CN103904538B - 激光器 - Google Patents

激光器 Download PDF

Info

Publication number
CN103904538B
CN103904538B CN201210573098.0A CN201210573098A CN103904538B CN 103904538 B CN103904538 B CN 103904538B CN 201210573098 A CN201210573098 A CN 201210573098A CN 103904538 B CN103904538 B CN 103904538B
Authority
CN
China
Prior art keywords
bulge loop
laser
boss
total reflective
reflective mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201210573098.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103904538A (zh
Inventor
朱钧
朱景雷
李群庆
姜开利
冯辰
金国藩
范守善
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tsinghua University
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Original Assignee
Tsinghua University
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tsinghua University, Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd filed Critical Tsinghua University
Priority to CN201210573098.0A priority Critical patent/CN103904538B/zh
Priority to US14/137,236 priority patent/US9160134B2/en
Publication of CN103904538A publication Critical patent/CN103904538A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103904538B publication Critical patent/CN103904538B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
    • H01S3/08068—Holes; Stepped surface; Special cross-section
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22—Gases
    • H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/2232—Carbon dioxide (CO2) or monoxide [CO]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

本发明涉及一种激光器，其包括一全反镜、一输出镜、一放电管和一工作介质。所述全反镜和输出镜分别设置于所述放电管的两端，由所述全反镜、输出镜和放电管组成一谐振腔，所述工作介质填充于所述谐振腔内。所述全反镜具有一反射面，所述反射面上设置有微结构。所述微结构包括至少一个凸环。所述凸环的高度及宽度均在0.5λ~2λ之间，其中，λ为所述激光器的工作波长。

Description

激光器
技术领域
本发明涉及一种激光器。
背景技术
目前，各类激光器已广泛应用于军事、民用和科学研究等领域。然而，由于大多数激光器（特别是高功率激光器）产生的模式是多模，其光束发散角大，光束中心的光强并不非常明显地高于光束边缘的光强，光束的稳定性也较差。采取“小孔光阑”限模法、“软边光阑”选模法等虽可得到基横模，却又使激光的功率大大下降，效率很低，效果并不理想。
通过在激光器的谐振腔内设置特定厚度的相位片，利用光束相干叠加的原理，可以获得光束发散角较小、光强强度较大的激光束。然而，该种激光器仍存在着某些不足之处，如激光束的中心光斑的尺寸还不够小，功率密度尤其是中心功率密度不够大，远距离传输时损耗较高等。
发明内容
有鉴于此，确有必要提供一种能够获得具有较小光束发散角、较长焦深、较高功率密度、远距离传输时较小损耗的激光束的激光器。
本发明提供一种激光器，其包括一全反镜、一输出镜、一放电管和一工作介质，其中，所述全反镜和输出镜分别设置于所述放电管的两端，由所述全反镜、输出镜和放电管组成一谐振腔，所述工作介质填充于所述谐振腔内，所述全反镜具有一反射面，所述反射面上设置有微结构，所述微结构包括至少一个凸环。
进一步地，所述微结构包括多个同心且间隔设置的凸环。
进一步地，所述微结构包括一个凸台及至少一个与所述凸台同心且间隔设置的凸环。
进一步地，所述微结构包括一个凸台及多个与所述凸台同心且间隔设置的凸环。
进一步地，所述凸环的高度及宽度均在0.5λ~2λ之间；所述凸台的高度及直径均在0.5λ~2λ之间；任意两个相邻的所述凸环之间的间距均在0.5λ~2λ之间；其中，λ为所述激光器的工作波长。
与现有技术相比，本发明至少具有以下优点：第一，利用本发明的激光器获得的激光束，其光斑直径非常小，达到微米级；第二，利用本发明的激光器获得的激光束，其功率密度大，尤其是其中心功率密度大,因此可广泛应用于切割、焊接等工业加工中；第三，利用本发明的激光器获得的激光束，其具有很长的焦深，因此在远距离传输时损耗较小。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的激光器的结构示意图。
图2为本发明实施例一提供的激光器中的全反镜的结构示意图。
图3为本发明实施例一提供的激光器中的全反镜的平面示意图。
图4为本发明实施例二提供的激光器的结构示意图。
图5为本发明实施例二提供的激光器中的全反镜的平面示意图。
图6为本发明实施例三提供的激光器的结构示意图。
图7为本发明实施例三提供的激光器中的全反镜的平面示意图。
图8为本发明实施例四提供的激光器的结构示意图。
图9为本发明实施例四提供的激光器中的全反镜的平面示意图。
主要元件符号说明
激光器 10，20，30，40
全反镜 102，202，302，402
反射面 1021，2021，3021，4021
本体 1020，2020，3020，4020
金属膜 1022，2022，3022，4022
输出镜 104，204，304，404
放电管 106，206，306，406
工作介质 108，208，308，408
谐振腔 110，210，310，410
微结构 112，212，312，412
凸环 1120，2120，3120，4120
凸台 3122，4122
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
下面将结合附图及具体实施例，对本发明提供的激光器做进一步的详细说明。
实施例一
请一并参见图1、图2和图3，本发明实施例提供一种激光器10，其包括一全反镜102、一输出镜104、一放电管106和一工作介质108。其中，所述全反镜102和输出镜104分别设置于所述放电管106的两端。由所述全反镜102、输出镜104和放电管106组成一谐振腔110。所述工作介质108填充于所述谐振腔110内。所述全反镜102具有一反射面1021，所述反射面1021上设置有微结构112。述反射面1021设置在所述全反镜102靠近所述输出镜104的表面。所述微结构112为一凸环1120。本发明中所述的凸环1120，是指一向远离所述反射面1021方向凸起的环状结构，其具有一高度及一宽度。
进一步地，所述激光器10还可包括水冷套、冷却水进口、冷却水出口、贮气套、连气管以及电极等多个元件（图未示）。由于上述多个元件在本发明提供的激光器10中的结构及位置关系等与其在现有技术的激光器中的结构及位置关系等均相同，故不再在此赘述。
所述全反镜102为一球面反射镜，其曲率半径大于等于0.5米且小于等于5米。优选地，本发明实施例中，所述全反镜102的曲率半径为1.5米。
所述全反镜102包括一本体1020及位于该本体1020表面的金属膜1022。所述金属膜1022可通过电镀、蒸镀、溅射、喷涂或沉积等方式形成于所述本体1020表面。所述本体1020的材料可选择不易受热变形的非金属材料，如硅、二氧化硅或碳化硅等。本发明实施例中，优选硅作为所述本体1020的材料。所述本体1020的直径可选在5毫米至50毫米之间。本发明实施例中，所述本体1020的直径为20毫米。所述本体1020的厚度可选在2毫米至20毫米之间。本发明实施例中，该本体1020的厚度为5毫米。所述金属膜1022的材料可选择熔点较高、不易氧化且可形成表面等离子体的金属，如金、铂或钯等。本发明实施例中，优选金作为所述金属膜1022的材料。所述金属膜1022的厚度大于其趋肤深度。优选地，所述金属膜1022的厚度大于等于50纳米。
所述微结构112靠近所述全反镜102的反射面1021的中心设置。所述微结构112的材料可与所述金属膜1022的材料相同，通过电镀、蒸镀、溅射、喷涂或沉积等方法与所述金属膜1022一体成型制备；或者，所述微结构112的材料可与所述本体1020的材料相同，通过与所述本体1020一体成型制备，而所述金属膜1022形成于所述本体1020和微结构112的表面。所述凸环1120的形状不限。本发明实施例中，所述凸环1120为一圆环。
所述凸环1120的高度与该激光器10的工作波长有关。具体地，所述凸环1120的高度在0.5λ~2λ之间，其中，λ为所述激光器10的工作波长。所述激光器10的工作波长与所述工作介质108的选择有关。优选地，所述凸环1120的高度为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质108为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该凸环1120的高度可选在0.5微米至21.2微米之间。优选地，该凸环1120的高度为5.3微米。
所述凸环1120的外径及内径大小均不限，只要保证其外径与内径大小的差值（即该凸环的宽度）在0.5λ~2λ之间即可。优选地，该凸环1120的宽度为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质108为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该凸环1120的宽度可选在5.3微米至21.2微米之间。优选地，该凸环1120的宽度为5.3微米。
所述凸环1120位于所述全反镜102的的反射面1021的中心。所述凸环1120形成于所述全反镜102的反射面1021上的方法不限。如，可通过光刻结合电镀的方法将所述凸环1120形成于所述反射面1021上。
所述输出镜104为一平面输出镜。所述输出镜104的直径可与所述全反镜102的本体1020的直径相同。本发明实施例中，该输出镜104的直径为20毫米。所述输出镜104对光具有一定的反射率。该输出镜104的反射率在25%至55%之间。所述输出镜104的材料可选择锗、硒化锌及砷化镓中的一种。本实施例中，所述输出镜104的材料为硒化锌。
所述放电管106为一石英玻璃管。该放电管106的直径小于所述输出镜104的直径，具体地，所述放电管106的直径在2毫米至10毫米之间。优选地，该放电管106的直径在5毫米至6毫米之间。本发明实施例中，该放电管106的直径为5毫米。
所述谐振腔110的腔长在400毫米至800毫米之间。优选地，所述谐振腔110的腔长为500毫米至600毫米之间。本发明实施例中，所述谐振腔110的腔长为600毫米。
所述工作介质108可以为气体，如二氧化碳、氦气、氖气、氮气或一氧化碳；所述工作介质108也可以为固体、液体或半导体。本发明实施例中，所述工作介质108为二氧化碳。
实施例二
请一并参见图4和图5，本发明实施例提供一种激光器20，其包括一全反镜202、一输出镜204、一放电管206和一工作介质208。其中，所述全反镜202和输出镜204分别设置于所述放电管206的两端。由所述全反镜202、输出镜204和放电管206组成一谐振腔210。所述工作介质208填充于所述谐振腔210内。所述全反镜202具有一反射面2021，所述反射面2021上设置有微结构212。述反射面2021设置在所述全反镜202靠近所述输出镜204的表面。所述微结构212包括多个同心且间隔设置的凸环2120。
本实施例二与实施例一的区别在于，本实施例二中，所述微结构212包括多个同心且间隔设置的凸环2120。
所述多个凸环2120可具有不同的高度，也可具有相同的高度。所述多个凸环2120的高度与该激光器20的工作波长有关。具体地，所述多个凸环2120的高度均在0.5λ~2λ之间，其中，λ为所述激光器20的工作波长。所述激光器20的工作波长与所述工作介质208的选择有关。优选地，所述多个凸环2120的高度相同，且均为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质208为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该多个多个凸环2120的高度可选在0.5微米至21.2微米之间。优选地，该多个凸环2120的高度均为5.3微米。
所述多个凸环2120的外径及内径大小均不限，只要保证每个凸环2120的外径与内径大小的差值（即该凸环的宽度）均在均在0.5λ~2λ之间即可。优选地，该多个凸环2120的宽度均为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质208为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该多个凸环2120的宽度均可选在0.5微米至21.2微米之间。优选地，该多个凸环2120的宽度均为5.3微米。
所述多个凸环2120靠近所述全反镜202的反射面2021的中心设置。优选地，所述多个凸环2120以所述全反镜202的反射面2021的中心为圆心设置。所述多个凸环2120形成于所述全反镜202的反射面2021上的方法不限。如，可通过光刻结合电镀的方法将所述多个凸环2120形成于所述全反镜202的反射面2021上。
实施例三
请一并参见图6和图7，本发明实施例提供一种激光器30，其包括一全反镜302、一输出镜304、一放电管306和一工作介质308。其中，所述全反镜302和输出镜304分别设置于所述放电管306的两端。由所述全反镜302、输出镜304和放电管306组成一谐振腔310。所述工作介质308填充于所述谐振腔310内。所述全反镜302具有一反射面3021，所述反射面3021上设置有微结构312。述反射面3021设置在所述全反镜302靠近所述输出镜304的表面。所述微结构312包括一凸台3122及与所述凸台3122同心且间隔设置的一凸环3120。本发明中所述的凸台3122，是指一向远离所述反射面3021方向凸起的规则结构，其具有一高度及一直径。
本实施例三与实施例一的区别在于，本实施例三中，所述微结构312包括一凸台3122及与所述凸台3122同心且间隔设置的一凸环3120。
所述凸环3120的高度与该激光器30的工作波长有关。具体地，所述凸环3120的高度在0.5λ~2λ之间，其中，λ为所述激光器30的工作波长。所述激光器30的工作波长与所述工作介质308的选择有关。优选地，所述凸环3120的高度为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质308为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该凸环3120的高度可选在0.5微米至21.2微米之间。优选地，该凸环3120的高度为5.3微米。
所述凸环3120的外径及内径大小均不限，只要保证其外径与内径大小的差值（即该凸环的宽度）在0.5λ~2λ之间即可。优选地，该凸环3120的宽度为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质108为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该凸环3120的宽度可选在5.3微米至21.2微米之间。优选地，该凸环3120的宽度为5.3微米。
所述凸台3122的形状不限，可以为圆柱、圆台、棱柱或棱台等。本发明实施例中，所述凸台3120为一圆柱。
所述凸台3122的高度与该激光器30的工作波长有关。具体地，所述凸台3122的高度在0.5λ~2λ之间，其中，λ为所述激光器30的工作波长。优选地，所述凸台3122的高度为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质308为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该凸台3122的高度可选在0.5微米至21.2微米之间。优选地，该凸台3122的高度为5.3微米。更优选地，该凸台3122的高度和所述凸环3120的高度相同，均为5.3微米。
所述凸台3122的直径小于所述凸环3120的内径。且所述凸台3122的直径也在0.5λ~2λ之间。优选地，所述凸台3122的直径为0.5λ。本发明实施例中，由于所述工作介质308为二氧化碳，因此，所述凸台3122的直径优选为5.3微米。
所述凸台3122与所述凸环3120之间的间距在0.5λ~2λ之间。优选地，所述所述凸台3122与所述凸环3120之间的间距为0.5λ。本发明实施例中，优选地，所述所述凸台3122与所述凸环3120之间的间距为5.3微米。
所述凸台3122位于所述全反镜302的反射面3021的中心。所述凸环3120和所述凸台3122形成于所述全反镜302的反射面3021上的方法不限。如，可通过光刻结合电镀的方法将所述凸环3120和所述凸台3122形成于所述全反镜302的反射面3021上。
实施例四
请一并参见图8和图9，本发明实施例提供一种激光器40，其包括一全反镜402、一输出镜404、一放电管406和一工作介质408。其中，所述全反镜402和输出镜404分别设置于所述放电管406的两端。由所述全反镜402、输出镜404和放电管406组成一谐振腔410。所述工作介质408填充于所述谐振腔410内，所述全反镜402具有一反射面4021，所述反射面4021上设置有微结构412。述反射面4021设置在所述全反镜402靠近所述输出镜404的表面。所述微结构412包括一凸台4122及多个与所述凸台4122同心且间隔设置的凸环4120。
本实施例四与实施例一的区别在于，本实施例三中，所述微结构412包括一凸台4122及多个与所述凸台4122同心且间隔设置的凸环4120。
所述凸台4122的高度及直径均与实施例三中的凸台3122的高度及直径相同。
所述凸台4122与相邻的所述凸环4120之间的间距在0.5λ~2λ之间。优选地，所述凸台4122与相邻的所述凸环4120之间的间距为0.5λ。本发明实施例中，优选地，所述凸台4122与相邻的所述凸环4120之间的间距为5.3微米。
所述多个凸环4120可具有不同的高度，也可具有相同的高度。所述多个凸环4120的高度与该激光器40的工作波长有关。具体地，所述多个凸环4120的深度均在0.5λ~2λ之间，其中，λ为所述激光器40的工作波长。所述激光器40的工作波长与所述工作介质408的选择有关。优选地，所述多个凸环4120的深度相同，且均为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质408为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该多个凸环4120的深度可选在0.5微米至21.2微米之间。优选地，该多个凸环4120的深度均为5.3微米。
所述多个凸环4120的外径及内径大小均不限，只要保证每个凸环4120的外径与内径大小的差值（即该凹环的宽度）均在0.5λ~2λ之间即可。优选地，该凸环4120的宽度均为0.5λ。本发明实施例中，所述工作介质408为二氧化碳，其工作波长为10.6微米，因此，该多个凸环4120的宽度均可选在0.5微米至21.2微米之间。优选地，该多个凸环4120的宽度均为5.3微米。
任意两个相邻的所述凸环4120之间的间距可以相等，也可以不相等。任意两个相邻的所述凸环4120之间的间距均在0.5λ~2λ之间。优选地，任意两个相邻的所述凸环4120之间的间距相等，且均为0.5λ。本发明实施例中，优选地，任意两个相邻的所述凸环4120之间的间距均为5.3微米。
所述多个凸环4120与所述凸台4122同心设置于所述全反镜402的反射面4021上。优选地，所述凸台4122位于所述全反镜402的反射面4021的中心。
本发明实施例四的全反镜402的反射面4021上设置了一凸台4122及多个与所述凸台4122同心且间隔设置的凸环4120，与实施例一、二和三相比，其在谐振腔410内产生的表面等离子体共振效应更加明显，因此，所述激光器40可获得质量更好的输出光束。
本发明通过在激光器的全反镜上设计不同凸环结构的微结构，并配合激光器内工作介质的种类设计微结构的特定尺寸，从而在激光器工作时，在其谐振腔内产生了很强的表面等离子体共振效应，进而增强了所获得的激光束的质量。
与现有技术相比，本发明至少具有以下优点：第一，利用本发明的激光器获得的激光束，其光斑直径非常小，达到微米级；第二，利用本发明的激光器获得的激光束，其功率密度大，尤其是其中心功率密度大,因此可广泛应用于切割、焊接等工业加工中；第三，利用本发明的激光器获得的激光束，其具有很长的焦深，因此在远距离传输时损耗较小。
另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其他变化，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围内。

Claims (21)

1.一种激光器，其包括一全反镜、一输出镜、一放电管和一工作介质，所述全反镜和输出镜分别设置于所述放电管的两端，所述全反镜、输出镜和放电管组成一谐振腔，所述工作介质填充于所述谐振腔内，其特征在于，所述输出镜为一平面输出镜，所述全反镜具有一反射面，所述反射面上设置有微结构，所述微结构包括至少一凸环，所述凸环的高度及宽度均在0.5λ～2λ之间，其中，λ为所述激光器的工作波长。
2.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述凸环的高度及宽度均为0.5λ。
3.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述微结构包括多个同心且间隔设置的凸环。
4.如权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述多个凸环具有相同的高度。
5.如权利要求3所述的激光器，其特征在于，所述多个凸环具有相同的宽度。
6.如权利要求3所述的激光器，其特征在于，任意两个相邻的所述凸环之间的间距在0.5λ～2λ之间。
7.如权利要求3所述的激光器，其特征在于，任意两个相邻的所述凸环之间的间距均为0.5λ。
8.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述微结构进一步包括一凸台，该凸台与所述至少一凸环同心且间隔设置。
9.如权利要求8所述的激光器，其特征在于，所述凸台位于所述反射面的中心。
10.如权利要求8所述的激光器，其特征在于，所述凸台的高度及直径均在0.5λ～2λ之间。
11.如权利要求8所述的激光器，其特征在于，所述凸台与所述至少一凸环具有相同的高度。
12.如权利要求11所述的激光器，其特征在于，所述凸台与所述至少一凸环的高度均为0.5λ。
13.如权利要求8所述的激光器，其特征在于，所述凸台的直径与所述至少一凸环的宽度相等。
14.如权利要求13所述的激光器，其特征在于，所述凸台的直径与所述至少一凸环的高度均为0.5λ。
15.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述凸环的形状为圆环。
16.如权利要求8所述的激光器，其特征在于，所述凸台的形状为圆柱。
17.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述微结构的材料为金、铂和钯中的一种。
18.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述反射面设置在所述全反镜靠近所述输出镜的表面。
19.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述全反镜包括一本体和位于该本体上的一金属膜。
20.如权利要求19所述的激光器，其特征在于，所述本体的材料为硅、二氧化硅和碳化硅中的一种，所述金属膜的材料为金、铂和钯中的一种。
21.如权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述工作介质为二氧化碳、氦气、氖气、氮气和一氧化碳中的一种。
CN201210573098.0A 2012-12-26 2012-12-26 激光器 Active CN103904538B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210573098.0A CN103904538B (zh) 2012-12-26 2012-12-26 激光器
US14/137,236 US9160134B2 (en) 2012-12-26 2013-12-20 Laser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210573098.0A CN103904538B (zh) 2012-12-26 2012-12-26 激光器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103904538A CN103904538A (zh) 2014-07-02
CN103904538B true CN103904538B (zh) 2017-06-06

Family

ID=50974618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210573098.0A Active CN103904538B (zh) 2012-12-26 2012-12-26 激光器

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9160134B2 (zh)
CN (1) CN103904538B (zh)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3764783D1 (de) * 1986-12-08 1990-10-11 Mitsubishi Electric Corp Laserapparat.
US5151917A (en) * 1991-04-18 1992-09-29 Coherent, Inc. Laser resonators employing diffractive optical elements
US5210768A (en) * 1992-02-21 1993-05-11 Seguin Herb J J Multi-slab solid state laser system
JP2980788B2 (ja) * 1992-10-21 1999-11-22 三菱電機株式会社 レーザ装置
CN2310405Y (zh) * 1997-08-22 1999-03-10 杭州大学 带有突变反射率反射镜的激光谐振腔
US6263007B1 (en) * 1998-03-23 2001-07-17 T & S Team Incorporated Pulsed discharge gas laser having non-integral supply reservoir
CN100405678C (zh) * 2006-03-15 2008-07-23 华中科技大学 直角圆台内侧面与直角圆锥外侧面组合全反镜激光谐振腔
CN1889312A (zh) * 2006-07-19 2007-01-03 中国科学院等离子体物理研究所 大功率连续波dcn激光器
CN100486063C (zh) * 2006-09-22 2009-05-06 华中科技大学 高功率脉冲激光器抗失调谐振腔
JP5521478B2 (ja) * 2008-10-22 2014-06-11 日亜化学工業株式会社 窒化物半導体発光素子の製造方法及び窒化物半導体発光素子

Also Published As

Publication number Publication date
US9160134B2 (en) 2015-10-13
US20140177666A1 (en) 2014-06-26
CN103904538A (zh) 2014-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106684687B (zh) 一种碟片固体激光放大器
CN104852257A (zh) 一种大口径激光液冷镜构型
JP2004349701A (ja) ダイオードポンプ固体ディスクレーザおよび均一なレーザ利得を生成する方法
Xie et al. Nonlocal metasurface for acoustic focusing
CN108028511B (zh) 二维光子晶体面发射激光器
CN113381277B (zh) 手性超材料的圆偏振激光器
CN102664338A (zh) 多波长晶体拉曼介质频移器
CN102175429A (zh) 一种激光器热焦距的测量方法
CN103904538B (zh) 激光器
CN103904539B (zh) 激光器
CN103904536B (zh) 激光器
CN101262114B (zh) 一种环形凹面反射镜激光谐振腔
CN100570756C (zh) 一种金属膜及其制造方法
Chen et al. Acoustic energy output and coupling effect of a pair of thermoacoustic lasers
CN201689214U (zh) 一种激光功率合成器及采用该合成器的高功率激光器
CN103904537B (zh) 激光器
CN104483738B (zh) 一种磨锥光纤结合套管的亚波长聚焦结构
CN103848392B (zh) 一种微结构周期可控的大面积黑硅的制造方法
US6392791B1 (en) Optical system and method for performing a defined function on an optical beam having at least one of a minimized volume or reduced operating temperature
JP2014517504A (ja) 光学素子における熱制御用デバイス及び関連する熱制御方法
CN103904540B (zh) 激光器
CN112397982B (zh) 一种基于超低温粒子数调控机制的双波长中红外激光器
CN106785852A (zh) 高功率激光器中谐振腔的偏振选择性镜片
CN206451974U (zh) 高功率激光器中谐振腔的偏振选择性镜片
CN114966916A (zh) 一种偏振无关的超分辨超构透镜及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant