CN103748654B - 永久磁铁透镜阵列 - Google Patents

永久磁铁透镜阵列 Download PDF

Info

Publication number
CN103748654B
CN103748654B CN201280040633.4A CN201280040633A CN103748654B CN 103748654 B CN103748654 B CN 103748654B CN 201280040633 A CN201280040633 A CN 201280040633A CN 103748654 B CN103748654 B CN 103748654B
Authority
CN
China
Prior art keywords
lens
magnetic
permanent
volume
soft magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201280040633.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103748654A (zh
Inventor
克里斯多夫·西尔斯
迈赫兰·纳赛尔-古德西
哈什亚·沙德曼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KLA Corp
Original Assignee
KLA Tencor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KLA Tencor Corp filed Critical KLA Tencor Corp
Publication of CN103748654A publication Critical patent/CN103748654A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103748654B publication Critical patent/CN103748654B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/14—Lenses magnetic
    • H01J37/143—Permanent magnetic lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F7/00—Magnets
    • H01F7/02—Permanent magnets [PM]
    • H01F7/0273—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation
    • H01F7/0278—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation for generating uniform fields, focusing, deflecting electrically charged particles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/10—Lenses
    • H01J2237/14—Lenses magnetic
    • H01J2237/1405—Constructional details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
    • H01J2237/1534—Aberrations

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

本发明涉及一种用于带电粒子聚焦的永久磁性透镜阵列，其包含第一软磁性材料薄片，其中所述第一软磁性材料薄片包含布置成阵列图案的多个通气管锥体突出部，其中每一通气管锥体轴向对称且包含从所述第一软磁性材料薄片的第一表面通到软磁性材料的第二表面的开口及多个永久磁性元件，其中每一永久磁性元件轴向对称且与所述第一软磁性材料薄片的通气管锥体同心地布置，其中所述第一软磁性材料薄片的所述通气管锥体及所述多个永久磁性元件经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有垂直于所述软磁性材料的所述第一表面定向的轴向分量。

Description

永久磁铁透镜阵列
技术领域
本发明一股来说涉及适合于带电粒子聚焦的永久磁性透镜，且更特定来说，涉及适合于聚焦一个或一个以上带电粒子束的基于永久磁铁的磁性透镜阵列。
背景技术
常规上，将由载流线圈及相关联磁路构成的磁性透镜实施为常规带电粒子光学系统内的透镜。举例来说，已利用基于线圈的磁性透镜作为传统扫描式电子显微镜(SEM)系统内的物镜。实施于常规带电粒子光学系统中的常规磁性透镜可对实施带电粒子光学系统施加相当大的结构及设计限制。在此意义上，常规基于线圈的磁性透镜可占据带电粒子源与相关联试样表面之间的显著空间量。此外，基于载流线圈的磁性透镜在带电粒子光学系统内产生显著热量。与常规基于线圈的磁性透镜相关联的额外缺陷是难以制作实施一个或一个以上基于线圈的磁性透镜的带电粒子光学系统。因此，制作消除或减少对基于线圈的磁性透镜的需要的磁性透镜或透镜阵列是有利的。替代性不基于线圈的磁性透镜或透镜阵列的制作减少对实施带电粒子光学系统的制造、设计及操作约束。此外，简化及紧凑磁性透镜阵列设计允许在阵列式带电粒子系统(例如，阵列式SEM系统)中实施磁性透镜阵列。阵列式带电粒子系统可允许避开与常规单列带电粒子光学系统相关联的电流限制，从而提供给定试样的减少的扫描时间。
发明内容
本发明揭示一种用于带电粒子聚焦的永久磁性透镜阵列。在第一方面中，所述永久磁性透镜阵列可包含但不限于：平面体积的永久磁性材料，其中所述平面体积的永久磁性材料包含跨越所述平面体积的所述永久磁性材料的表面分布的多个透镜开口，其中所述平面体积的永久磁性材料的所述透镜开口中的每一者轴向对称且从所述平面体积的永久磁性材料的第一表面通到第二表面；及平面体积的软磁性材料，其中所述平面体积的软磁性材料包含跨越所述平面体积的所述软磁性材料的表面分布的多个透镜开口，其中所述平面体积的软磁性材料的每一透镜开口轴向对称且从所述平面体积的软磁性材料的第一表面通到第二表面，其中所述平面体积的软磁性材料可操作地耦合到所述平面体积的所述永久磁性材料的表面，使得所述平面体积的永久磁性材料的所述透镜开口的至少一部分与所述平面体积的软磁性材料的所述透镜开口的至少一部分实质上对准，其中所述平面体积的永久磁性材料及所述平面体积的软磁性材料布置成实质上平面单片式结构，其中所述体积的永久磁性材料的所述多个透镜开口及所述体积的软磁性材料的所述多个透镜开口经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有实质上垂直于所述平面体积的所述永久磁性材料的所述第一表面定向的至少一轴向分量。
在另一实施例中，所述永久磁性透镜阵列可包含额外平面体积的软磁性材料，其中所述额外平面体积的软磁性材料包含跨越所述额外平面体积的软磁性材料的表面分布的多个透镜开口，其中所述额外平面体积的软磁性材料的每一透镜开口轴向对称且从所述额外平面体积的软磁性材料的第一表面通到第二表面，其中所述额外平面体积的软磁性材料可操作地耦合到所述平面体积的所述永久磁性材料的第二表面，使得所述平面体积的永久磁性材料的所述透镜开口的至少一部分与所述平面体积的软磁性材料及所述额外平面体积的软磁性材料的所述透镜开口的至少一部分实质上对准，其中所述平面体积的永久磁性材料、所述平面体积的软磁性材料及所述额外平面体积的软磁性材料布置成实质上平面单片式结构，其中所述平面体积的永久磁性材料的所述多个透镜开口、所述平面体积的软磁性材料的所述多个透镜开口及所述额外平面体积的软磁性材料的所述多个透镜开口经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有至少一轴向分量。
在第二方面中，所述永久磁性透镜阵列可包含但不限于：平面体积的永久磁性材料，其中所述平面体积的永久磁性材料包含跨越所述平面体积的所述永久磁性材料的表面分布的多个透镜开口，其中所述平面体积的所述永久磁性材料的所述透镜开口中的每一者轴向对称且从所述平面体积的永久磁性材料的第一表面通到第二表面，其中所述体积的永久磁性材料的所述多个透镜开口经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有实质上垂直于所述平面体积的所述永久磁性材料的所述第一表面定向的至少一轴向分量。
在第三方面中，所述永久磁性透镜阵列可包含但不限于：第一软磁性材料薄片，其中所述第一软磁性材料薄片包含多个通气管锥体，每一通气管锥体从所述软磁性材料的第一表面突出，其中所述多个通气管锥体布置成阵列图案，其中每一通气管锥体轴向对称且包含从所述第一软磁性材料薄片的所述第一表面通到软磁性材料的第二表面的开口；及多个永久磁性元件，其中每一永久磁性元件轴向对称且与所述第一软磁性材料薄片的通气管锥体同心地布置，其中所述永久磁性元件中的每一者可操作地耦合到所述第一软磁性材料薄片的所述第一表面，其中所述第一软磁性材料薄片的所述多个通气管锥体及所述多个永久磁性元件经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有实质上垂直于所述软磁性材料的所述第一表面定向的至少一轴向分量。
本发明揭示一种用于聚焦一个或一个以上带电粒子束的设备。在一个方面中，永久磁性透镜阵列可包含但不限于：至少一个带电粒子源；带电粒子光学系统，其包含至少一个永久磁性透镜阵列，其中所述永久磁性透镜阵列包含多个磁性透镜，每一磁性透镜经配置以聚焦从所述至少一个带电粒子源发射的带电粒子束，其中所述磁性透镜中的每一者轴向对称；及至少一个检测器，其经配置以检测从试样的表面发射的次级电子。
应理解，上文一股描述及以下详描述明两者均仅为示范性及解释性且未必限制如所主张的本发明。并入本说明书中且构成本说明书的一部分的附图图解说明本发明的实施例，且与所述一股描述一起用于解释本发明的原理。
附图说明
所属领域的技术人员可通过参考附图来更好地理解本发明的众多优点，附图中：
图1A是根据本发明的一个实施例的两层永久磁性轴向透镜阵列的示意图。
图1B是根据本发明的一个实施例的轴向透镜阵列的单个轴向永久磁性透镜的经放大示意图。
图1C是根据本发明的一个实施例的轴向透镜阵列的单个轴向永久磁性透镜的经放大横截面图。
图1D是根据本发明的一个实施例的单层永久磁性轴向透镜阵列的示意图。
图1E是根据本发明的一个实施例的三层永久磁性轴向透镜阵列的示意图。
图2A是根据本发明的一个实施例的永久磁性通气管锥体透镜阵列的示意图。
图2B是根据本发明的一个实施例的通气管锥体透镜阵列的单个通气管锥体永久磁性透镜的经放大示意图。
图2C是根据本发明的一个实施例的通气管锥体透镜阵列的单个通气管锥体永久磁性透镜的经放大横截面图。
图2D是根据本发明的一个实施例的配备有额外顶部软磁性薄片的永久磁性通气管锥体透镜阵列的示意图。
图2E是根据本发明的一个实施例的配备有额外顶部软磁性薄片的通气管锥体透镜阵列的单个通气管锥体永久磁性透镜的经放大横截面图。
图2F是根据本发明的一个实施例的配备有额外顶部软磁性薄片的通气管锥体透镜阵列的单个通气管锥体永久磁性透镜的经放大示意图。
图3是根据本发明的一个实施例的一对同时实施的永久磁性轴向透镜阵列的横截面图。
图4是根据本发明的一个实施例的一对同时实施的永久磁性通气管锥体透镜阵列的横截面图。
图5A是带电粒子光学系统的列阵列中连同静电透镜一起操作的永久磁铁透镜阵列的框图。
图5B是在带电粒子光学系统的列阵列中连同彼此一起操作的一对永久磁铁透镜阵列的框图。
具体实施方式
应理解，上述一股描述及以下详细描述两者均仅为示范性及解释性且未必限制如所主张的本发明。并入本说明书中且构成本说明书的一部分的附图图解说明本发明的实施例，且与所述一股描述一起用于解释本发明的原理。现在将详细参考附图中所图解说明的所揭示标的物。
大体参考图1A到2F，根据本发明描述适合于聚焦带电粒子的磁性透镜阵列100及200。本发明针对于一种永久磁性透镜阵列，其经布置成使得与所述透镜阵列的每一永久磁性透镜相关联的磁通量回路围绕每一透镜局部闭合。在一个方面中，本发明的永久磁性透镜阵列可包含单片式轴向透镜阵列100，而在另一方面中，所述永久磁性透镜阵列可包含通气管锥体透镜阵列200。本文中预期，可分别利用透镜阵列100的磁性透镜102或透镜阵列200的磁性透镜202作为阵列式带电粒子光学系统(例如，阵列式SEM)的主物镜或源聚光透镜。本发明有助于消除在实施带电粒子光学系统的列区域中对磁通量旁路元件的需要，从而允许增加的列密度并消除所述带电粒子光学系统内的高电压击穿源。此外，本发明的永久磁性透镜阵列相对于基于电磁线圈的磁性透镜提供简化的制作工艺，同时也允许比传统系统更紧凑的设计。进一步预期，利用本发明的永久磁性透镜阵列的永久磁性透镜可移除与常规基于线圈的透镜的操作相关联的热源。此外，进一步认识到，本发明的磁性透镜阵列适合于在阵列式带电粒子系统(例如，阵列式SEM系统)内实施。以此方式，可利用所述磁性透镜阵列(例如，磁性透镜阵列100或200)来将阵列式带电粒子光学系统的带电粒子(例如，电子)聚焦到试样的表面上的众多“点”中。
图1A到1C图解说明根据本发明的示范性实施例的单片式轴向透镜阵列100的示意图。在一个方面中，轴向透镜阵列100包含多个磁性透镜102。在另一方面中，可通过可操作地耦合软磁性材料薄片104与永久磁性材料薄片106来形成透镜阵列100。软磁性材料薄片104及永久磁性材料薄片106两者分别包含多个透镜开口103及105。软磁性材料薄片104及永久磁性材料薄片106经布置成使得每一者的透镜开口103及105实质上对准，从而形成单片式透镜阵列100的轴向磁性透镜102。以此方式，单片式透镜阵列100的轴向磁性透镜102由从永久磁性薄片106的“前”表面通到软磁性薄片104的“后”表面的开口组成，如图1B的放大横截面图中所图解说明。
在另一方面中，单片式透镜阵列100的磁性透镜102的磁场具有至少一轴向分量。永久磁性材料薄片106可具有垂直于永久磁性薄片106的顶部表面107定向且朝向顶部表面107引导的净磁化，如图1C中所图解说明。就此来说，可磁性地耦合永久磁铁106与软磁铁104。以此方式，软磁性材料薄片104与永久磁性材料薄片106的对准在磁性透镜102中的每一者中形成磁场，所述磁场具有从永久磁铁薄片106的顶部表面107引导到软磁铁薄片104的顶部表面109的轴向分量108。所属领域的技术人员应认识到，就此来说，与透镜阵列100的每一磁性透镜102相关联的磁场线110相对于每一透镜102局部闭合，如图1C中所图解说明。此外，轴向磁性透镜阵列100的每一轴向透镜102的场线110可保持实质上被约束于永久磁性薄片106的平面内，其中在永久磁性薄片106的平面上方不存在明显场分量。
在一个实施例中，软磁性材料104(或112)的透镜开口及永久磁性材料106的透镜开口可由圆柱形形状的透镜开口组成，如图1A及1B中所描绘。因此，通过对准开口103与105而形成的所得磁性透镜102也可拥有圆柱形轮廓。申请人注意到，与挑选圆柱形形状的磁性透镜102相关的关键特征包含圆柱体的轴向对称性。如此，本文中预期，具有不同轴向对称形状的磁性透镜102也可适合于在本发明中实施。因此，磁性阵列100的磁性透镜102的圆柱形形状不应被解释为限制性，而是仅为说明性的。
现在参考图1D，其图解说明单片式透镜阵列112的替代实施例。在图1D中所描绘的替代实施例中，单片式透镜阵列112可由单个永久磁性薄片106组成。如同在图1A的透镜阵列100中，轴向透镜阵列112包含多个磁性透镜102。永久磁性材料薄片106包含分布成跨越永久磁性薄片106的表面分布的阵列样的图案的多个透镜开口。所述多个透镜开口形成单片式透镜阵列112的轴向磁性透镜102。以此方式，单片式透镜阵列112的轴向磁性透镜102可由从永久磁性薄片106的“前”表面通到永久磁性薄片106的“后”表面的开口组成。
在另一方面中，如同在图1A的双层阵列100中，单片式透镜阵列100的磁性透镜102的磁场具有沿轴向方向108引导的至少一轴向分量。此外，永久磁性材料薄片106可具有垂直于永久磁性薄片106的顶部表面107定向且朝向顶部表面107引导的净磁化。
现在参考图1E，其图解说明单片式透镜阵列114的额外替代实施例。在图1E中所描绘的替代实施例中，单片式透镜阵列114可由定位于第一永久磁性薄片106与第二永久磁性薄片116之间的单个永久磁性薄片106组成。在一个方面中，轴向透镜阵列114包含多个磁性透镜102。在另一方面中，可通过可操作地耦合第一软磁性材料薄片104与永久磁性材料薄片106的第一表面以及第二软磁性材料薄片116与永久磁性材料薄片106的第二表面来形成透镜阵列114。第一软磁性材料薄片104及第二软磁性材料薄片116以及永久磁性材料薄片106各自包含多个透镜开口。软磁性材料薄片104、116及永久磁性材料薄片106经布置成使得每一者的透镜开口实质上对准，从而形成单片式透镜阵列114的轴向磁性透镜102。以此方式，单片式透镜阵列114的轴向磁性透镜102由从第二磁性薄片116的“前”表面通到软磁性薄片104的“后”表面的开口组成，如图1E中所描绘。
在另一方面中，如同在本文中先前所描述的实施例中，单片式透镜阵列114的磁性透镜102的磁场具有至少一轴向分量。永久磁性材料薄片106可具有垂直于永久磁性薄片106的顶部表面107定向且朝向顶部表面107引导的净磁化，如图1C中所图解说明。就此来说，可磁性地耦合永久磁铁106与软磁铁104及116。以此方式，软磁性薄片104及116中的薄片与永久磁性材料薄片106的对准在磁性透镜102中的每一者中形成磁场，所述磁场具有从永久磁铁薄片106的顶部表面引导到软磁铁薄片116的顶部表面的轴向分量108。所属领域的技术人员应认识到，就此来说，与透镜阵列114的每一磁性透镜102相关联的磁场线(未展示)相对于每一透镜102局部闭合。
进一步认识到，轴向透镜阵列100的先前所描述实施例的软材料薄片104及116可用以在轴向透镜阵列100中提供结构刚性及磁场均匀性。
应认识到，在本发明通篇中所提供的与轴向透镜阵列100相关的描述性材料应解释为扩展到本发明的单层轴向透镜阵列112及三层轴向透镜阵列116。
再次参考图1A到1C，永久磁性薄片106的永久磁性材料可包含但不限于铁磁性材料，例如，稀土磁性材料。举例来说，所述永久磁性材料可包含基于钕的磁性材料。举例来说，永久磁性薄片106可由钕-铁-硼(NdFeB)化合物(例如但不限于，Nd2Fe14B)形成。举另一实例来说，所述永久磁性材料可包含基于钐的磁性材料。举例来说，永久磁性薄片106的永久磁性材料可由钐-钴(SmCo)化合物(例如但不限于，SmCo5或Sm2Co17)形成。申请人已发现，由德克斯特磁性技术公司(Dexter Magnetic Technologies)制造的钐-钴等级S2820适合于实施为本发明的永久磁性薄片106的永久磁性材料。本文中认识到，虽然基于NdFeB的永久磁性薄片106在NdFeB显示优越磁能密度的意义上是有利的，但SmCo材料通常显示比基于NdFeB的材料高的居里(Curie)温度。因此，基于NdFeB的材料具有比基于SmCo的材料低的随温度而变的去磁阈值。
此外，由于永久磁铁薄片106的永久磁性材料提供聚焦带电粒子所需的磁能，因此需要永久磁铁材料具有大的磁场。在电子的情况中，永久磁铁薄片106的永久磁性材料需要在约0.5特斯拉与1.5特斯拉之间的磁场。
进一步认识到，基于SmCo的永久磁性薄片需要制造为大于类似基于NdFeB的薄片的厚度(因为SmCo的较低磁能密度)以便得到实施本发明所需的永久磁性薄片106的磁场。
所属领域的技术人员应认识到，可通过此项技术中已知的任何适合烧结工艺来形成基于钕或钐的永久磁性材料(及其它相似永久磁性材料)薄片。在将铁磁性材料烧结成选定薄片后，可即刻使用此项技术中已知的任何磁化器而使用适合磁化工艺来磁化铁磁性材料薄片。此外，在烧结后，可即刻将铁磁性材料薄片机加工成所需形式。举例来说，在图1A中所图解说明的阵列的情况中，可将永久磁性材料的所烧结件机加工成平坦的永久磁性材料薄片。此外，可通过利用此项技术中已知的适合钻孔设备来穿过永久磁性薄片106的体积钻孔而形成图1A中所显示的开口。
本文中认识到，在本发明的背景中，可实施多种永久磁性材料。所实施的特定类型的永久磁性材料可取决于若干个因素，例如但不限于，所需居里温度、所需磁化、抗氧化性、制作限制等。
在另一实施例中，软磁铁薄片104的软磁性材料可包含但不限于磁性钢。举例来说，所述软磁性材料可包含但不限于基于铁-钴的磁性材料。举例来说，可利用铁钴钒磁性合金(vanadium permendur)(由约49.2％铁、48.8％钴、2％钒及痕量级的其它元素(硅、锰及碳)组成的铁-钴合金作为软磁性薄片104的软磁性材料。申请人已发现，由卡本特技术公司(Carpenter Technology Corporation)制造的Hiperco50A(铁钴钒磁性合金的品牌名称版本)适合于实施为软磁性薄片104中的软磁性材料。进一步认识到，Hyperco50A(及相似材料)由于其约2.4特斯拉的高磁性饱和极限而为合意的。还注意，应将与软磁铁薄片104相关联的材料考虑视为适用于本文中进一步描述的磁铁透镜阵列200的软磁铁薄片206及额外顶部磁铁薄片212。
本文中认识到，永久磁铁106及软磁铁薄片104、112的尺寸可基于磁性透镜阵列100的特定要求而变化。举例来说，上文所描述的永久磁铁薄片106及软磁铁薄片104、112可具有1mm以下的厚度。此外，轴向阵列100可具有大约数毫米的总厚度。应认识到，以上尺寸不应解释为限制性而仅为说明性的。多种表面积及厚度可适合于本发明的永久磁性薄片106及软磁铁薄片104、112。
此外，认识到，本发明的磁性透镜阵列100可包含任何数目个磁性透镜102。举例来说，磁性透镜阵列100可包含磁性透镜102的5×5阵列。在另一实例中，磁性透镜阵列100可包含磁性透镜102的10×10阵列。此外，申请人认识到，透镜阵列100的形状无需为“正方形”的。举例来说，透镜阵列100可包含透镜102的10×6阵列。甚至进一步地，尽管未展示，但认识到，透镜阵列100可包含额外阵列形状，所述额外阵列形状包含任何适合几何形状(例如，透镜102的六边形阵列图案)或几何形状组合(例如，透镜102的同心环)。
图2A到2F图解说明根据本发明的替代实施例的通气管锥体透镜阵列200的示意图。在一个方面中，通气管锥体透镜阵列200包含多个磁性透镜202。透镜阵列200的每一磁性透镜202可由软磁铁薄片204的通气管锥体突出部205、软磁性薄片204的平坦基底部分及围绕通气管锥体突出部205同心地布置的轴向对称永久磁铁元件206组成，如图2A到2C中所描绘。
在另一方面中，可通过可操作地耦合多个轴向对称永久磁铁元件206与软磁性材料薄片204来形成透镜阵列200，软磁性材料薄片204包含从软磁性薄片204的表面延伸的多个通气管锥体突出部205。以此方式，可围绕软磁性薄片204的通气管锥体突出部205同心地布置每一永久磁铁元件206，从而形成磁性阵列200的通气管锥体磁性透镜202。
参考图2A到2C，从软磁性薄片204的表面延伸的通气管锥体突出部205可具有锥体形状，其中每一突出部205包含从突出部205的顶部通到软磁性材料薄片204的相对侧的开口，如图2B的放大横截面图中所图解说明。本文中认识到，突出部205的形状并不限于锥体形状，而是可包含适合于产生给定设置中所需的磁场特性的若干个轴向对称形状。
在一些实施例中，磁性透镜202中的每一者的通气管锥体205可包含在通气管锥体205的基底处“外扩”的凹入体积。给定通气管锥体205内的外扩凹部211可用以避免来自样本试样的表面的次级电子，所述次级电子并不像原始初级电子束一样经良好准直。应进一步注意，外扩凹部211不应显著干扰给定磁性透镜202的磁性性质，因为所移除材料不携载显著磁通量(甚至当存在时)。
本文中预期，可利用通气管锥体透镜阵列200的磁性透镜202作为阵列式带电粒子光学系统的主物镜或源聚光透镜。在一个实施例中，配置为聚光透镜的透镜阵列100的透镜102可需要比经配置以作为物镜操作的透镜阵列100的透镜102大的磁场。如此，实施为聚光透镜的给定磁性透镜202的通气管锥体205的内径及外径通常可小于用作物镜的通气管锥体205的内径及外径。
进一步认识到，如本文中将进一步更详细地论述，可同时利用一对磁性透镜阵列200来形成阵列式带电粒子光学系统(例如，阵列式SEM系统)的列阵列的物镜阵列及聚光透镜阵列。
如图2C中所显示，磁性透镜阵列200的磁性透镜202中的每一者的磁场可具有至少一非零净轴向分量。透镜202的永久磁铁元件206中的每一者可具有垂直于永久磁铁元件206的顶部表面207定向且从永久磁铁元件206的顶部表面207引导到永久磁铁元件209的底部表面(或软磁性薄片的顶部表面)的净磁化。就此来说，可磁性地耦合永久磁性元件206与薄片204及锥体205的软磁性材料。以此方式，永久磁性元件206中的每一者与软磁性薄片204的通气管锥体205的同心对准在磁性透镜202中的每一者中形成具有轴向分量及横向分量两者的磁场。
所属领域的技术人员应认识到，就此来说，与透镜阵列200的每一磁性透镜202相关联的磁场线210相对于每一透镜202局部闭合，如图1C中所图解说明。相比于本文中先前所描述的轴向透镜阵列100，通气管锥体透镜阵列200的每一透镜202的场线210在永久磁性元件206中的每一者的顶表面上方延伸。在此方面中，透镜阵列200的通气管锥体透镜202可用以将带电粒子光学物件或图像平面浸没于给定透镜202的磁场210中。所属领域的技术人员应进一步认识到，通气管锥体阵列200的浸没效应是特别有利的，因为能够减小像差并改善带电粒子聚焦能力。
以类似于上文所描述的永久磁性薄片106的方式，永久磁性元件206的永久磁性材料可包含但不限于铁磁性材料，例如稀土磁性材料。本文中预期，应将与永久磁性薄片106的材料类型、磁化强度及厚度相关的上文揭示内容视为适用于本文中所描述的永久磁性元件206。如此，永久磁性元件206由NdFeB化合物(例如，Nd2Fe14B)或SmCo化合物(例如，SmCo5)形成。
再次参考图2A到2C，永久磁性元件206可具有“瓦片”形状。举例来说，如图2A中所展示，可将永久磁性元件206中的每一者成形为正方形样的瓦片。此外，图2A中所图解说明的永久磁性元件206可由具有切角的正方形瓦片组成，所述切角用以减少切削且有助于阵列200组装。此外，应认识到，可针对每一通气管锥体突出部205使用单瓦片永久磁性元件206以便最小化与制作高性能永久磁性材料的单片式件相关的质量控制问题。如此，通过利用单永久磁性元件瓦片206，可能从众多制作批次选择具有足够质量水平的磁性瓦片。此外，利用单永久磁性瓦片允许用户在已将磁性阵列200放置到操作设置中之后从所述阵列替换损坏或有缺陷的永久磁铁瓦片。
本文中认识到，永久磁性元件206可包含多种大小及形状。举例来说，可利用大的永久磁性瓦片，其中单个永久磁性瓦片与多个通气管锥体阵列重叠。在另一实例中，永久磁性瓦片可由细长平面瓦片组成，所述细长平面瓦片用以与一“行”通气管锥体突出部205重叠。
所属领域的技术人员应认识到，可通过此项技术中已知的任何适合烧结工艺来制作由基于钕或钐的永久磁性材料构成的永久磁性元件206(例如，瓦片)。在将铁磁性材料烧结成一形状后，可即刻使用此项技术中已知的任何磁化器而使用适合磁化工艺来磁化所述铁磁性材料。此外，在烧结后，可即刻将所述铁磁性材料机加工成所需形式(例如，正方形瓦片或具有切角的正方形瓦片)。举例来说，在图2A中所图解说明的阵列的情况中，可将永久磁性材料的所烧结件机加工(例如，研磨)成具有切角的正方形样瓦片。此外，可通过利用此项技术中已知的任何适合钻孔设备来穿过永久磁性元件206的体积钻孔而形成图2A中所显示的永久磁性元件206的开口。
在一个实施例中，磁性阵列200可包含永久磁性元件206的10×10阵列。应认识到，10×10阵列不是限制而仅是对本发明的图解说明且多种磁铁透镜阵列大小可为适合的。进一步认识到，可利用额外周界永久磁性元件206以便限制与透镜阵列200的磁性透镜202相关联的磁场的边缘。所述阵列内的磁场的边缘可产生大的横向磁场，所述大的横向磁场可导致与阵列200的外部透镜相关联的点大小的模糊(经由彗形像差)。为了对抗此效应，可利用一组额外的阵列行。举例来说，可沿10×10磁性透镜阵列200的每一边缘安置额外行的永久磁性元件(缺少开口212)。就此来说，可在给定阵列200中利用永久磁性元件206的12×12阵列，其中最外行的永久磁性元件206由与下伏通气管锥体突出部205无关联的边缘校正元件组成。
现在参考图2D到2F，通气管锥体透镜阵列200可包含可操作地耦合到多个永久磁铁元件206的顶部表面的额外顶部软磁性材料薄片。举例来说，具有多个开口214的第二软磁性材料薄片212可附接到阵列200的永久磁性元件206的顶部表面。就此来说，第二软磁性薄片212的开口214中的每一者可与第一软磁性薄片204的下伏通气管锥体突出部205同心地对准。申请人注意到，利用第二薄片212可有助于最小化透镜阵列200对各种个别永久磁性元件206的磁化强度及定向的变化的敏感度。举例来说，申请人已发现，在不存在第二薄片212的情况下，给定永久磁性元件206的磁化定向的小误差可在相关联通气管锥体透镜202上方引入横向场。例如此的偏差可导致入射电子束的偏转，从而引起彗形像差。添加第二薄片212可有助于几乎完全避免上文所描述的敏感度，其中较大磁化定向误差不在通气管锥体透镜202处引入明显像差。应认识到，利用顶部薄片212可为特别有利的，因为此项技术中已知的永久磁性材料通常显示显著定向及量值变化。
进一步注意，可利用与第一软磁性材料薄片204相同的材料及材料工艺来制作第二软磁性材料薄片212。举例来说，第二薄片212可包含磁性钢薄片，例如但不限于，基于铁-钴的软磁性材料(例如，hiperco50A)。
图3及4图解说明同时实施于带电粒子光学系统中的一对磁性透镜阵列(例如，100或200)的横截面图。现在参考图3，一对轴向透镜阵列100经组合以形成适合于实施于带电粒子光学系统(例如阵列式SEM)中的列阵列300。在一个方面中，列阵列300可包含第一轴向透镜阵列100及第二轴向透镜阵列。在一个实施例中，第一及第二透镜阵列100可经配置以分别作为源聚光透镜及主物镜操作。就此来说，顶部轴向透镜阵列100的磁性透镜102可用以在带电粒子束通过各种静电元件302(例如，偏转器、微调透镜、检测器等)之前将所述带电粒子束聚光。在所述带电粒子束通过各种静电元件302之后，底部磁性透镜阵列100的磁性透镜102可用以将所述带电粒子束聚焦到样本的表面上。
在上文所描述的背景中，透镜阵列100的局部闭合回路永久磁性透镜102是特别有利的，因为不需要磁通量旁路来使磁通量绕过列阵列300的各种静电元件302。此外，不存在磁通量旁路元件允许静电层内的经增加操作空间，降低静电起弧的风险且简化制造。
此外，如本文中先前所论述，物镜阵列100(即，底部阵列)的透镜可需要比聚光阵列100(即，顶部阵列)的场低的场。就此来说，可以此项技术中已知的任何方式修整两个磁性阵列100的磁性透镜的磁场。举例来说，聚光阵列100的永久磁性材料可由具有比物镜阵列100的材料大的磁化的材料组成。在另一实例中，可相对于物镜阵列100增加聚光阵列100的厚度以便增加存在于聚光阵列100的磁性透镜102处的磁铁能量的总量。
现在参考图4，类似于上文所描述的图3，可组合一对通气管锥体透镜阵列100以形成适合于实施于带电粒子光学系统中的列阵列400。在一个方面中，列阵列400可包含第一通气管锥体透镜阵列200及第二通气管锥体透镜阵列200。在一个实施例中，第一及第二透镜阵列200可经配置以分别作为源聚光透镜及主物镜操作。就此来说，顶部轴向透镜阵列200的磁性透镜202可用以在带电粒子束通过各种静电元件402之前将所述带电粒子束聚光。在所述带电粒子束通过各种静电元件402之后，底部磁性透镜阵列200的磁性透镜202可用以将所述带电粒子束聚焦到样本的表面上。
此外，如本文中先前所论述，物镜永久磁铁阵列200(即，底部阵列)的透镜可经配置以具有比相关联永久磁铁聚光阵列200(即，顶部阵列)的透镜低的场。就此来说，可以此项技术中已知的任何方式修整两个通气管锥体磁性阵列200的磁性透镜的磁场。举例来说，可按实施方案的特定背景的需要而调整物镜阵列的物镜及聚光透镜阵列的聚光透镜的内径及外径的相对大小。
图5A及5B图解说明实施本发明的一个或一个以上永久磁性阵列的带电粒子光学系统500及501的框图。现在参考图5A，其图解说明实施单个永久磁性阵列501连同多个静电透镜504的阵列式带电粒子光学系统500的框图。系统500可包含但不限于：一个或一个以上带电粒子源502(例如，电子源)；多个静电透镜504；永久磁铁透镜阵列501，其包含多个基于永久磁铁的透镜505；及检测器506，其经配置以检测从试样508的表面发出的次级电子。应认识到，此项技术中已知的任何带电粒子源及检测器可适合于实施于本发明中，且所属领域的技术人员将基于实施方案的特定背景而明了这些装置的特定选择。此外，虽然图5A及5B描绘多个带电粒子源，但认识到，可使用单个带电粒子源。以此方式，仅应将如图5A及5B中所描绘的多个“源”解释为到带电粒子系统500及501的列阵列中的多个带电粒子路径。类似地，仅应将图5A及5B中所描绘的多个检测器506解释为可用单个带电粒子检测装置来实施的从试样508发出的次级电子的多个检测点。
在图5A中所展示的一个实施例中，静电透镜504可经布置以作为源聚光透镜操作，而永久磁铁阵列501的永久磁铁透镜505可经布置以充当阵列式带电粒子光学系统500的列的主物镜。
现在参考图5B，其图解说明实施一对永久磁性阵列510及512的阵列式带电粒子光学系统501的框图。系统501可包含但不限于：一个或一个以上带电粒子源502(例如，电子源)；第一永久磁性透镜阵列510，其包含第一多个基于永久磁铁的透镜511；第二永久磁铁透镜阵列512，其包含第二多个基于永久磁铁的透镜513；及检测器506，其经配置以检测从试样508的表面发出的次级电子。在图5B中所展示的一个实施例中，第一永久磁铁透镜阵列的透镜511可经布置以作为列阵列的主物镜操作，而第二永久磁铁阵列512的永久磁铁透镜513可经布置以充当带电粒子光学系统501的列的源聚光器。
所属领域的技术人员将认识到，在此项技术内以本文中所陈述的方式描述装置及/或工艺且此后使用工程实践将此些所描述装置及/或工艺集成到数据处理系统中是常见的。也就是说，本文中所描述的装置及/或工艺的至少一部分可经由合理量的实验而集成到数据处理系统中。所属领域的技术人员将认识到，典型的数据处理系统通常包含以下各项中的一者或一者以上：系统单元壳体；视频显示装置；存储器，例如易失性及非易失性存储器；若干处理器，例如微处理器及数字信号处理器；计算实体，例如操作系统、驱动器、图形用户接口及应用程序；一个或一个以上交互装置，例如触摸垫或屏幕；及/或控制系统，其包含反馈回路及控制电机(例如，用于感测位置及/或速度的反馈；用于移动及/或调整分量及/或数量的控制电机)。可利用任何适合市售组件(例如，通常存在于数据计算/通信及/或网络计算/通信系统中的那些组件)来实施典型的数据处理系统。
本文中所描述的标的物有时图解说明不同其它组件内所含有或与不同其它组件连接的不同组件。应理解，此些所描绘架构仅为示范性的，且实际上可实施实现相同功能性的许多其它架构。在概念意义上，实现相同功能性的任何组件布置有效地“相关联”使得实现所要的功能性。因此，可将本文中经组合以实现特定功能性的任何两个组件视为彼此“相关联”使得实现所要的功能性而不管架构或中间组件如何。同样地，也可将如此相关联的任何两个组件视为彼此“连接”或“耦合”以实现所要的功能性，且也可将能够如此相关联的任何两个组件视为彼此“可耦合”以实现所要的功能性。可耦合的特定实例包含但不限于：可以物理方式配合及/或以物理方式交互的组件；及/或可以无线方式交互及/或以无线方式交互的组件；及/或以逻辑方式交互及/或可以逻辑方式交互的组件。
虽然已展示并描述了本文中所描述的本标的物的特定方面，但所属领域的技术人员将基于本文中的教示明了：可在不背离本文中所描述的标的物及其更广泛的方面的情况下做出改变及修改，且因此，所附权利要求书欲将归属于本文中所描述的标的物的真实精神及范围内的所有此些改变及修改囊括于其范围内。
尽管已图解说明本发明的特定实施例，但应明了，所属领域的技术人员可在不背离上述揭示内容的范围及精神的情况下做出本发明的各种修改及实施例。因此，本发明的范围应仅受所附权利要求书限制。
据信，通过上述描述将理解本发明及其随附优点中的许多优点，且将明了，可在不背离所揭示标的物或不牺牲其材料优点中的所有优点的情况下在组件的形式、构造及布置上做出各种改变。所描述的形式仅是解释性的，且所附权利要求书打算囊括并包含此些改变。
此外，应理解，本发明由所附权利要求书界定。

Claims (23)

1.一种用于带电粒子聚焦的永久磁性透镜阵列，其包括：
平面体积的永久磁性材料，其中所述平面体积的永久磁性材料包含跨越所述平面体积的所述永久磁性材料的表面分布的多个透镜开口，其中所述平面体积的所述永久磁性材料的所述透镜开口中的每一者轴向对称且从所述平面体积的永久磁性材料的第一表面通到第二表面；及
平面体积的软磁性材料，其中所述平面体积的软磁性材料包含跨越所述平面体积的所述软磁性材料的表面分布的多个透镜开口，其中所述平面体积的软磁性材料的每一透镜开口轴向对称且从所述平面体积的软磁性材料的第一表面通到第二表面，其中所述平面体积的软磁性材料可操作地耦合到所述平面体积的所述永久磁性材料的表面，使得所述平面体积的永久磁性材料的所述透镜开口的至少一部分与所述平面体积的软磁性材料的所述透镜开口的至少一部分实质上对准，其中所述平面体积的永久磁性材料及所述平面体积的软磁性材料布置成实质上平面单片式结构，其中所述体积的永久磁性材料的所述多个透镜开口及所述体积的软磁性材料的所述多个透镜开口经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有实质上垂直于所述平面体积的所述永久磁性材料的所述第一表面定向的至少一轴向分量。
2.根据权利要求1所述的磁性透镜阵列，其进一步包括：
额外平面体积的软磁性材料，其中所述额外平面体积的软磁性材料包含跨越所述额外平面体积的所述软磁性材料的表面分布的多个透镜开口，其中所述额外平面体积的软磁性材料的每一透镜开口轴向对称且从所述额外平面体积的软磁性材料的第一表面通到第二表面，其中所述额外平面体积的软磁性材料可操作地耦合到所述平面体积的所述永久磁性材料的第二表面，使得所述平面体积的永久磁性材料的所述透镜开口的至少一部分与所述平面体积的软磁性材料及所述额外平面体积的软磁性材料的所述透镜开口的至少一部分实质上对准，其中所述平面体积的永久磁性材料、所述平面体积的软磁性材料及所述额外平面体积的软磁性材料布置成实质上平面单片式结构，其中所述平面体积的永久磁性材料的所述多个透镜开口、所述平面体积的软磁性材料的所述多个透镜开口及所述额外平面体积的软磁性材料的所述多个透镜开口经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有至少一轴向分量。
3.根据权利要求1所述的磁性透镜阵列，其中所述平面体积的永久磁性材料具有实质上垂直于所述平面体积的永久磁性材料的所述第一表面定向且朝向所述第一表面引导的永久磁化。
4.根据权利要求1所述的磁性透镜阵列，其中所述磁性透镜中的每一者的所述磁场实质上被约束于所述平面体积的永久磁性材料内。
5.根据权利要求1所述的磁性透镜阵列，其中所述体积的所述永久磁性材料或所述体积的所述软磁性材料的所述多个透镜开口中的一些透镜开口为圆柱形形状的。
6.根据权利要求1所述的磁性透镜阵列，其中所述体积的所述永久磁性材料包括：
一体积的稀土永久磁性材料。
7.根据权利要求1所述的磁性透镜阵列，其中所述体积的所述软磁性材料包括：
一体积的磁性钢。
8.根据权利要求1所述的磁性透镜阵列，其中所述多个磁性透镜被配置为多个主物镜或多个聚光透镜中的至少一者。
9.一种用于带电粒子聚焦的永久磁性透镜阵列，其包括：
第一软磁性材料薄片，其中所述第一软磁性材料薄片包含多个通气管锥体，每一通气管锥体从所述软磁性材料的第一表面突出，其中所述多个通气管锥体布置成阵列图案，其中每一通气管锥体轴向对称且包含从所述第一软磁性材料薄片的所述第一表面通到软磁性材料的第二表面的开口；及
多个永久磁性元件，其中每一永久磁性元件轴向对称且与所述第一软磁性材料薄片的通气管锥体同心地布置，其中所述永久磁性元件中的每一者可操作地耦合到所述第一软磁性材料薄片的所述第一表面，其中所述第一软磁性材料薄片的所述多个通气管锥体及所述多个永久磁性元件经配置以形成多个磁性透镜，其中每一磁性透镜具有磁场，所述磁场具有实质上垂直于所述软磁性材料的所述第一表面定向的至少一轴向分量。
10.根据权利要求9所述的磁性透镜阵列，其中所述多个永久磁性元件包括：
多个永久磁性瓦片。
11.根据权利要求9所述的磁性透镜阵列，其中所述永久磁性元件中的至少一些永久磁性元件具有实质上垂直于所述第一软磁性材料薄片的所述第一表面定向且朝向所述第一表面引导的永久磁化。
12.根据权利要求9所述的磁性透镜阵列，其中所述磁性透镜中的每一者的所述磁场的一部分延伸超越所述通气管锥体突出部中的一者或一者以上的最上部分。
13.根据权利要求9所述的磁性透镜阵列，其中所述永久磁性元件中的每一者包括：
稀土永久磁性元件。
14.根据权利要求9所述的磁性透镜阵列，其中所述第一软磁性材料薄片包括：
磁性钢薄片。
15.根据权利要求9所述的磁性透镜阵列，其中所述多个磁性透镜被配置为多个主物镜或多个聚光透镜中的至少一者。
16.根据权利要求9所述的磁性透镜阵列，其进一步包括：
第二软磁性材料薄片，其可操作地耦合到所述永久磁性元件中的至少一些永久磁性元件的第一表面，其中所述第二软磁性材料薄片包含多个开口。
17.一种用于聚焦一个或一个以上带电粒子束的设备，其包括：
至少一个带电粒子源；
带电粒子光学系统，其包含至少一个永久磁性透镜阵列，其中所述永久磁性透镜阵列进一步包含：
至少一第一软磁性材料薄片，其包含多个透镜开口；
多个永久磁性元件，其可操作地耦合到所述至少一第一软磁性材料薄片，
其中，所述多个永久磁性元件及所述至少一第一软磁性材料薄片的所述多个透镜开口经配置以形成以阵列分布的多个磁性透镜，每一磁性透镜经配置以聚焦从所述至少一个带电粒子源发射的带电粒子束，其中所述磁性透镜中的每一者轴向对称；及
至少一个检测器，其经配置以检测从试样的表面发射的次级电子。
18.根据权利要求17所述的设备，其中所述永久磁性透镜阵列包括轴向磁性透镜阵列或通气管锥体磁性透镜阵列中的至少一者。
19.根据权利要求17所述的设备，其中所述至少一个带电粒子源包括：
至少一个电子源。
20.根据权利要求17所述的设备，其中所述至少一个带电粒子源包括：
两个或两个以上带电粒子源。
21.根据权利要求17所述的设备，其中所述永久磁性透镜阵列的所述磁性透镜中的每一者被配置为源聚光透镜或主物镜中的至少一者。
22.根据权利要求17所述的设备，其进一步包括：
至少一个额外永久磁性透镜阵列，其包含至少额外多个磁性透镜，其中每一磁性透镜被配置为源聚光透镜或主物镜中的至少一者。
23.根据权利要求17所述的设备，其进一步包括：
多个静电透镜，其中每一静电透镜被配置为源聚光透镜或主物镜中的至少一者。
CN201280040633.4A 2011-07-20 2012-06-25 永久磁铁透镜阵列 Active CN103748654B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/187,019 US8698094B1 (en) 2011-07-20 2011-07-20 Permanent magnet lens array
US13/187,019 2011-07-20
PCT/US2012/043986 WO2013012522A1 (en) 2011-07-20 2012-06-25 Permanent magnet lens array

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103748654A CN103748654A (zh) 2014-04-23
CN103748654B true CN103748654B (zh) 2017-02-15

Family

ID=47558390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280040633.4A Active CN103748654B (zh) 2011-07-20 2012-06-25 永久磁铁透镜阵列

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8698094B1 (zh)
KR (1) KR101789365B1 (zh)
CN (1) CN103748654B (zh)
IL (1) IL230495A (zh)
TW (1) TWI594014B (zh)
WO (1) WO2013012522A1 (zh)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9082580B2 (en) 2013-09-23 2015-07-14 Kla-Tencor Corporation Notched magnetic lens for improved sample access in an SEM
CN105334553B (zh) * 2015-10-30 2017-08-08 电子科技大学 基于pdms‑磁性纳米粒子复合薄膜的磁控微透镜阵列制造方法
US10338002B1 (en) 2016-02-01 2019-07-02 Kla-Tencor Corporation Methods and systems for selecting recipe for defect inspection
US10211021B2 (en) 2016-04-11 2019-02-19 Kla-Tencor Corporation Permanent-magnet particle beam apparatus and method incorporating a non-magnetic metal portion for tunability
US11260330B2 (en) 2018-02-09 2022-03-01 Paul NEISER Filtration apparatus and method
JP2021514492A (ja) 2018-02-09 2021-06-10 ニーサー，ポール 濾過装置および方法
WO2019161297A1 (en) * 2018-02-15 2019-08-22 Neiser Paul Apparatus and methods for selectively transmitting objects
US20190255536A1 (en) * 2018-02-17 2019-08-22 Paul NEISER Apparatus and method for filtering
US11037753B2 (en) * 2018-07-03 2021-06-15 Kla Corporation Magnetically microfocused electron emission source
US10545099B1 (en) 2018-11-07 2020-01-28 Kla-Tencor Corporation Ultra-high sensitivity hybrid inspection with full wafer coverage capability
WO2021140035A1 (en) 2020-01-06 2021-07-15 Asml Netherlands B.V. Charged particle assessment tool, inspection method
US11927549B2 (en) 2021-09-09 2024-03-12 Kla Corporation Shielding strategy for mitigation of stray field for permanent magnet array

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1194055A (zh) * 1995-08-25 1998-09-23 国际商业机器公司 显示系统
US6525463B1 (en) * 1998-06-11 2003-02-25 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Flat panel display device
US6906607B1 (en) * 1999-11-08 2005-06-14 Institut Fur Mikrotechnik Mainz Gmbh Method for producing and magazining individual magnetic components and the assembly thereof for producing miniaturized magnetic systems and such magnetic systems
US7569834B1 (en) * 2006-10-18 2009-08-04 Kla-Tencor Technologies Corporation High resolution charged particle projection lens array using magnetic elements

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2063108C1 (ru) 1993-04-01 1996-06-27 Московский радиотехнический институт РАН Многополюсная магнитная линза
GB2304981A (en) * 1995-08-25 1997-03-26 Ibm Electron source eg for a display
US6051839A (en) * 1996-06-07 2000-04-18 Arch Development Corporation Magnetic lens apparatus for use in high-resolution scanning electron microscopes and lithographic processes
EP3671804A1 (en) 2002-10-30 2020-06-24 ASML Netherlands B.V. Electron beam exposure system
JP2006210254A (ja) 2005-01-31 2006-08-10 Fujitsu Ltd 磁場レンズ
EP1941528B9 (en) 2005-09-06 2011-09-28 Carl Zeiss SMT GmbH Particle-optical arrangement with particle-optical component
JP4795847B2 (ja) * 2006-05-17 2011-10-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置
KR101118692B1 (ko) * 2006-10-11 2012-03-12 전자빔기술센터 주식회사 자기 렌즈층을 포함한 전자 칼럼

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1194055A (zh) * 1995-08-25 1998-09-23 国际商业机器公司 显示系统
US6525463B1 (en) * 1998-06-11 2003-02-25 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Flat panel display device
US6906607B1 (en) * 1999-11-08 2005-06-14 Institut Fur Mikrotechnik Mainz Gmbh Method for producing and magazining individual magnetic components and the assembly thereof for producing miniaturized magnetic systems and such magnetic systems
US7569834B1 (en) * 2006-10-18 2009-08-04 Kla-Tencor Technologies Corporation High resolution charged particle projection lens array using magnetic elements

Also Published As

Publication number Publication date
TWI594014B (zh) 2017-08-01
CN103748654A (zh) 2014-04-23
TW201314259A (zh) 2013-04-01
IL230495A0 (en) 2014-03-31
KR101789365B1 (ko) 2017-10-23
KR20140060498A (ko) 2014-05-20
US8698094B1 (en) 2014-04-15
IL230495A (en) 2017-10-31
WO2013012522A1 (en) 2013-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103748654B (zh) 永久磁铁透镜阵列
CN1716512B (zh) 配有恒磁材料透镜的粒子-光学装置
US7075395B2 (en) Magnetic sensor, production process of the magnetic sensor and magnetic array suitable for the production process
EP1574870A2 (en) Method for manufacturing magnetic sensor, magnet array used in the method, and method for manufacturing the magnet array
KR101220837B1 (ko) 다광축 자기 렌즈
JP2007311117A (ja) 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置
EP2827357A1 (en) Magnetic lens for focusing a beam of charged particles
TWI581299B (zh) 具有低軸漏溢場的永久磁鐵基高效能多軸浸沒電子透鏡陣列
RU2153706C2 (ru) Способ и устройство для запоминания данных с использованием спин-поляризованных электронов
Khursheed Magnetic axial field measurements on a high resolution miniature scanning electron microscope
US6891159B2 (en) Converting scanning electron microscopes
Khursheed et al. A portable scanning electron microscope column design based on the use of permanent magnets
TW202143282A (zh) 掃描式電子顯微鏡
JP2002175971A (ja) 磁気レンズ、磁気シールド体の製造方法、荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法
JP2000353487A (ja) 電子ビームにおける像位置とレンズ場の制御
KR102666409B1 (ko) 영구 자석을 갖는 카운터 폴
JP2006196195A (ja) 磁場レンズ用磁気回路
US20240021403A1 (en) Adjustable Permanent Magnetic Lens Having Thermal Control Device
US11417493B2 (en) Counter pole with permanent magnets
Cheung et al. Performance of a slow positron beam using a hybrid lens design
Khursheed et al. Miniature scanning electron microscope design based upon the use of permanent magnets
JP2007242359A (ja) 電極リング、電子顕微鏡、電極リングの製造方法及び電子顕微鏡の製造方法
Khursheed Portable scanning electron microscope designs
TW202343520A (zh) 微型混合電子束柱
Osterberg et al. A Spectroscopic SEM: First Results

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant