CN103850030A - 大有光双色双抗双面料及其生产方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种大有光双色双抗双面料及其生产方法,所述大有光双色双抗双面料由100D/36F的平针线圈和单色的150D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈和单色的150D/85F大有光丝的拉长沉降弧的毛圈线圈经过纬编依次串套而成,先将平针线圈层和拉长沉降弧的毛圈线圈层经过纬编依次串套成面料,将面料浸入染料中进行染色,然后将面料烘干,将面料的上下面均进行拉毛、刷毛、剪毛、摇粒和定型处理,在最后一道定型处理时采用一浸一轧法,浸轧时加入保暖剂,带液率为80%,将面料在130℃的高温下烘干,在150℃的高温下焙烘2分钟附着保暖剂,本发明经过后整理,保暖性增加,增加了衣物的舒适性。
Description
技术领域
本发明涉及纺织领域,尤其是一种大有光双色双抗双面料及其生产方法。
背景技术
随着人们生活水平的提高,人们对穿着的服装也提出了更高的要求,现有的面料由涤纶纱线经过十字编织法编织而成,保暖性差,穿在身上也不美观舒适。
发明内容
本发明针对上述的不足提供了一种大有光双色双抗双面料及其生产方法。
本发明为实现这一目的,所采用的方法是:一种大有光双色双抗双面料,所述大有光双色双抗双面料由100D/36F的平针线圈和单色的150D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈和单色的150D/85F大有光丝的拉长沉降弧的毛圈线圈经过纬编依次串套而成,所述大有光双色双抗双面料上附着有保暖剂。
一种大有光双色双抗双面料的生产方法,步骤如下:
将平针线圈层和拉长沉降弧的毛圈线圈层经过纬编依次串套成面料;
将面料浸入染料中进行染色,然后将面料烘干;
将面料的上下面均进行拉毛、刷毛、剪毛、摇粒和定型处理;
在最后一道定型处理时采用一浸一轧法,浸轧时加入保暖剂,带液率为80%,将面料在130℃的高温下烘干,在150℃的高温下焙烘2分钟附着保暖剂。
本发明的有益效果是:该面料经过拉毛、刷毛、剪毛、摇粒和定型处理,然后浸入药剂,使得面料舒适柔软同时具有保暖功能,穿在身上舒适得体。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
如图所示1-平针线圈、2-拉长沉降弧的毛圈线圈、3-拉长沉降弧的毛圈线圈。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。
一种大有光双色双抗双面料及其生产方法,所述大有光双色双抗双面料由100D/36F的平针线圈1和单色的150D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈2和单色的150D/85F大有光丝的拉长沉降弧的毛圈线圈3经过纬编依次串套而成,先将平针线圈层和拉长沉降弧的毛圈线圈层经过纬编依次串套成面料,将面料浸入装有阳离子染料的染缸,由于晴纶表面具有很高的负电位因此染料能很快的被晴纶所吸附,利用以上原理在面料的晴纶面上染有一种颜色,将面料的上下面均进行拉毛、刷毛、剪毛、摇粒和定型处理,在最后一道定型处理时采用一浸一轧法,浸轧时加入保暖剂,带液率为80%,将面料在130℃的高温下烘干,在150℃的高温下焙烘2分钟附着保暖剂。
实施例1
所述保暖剂为德国拓纳的HOT2药剂,使用量为3%(O.W.F)。
本发明并不局限于前述的具体实施方式。本发明扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合,以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。
Claims (2)
1.一种大有光双色双抗双面料,其特征在于:所述大有光双色双抗双面料由100D/36F的平针线圈(1)和单色的150D/144F的拉长沉降弧的毛圈线圈(2)和单色的150D/85F大有光丝的拉长沉降弧的毛圈线圈(3)经过纬编依次串套而成,所述大有光双色双抗双面料上附着有保暖剂。
2. 一种大有光双色双抗双面料的生产方法,其特征在于,所述生产步骤如下:
将平针线圈层和拉长沉降弧的毛圈线圈层经过纬编依次串套成面料;
将面料浸入染料中进行染色,然后将面料烘干;
将面料的上下面均进行拉毛、刷毛、剪毛、摇粒和定型处理;
在最后一道定型处理时采用一浸一轧法,浸轧时加入保暖剂,带液率为80%,将面料在130℃的高温下烘干,在150℃的高温下焙烘2分钟附着保暖剂。
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CN201210493732.XA CN103850030A (zh) | 2012-11-28 | 2012-11-28 | 大有光双色双抗双面料及其生产方法 |
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CN201210493732.XA Pending CN103850030A (zh) | 2012-11-28 | 2012-11-28 | 大有光双色双抗双面料及其生产方法 |
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2012
- 2012-11-28 CN CN201210493732.XA patent/CN103850030A/zh active Pending
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140611 |