CN103773337A - 一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂 - Google Patents

一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,按照质量计,含有占3%~5%的聚丙烯酰胺、占0.3%~0.7%的预交联剂、占0.07%~0.12%的破胶剂、占0.2%~0.4%的增强剂,余量为水。本发明适合于油田开采过程中的堵漏,各项性能优异,制造成本低,制造工艺简单。

Description

一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂
技术领域
本发明涉及一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂。
背景技术
堵漏剂是一种凝结硬化快,小时强度高,具有微膨胀的水硬性材料,此原料无毒无味,经严格筛选,性能卓越,操作简便,用水调和即可使用,可在潮湿面上施工,亦可带水堵漏,效果奇特,此原料可广泛用于房屋,地下,水下,流沙隧道等工程的堵漏,止水,抢修,灌注及渗漏工程的施工和堵漏维修等。
1、首先把漏水点或漏水缝凿成垂直或嗽叭口,把杂物清理干净;
2、将快速堵漏剂放入搅拌锅内,加入一定比例的水,迅速拌合成泥膏状,冬季温度低于5摄氏度时,要用40摄氏度水搅拌;
3、把拌好的堵漏剂胶泥放在手上,感到胶泥稍微发热时,迅速顺漏水方向压下,持续一定时间才可松手,一般在10分钟之内可能把水堵住;
4、堵水后再用高分子防水砂浆抹面,表面养护三天即可;
5、对于渗水坑,可直接把快速堵漏剂干粉投入坑内,然后用脚踩住,待硬化后再松脚;
6、对于严重漏水裂缝,先在严重漏水处凿出引流孔以减缓其余处渗漏,最后堵住引流孔,然后再用高分子防水砂浆抹面。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点和不足,提供一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,该堵漏剂适合于油田开采过程中的堵漏,各项性能优异,制造成本低,制造工艺简单。
本发明的目的通过下述技术方案实现:一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,按照质量计,含有占3%~5%的聚丙烯酰胺、占0.3%~0.7%的预交联剂、占0.07%~0.12%的破胶剂、占0.2%~0.4%的增强剂,余量为水。
按照质量计,聚丙烯酰胺占4%、预交联剂占0.5%、破胶剂占0.10%、增强剂占0.3%,余量为水。
按照质量计,聚丙烯酰胺占3%、预交联剂占0.3%、破胶剂占0.07%、增强剂占0.2%,余量为水。
按照质量计,聚丙烯酰胺占5%、预交联剂占0.7%、破胶剂占0.12%、增强剂占0.4%,余量为水。
综上所述,本发明的有益效果是:适合于油田开采过程中的堵漏,各项性能优异,制造成本低,制造工艺简单。
具体实施方式
下面结合实施例,对本发明作进一步的详细说明,但本发明的实施方式不仅限于此。
实施例1:
本实施例涉及的一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,按照质量计,聚丙烯酰胺占4%、预交联剂占0.5%、破胶剂占0.10%、增强剂占0.3%,余量为水。
实施例2:
本实施例涉及的一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,按照质量计,聚丙烯酰胺占3%、预交联剂占0.3%、破胶剂占0.07%、增强剂占0.2%,余量为水。
本实施例涉及的一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,按照质量计,聚丙烯酰胺占5%、预交联剂占0.7%、破胶剂占0.12%、增强剂占0.4%,余量为水。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明做任何形式上的限制,凡是依据本发明的技术实质,对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化,均落入本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,其特征在于,按照质量计,含有占3%~5%的聚丙烯酰胺、占0.3%~0.7%的预交联剂、占0.07%~0.12%的破胶剂、占0.2%~0.4%的增强剂,余量为水。
2.根据权利要求1所述的一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,其特征在于,按照质量计,聚丙烯酰胺占4%、预交联剂占0.5%、破胶剂占0.10%、增强剂占0.3%,余量为水。
3.根据权利要求1所述的一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,其特征在于,按照质量计,聚丙烯酰胺占3%、预交联剂占0.3%、破胶剂占0.07%、增强剂占0.2%,余量为水。
4.根据权利要求1所述的一种应用于岩层堵漏处理的堵漏剂,其特征在于,按照质量计,聚丙烯酰胺占5%、预交联剂占0.7%、破胶剂占0.12%、增强剂占0.4%,余量为水。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105016651A (zh) * 2015-07-14 2015-11-04 桂林市和鑫防水装饰材料有限公司 一种可控膨胀堵漏剂

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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20140507