道,可连接该输入端至输出。
由于电离室输出电压为0~10V,而A/D电路采样的AD7933芯片的输入电压为0~5V,因此中间须经过一分压电路将电离室输出电压降半,保证AD7933芯片的输入电压要求。
由于AD7933芯片所使用的数字量输出为8位,数字量化范围为0~255,当输入电压为满量程5V时,转换电路对输入电压的分辨能力u为:
u=5/255≈0.0196
如输入电压为2V,则十六进制数字量为:0x66。
本发明的工作过程:FPGA芯片EP2C5T144对AD7933进行初始化,当电离室有输出电压Vi时,由FPGA芯片向AD7933芯片传送控制信号控制字,使其对输入的模拟信号(电压Vi)即进行转化,变为8位的数字信号并送到FPGA芯片的输入端。
为协调好数据精度和系统负担两者之间的关系,对于叠加周期信号的输入电压Vi,规定单个周期的数据采集不少于8个点,因此要对AD7933芯片的采样周期进行自适应调整,这里使用过零点检测的方法,如果叠加信号的周期在0~25Hz范围内,采样周期为5ms;叠加信号周期在25Hz~50Hz时,采样周期为2ms;叠加信号在50~100Hz,采样周期为1ms。
设采样周期的初始值为2ms,采样数为100个点,则有:首先采集100个数据,计算平均值,作为输出电压Vi的平均值的估计值;再采样100个数据,由比较电路与输出电压Vi的平均值的估计值进行比较,计算过零点的数量并统计;根据此数量,调整采样周期,当此数量大于20个时,令采样周期为1ms,当此数量不大于10时,令采样周期为5ms,其他令采样周期为2ms。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种自动曝光控制的实现方法,其特征在于,包括:
将控制电离室曝光量的输出电压依次经过模拟开关电路、采样保持电路和A/D电路后输入控制器;
由控制器将输入电压与基准曝光电压经D/A电路输出并由比较电路进行比较,当两者数值相等时,中止曝光以实现AEC反馈回路的控制。
2.根据权利要求1所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,控制器采用FPGA芯片实现。
3.根据权利要求1所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,电离室的输出电压通过一个分离电路降压处理后传送至A/D电路。
4.根据权利要求1所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,当电离室有输出电压时,由控制器向A/D电路传送控制信号,使A/D电路将电离室的输出电压转化为8位的数字信号并送到控制器的输入端。
5.根据权利要求1所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,A/D电路使用过零点检测的方法对采样周期进行自适应调整。
6.根据权利要求5所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,首先采集100个数据,计算其平均值,作为输出电压的平均值的估计值;再采样100个数据,由比较电路与输出电压的平均值的估计值进行比较,计算过零点的数量并统计;根据此数量,调整采样周期,当此数量大于20个时,令采样周期为1ms,当此数量不大于10时,令采样周期为5ms,其他令采样周期为2ms。
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