CN103820231A - Pu表面纳米化处理清洗剂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种PU表面纳米化处理清洗剂,按照重量百分比包括下列组成成分:非离子表面活性剂10%~20%,溶剂二甲苯5%~10%,缓蚀剂3%~6%,无机盐2%~4%,乙醇1%~3.5%和余量的去离子水,其中,所说的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基酚聚氧乙烯醚,所说的缓蚀剂为膦酸(盐)、膦羧酸、琉基苯并噻唑,所说的无机盐为碱性盐。通过上述方式,本发明PU表面纳米化处理清洗剂,主要为纳米处理PU面料提供一种不伤面料、不褪色、干净光亮的清洗剂。
Description
技术领域
本发明涉及清洗剂,特别是涉及一种PU表面纳米化处理清洗剂。
背景技术
PU合成革是用于代替PVC人造革,它的几个比PVC人造革要高,从化学结构来说,它更接近于皮质面料,但又比皮质面料经济实惠,同时它弹性高,透水透气性好,并可防水,由于PU面料优点众多,在衣物的制作中,PU面料已随处可见,而且深受人们的喜欢,但对于PU面料的清洗,人们还是感到不方便清洗,因为经常水洗,会造成PU面料的磨损,造成衣物损坏。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种PU表面纳米化处理清洗剂,本发明主要为纳米处理PU面料提供一种不伤面料、不褪色、易清洗、同时具有干净光亮的特点的清洗剂。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种PU表面纳米化处理清洗剂,按重量百分比包括下列组成成分:非离子表面活性剂10%~20%,溶剂二甲苯5%~10%,缓蚀剂3%~6%,无机盐2%~4%,乙醇1% ~ 3.5%和余量的去离子水,其中,所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基酚聚氧乙烯醚,所说的缓蚀剂为膦酸(盐)、膦羧酸、琉基苯并噻唑,所说的无机盐为碱性盐。
在本发明一个较佳实施例中,所述各成分重量百分比为:非离子表面活性剂20%,溶剂二甲苯5%%,缓蚀剂3%,无机盐4%,乙醇3.5%,去离子水64.5%。
在本发明一个较佳实施例中,所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚。
在本发明一个较佳实施例中,所述的去离子水PH值为7.5。
本发明的有益效果是:本发明提供一种PU表面纳米化处理清洗剂,主要为纳米处理PU面料提供一种不伤面料、不褪色、易清洗、同时具有干净光亮的特点的清洗剂。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例包括:
一种PU表面纳米化处理清洗剂,按重量百分比包括下列组成成分:非离子表面活性剂10%~20%,溶剂二甲苯5%~10%,缓蚀剂3%~6%,无机盐2%~4%,乙醇1% ~ 3.5%和余量的去离子水,其中,所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基酚聚氧乙烯醚,所说的缓蚀剂为膦酸(盐)、膦羧酸、琉基苯并噻唑,所说的无机盐为碱性盐。
进一步的,所述各成分重量百分比为:非离子表面活性剂20%,溶剂二甲苯5%%,缓蚀剂3%,无机盐4%,乙醇3.5%,去离子水64.5%。
进一步的,所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚。
进一步的,所述的去离子水PH值为7.5。
本发明的有益效果是:本发明提供一种PU表面纳米化处理清洗剂,主要为纳米处理PU面料提供一种不伤面料、不褪色、易清洗、同时具有干净光亮的特点的清洗剂。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种PU表面纳米化处理清洗剂,其特征在于,按重量百分比包括下列组成成分:非离子表面活性剂10%~20%,溶剂二甲苯5%~10%,缓蚀剂3%~6%,无机盐2%~4%,乙醇1% ~ 3.5%和余量的去离子水,其中,所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基酚聚氧乙烯醚,所说的缓蚀剂为膦酸(盐)、膦羧酸、琉基苯并噻唑,所说的无机盐为碱性盐。
2.根据权利要求1所述的PU表面纳米化处理清洗剂,其特征在于,所述各成分重量百分比为:非离子表面活性剂20%,溶剂二甲苯5%%,缓蚀剂3%,无机盐4%,乙醇3.5%,去离子水64.5%。
3.根据权利要求1所述的PU表面纳米化处理清洗剂,其特征在于,所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚。
4.根据权利要求1所述的PU表面纳米化处理清洗剂,其特征在于,所述的去离子水PH值为7.5。
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2014
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |