CN103836960A - 一种窑炉喷嘴砖 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种窑炉喷嘴砖,它包括喷嘴砖本体,所述喷嘴砖本体的形状为长方体,在所述喷嘴砖本体包括上连接边、下连接边、左连接边和右连接边,在所述上连接边和下连接边之间的喷嘴砖本体上设有贯通圆柱孔,所述贯通圆柱孔的中心在所述喷嘴砖本体长度方向的1/3-2/5处。本发明不易剥落,耐磨,耐冲刷,使用寿命长。
Description
技术领域
本发明涉及一种砖体,具体涉及一种窑炉喷嘴砖。
背景技术
目前,市场上的窑炉喷嘴砖各种各样,但大部分使用寿命较短,不能符合实际工作需求。大多数窑炉喷嘴砖易脱落,材质易剥落,从而需要反复多次整修,给实际生产工作带来极大的不便,同时大部分窑炉喷嘴砖的耐磨性,耐冲击性较差。
发明内容
发明目的:本发明的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种高质量,不易剥落,耐磨,耐冲刷,使用寿命长的窑炉喷嘴砖。
技术方案:为了解决上述技术问题,本发明所述的一种窑炉喷嘴砖,它包括喷嘴砖本体,所述喷嘴砖本体的形状为长方体,在所述喷嘴砖本体包括上连接边、下连接边、左连接边和右连接边,在所述上连接边和下连接边之间的喷嘴砖本体上设有贯通圆柱孔,所述贯通圆柱孔的中心在所述喷嘴砖本体长度方向的1/3-2/5处。
所述喷嘴砖本体采用刚玉质自流式浇注料。
所述喷嘴砖本体的长度在250-350mm之间。
所述喷嘴砖本体的宽度在200-300mm之间。
所述喷嘴砖本体的厚度在100-150mm之间。
所述贯通圆柱孔的直径在80-100mm之间。
有益效果:本发明与现有技术相比,其显著优点是:本发明整体结构简单,尺寸规格符合要求,采用刚玉质自流式浇注料,提高了使用寿命,同时提高了产品的耐磨、耐冲刷性,产品质量较高。
附图说明
图1是本发明的平面结构示意图;
图2是本发明的侧面结构示意图。
其中:
1、喷嘴砖本体;2、2、上连接边;3、下连接边;4、左连接边;5、右连接边;6、贯通圆柱孔
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
如图1和图2所示,本发明所述的一种窑炉喷嘴砖,它包括喷嘴砖本体1,所述喷嘴砖本体1的形状为长方体,在所述喷嘴砖本体1包括上连接边2、下连接边3、左连接边4和右连接边5,在所述上连接边2和下连接边3之间的喷嘴砖本体1上设有贯通圆柱孔6,所述贯通圆柱孔6的中心在所述喷嘴砖本体1长度方向的1/3-2/5处;所述喷嘴砖本体1采用刚玉质自流式浇注料;所述喷嘴砖本体1的长度在250-350mm之间;所述喷嘴砖本体1的宽度在200-300mm之间;所述喷嘴砖本体1的厚度在100-150mm之间;所述贯通圆柱孔6的直径在80-100mm之间。本发明整体结构简单,尺寸规格符合要求,采用刚玉质自流式浇注料,提高了使用寿命,同时提高了产品的耐磨、耐冲刷性,产品质量较高。
本发明提供了一种思路及方法,具体实现该技术方案的方法和途径很多,以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围,本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。
Claims (6)
1.一种窑炉喷嘴砖,其特征在于:它包括喷嘴砖本体(1),所述喷嘴砖本体(1)的形状为长方体,在所述喷嘴砖本体(1)包括上连接边(2)、下连接边(3)、左连接边(4)和右连接边(5),在所述上连接边(2)和下连接边(3)之间的喷嘴砖本体(1)上设有贯通圆柱孔(6),所述贯通圆柱孔(6)的中心在所述喷嘴砖本体(1)长度方向的1/3-2/5处。
2.根据权利要求1所述的窑炉喷嘴砖,其特征在于:所述喷嘴砖本体(1)采用刚玉质自流式浇注料。
3.根据权利要求1所述的窑炉喷嘴砖,其特征在于:所述喷嘴砖本体(1)的长度在250-350mm之间。
4.根据权利要求1所述的窑炉喷嘴砖,其特征在于:所述喷嘴砖本体(1)的宽度在200-300mm之间。
5.根据权利要求1所述的窑炉喷嘴砖,其特征在于:所述喷嘴砖本体(1)的厚度在100-150mm之间。
6.根据权利要求1所述的窑炉喷嘴砖,其特征在于:所述贯通圆柱孔(6)的直径在80-100mm之间。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 2012-11-21 CN CN201210476100.2A patent/CN103836960A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140604 |