CN103673133A - 一种空气净化器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种空气净化器，包括本体，本体包括进风口和出风口，还包括臭氧发生器、光氢离子发生器、分子筛和改性活性炭，臭氧发生器设于进风口处，且覆盖整个进风口，臭氧发生器固定在本体的内壁上，光氢离子发生器设于本体的内腔中，分子筛设于本体的内壁上，且覆盖整个本体的内腔横截面，分子筛处于光氢离子发生器与出风口之间，改性活性炭设于出风口处，且覆盖整个出风口，改性活性炭固定在本体的内壁上。通过设置臭氧发生器，发生大量臭氧，分解有害物质，杀灭空气中细菌、病菌。通过分子筛能有效过滤臭氧分子；通过设置光氢离子发生器分解臭氧，生成氧气；通过设置改性活性炭可以吸附部分臭氧，使得出风口的臭氧浓度满足国家标准要求。
Description
技术领域
本发明涉及空气净化领域，尤其涉及一种空气净化器。
背景技术
空气净化器又称“空气清洁器”、空气清新机、净化器，是指能够吸附、分解或转化各种空气污染物（一般包括PM2.5、粉尘、花粉、异味、甲醛之类的装修污染、细菌、过敏原等），有效提高空气清洁度的产品，以清除室内空气污染的家用和商用空气净化器为主。
臭氧在空气净化上有较明显的作用，但是由于过量臭氧对人体有害，所以目前在空气净化行业中臭氧使用不多，且在空气净化器上一般不采用臭氧，防止臭氧对人体的伤害。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种利用臭氧作为净化介质的空气净化器。
本发明是这样实现的，一种空气净化器，包括本体，所述本体包括进风口和出风口，还包括臭氧发生器、光氢离子发生器、分子筛和改性活性炭，所述臭氧发生器设于进风口处，且覆盖整个进风口，臭氧发生器固定在本体的内壁上，所述光氢离子发生器设于本体的内腔中，所述分子筛设于本体的内壁上，且覆盖整个本体的内腔横截面，所述分子筛处于光氢离子发生器与出风口之间，所述改性活性炭设于出风口处，且覆盖整个出风口，所述改性活性炭固定在本体的内壁上。
进一步地，所述本体的内腔中设有2~10个光氢离子发生器。
本发明提供的一种空气净化器的优点在于：通过设置臭氧发生器，发生大量臭氧，分解有害物质，杀灭空气中细菌、病菌，分解TVOC等有害气体，除臭除味。通过分子筛能有效过滤臭氧分子；通过设置光氢离子发生器，可以分解臭氧，生成氧气；通过设置改性活性炭可以吸附部分臭氧，使得出风口的臭氧浓度满足国家标准要求。
附图说明
图1为本发明一种空气净化器的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
请参阅图1，图1为本发明一种空气净化器的结构示意图。
所述一种空气净化器，包括本体10，所述本体10包括进风口11和出风口12，还包括臭氧发生器20、光氢离子发生器30、分子筛40和改性活性炭50，所述臭氧发生器20设于进风口11处，且覆盖整个进风口11，臭氧发生器20固定在本体10的内壁上，所述光氢离子发生器30设于本体10的内腔中，所述本体10的内腔中设有2个光氢离子发生器30，所述分子筛40设于本体10的内壁上，且覆盖整个本体10的内腔横截面，所述分子筛40处于光氢离子发生器30与出风口12之间，所述改性活性炭50设于出风口12处，且覆盖整个出风口12，所述改性活性炭50固定在本体10的内壁上。
通过设置臭氧发生器20，发生大量臭氧，分解有害物质，杀灭空气中细菌、病菌，分解TVOC等有害气体，除臭除味。通过分子筛40能有效过滤臭氧分子；通过设置光氢离子发生器30，可以分解臭氧，生成氧气；通过设置改性活性炭50可以吸附部分臭氧，使得出风口12的臭氧浓度满足国家标准要求。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (2)
1.一种空气净化器，包括本体（10），所述本体（10）包括进风口（11）和出风口（12），其特征在于，还包括臭氧发生器（20）、光氢离子发生器（30）、分子筛（40）和改性活性炭（50），所述臭氧发生器（20）设于进风口（11）处，且覆盖整个进风口（11），臭氧发生器（20）固定在本体（10）的内壁上，所述光氢离子发生器（30）设于本体（10）的内腔中，所述分子筛（40）设于本体（10）的内壁上，且覆盖整个本体（10）的内腔横截面，所述分子筛（40）处于光氢离子发生器（30）与出风口（12）之间，所述改性活性炭（50）设于出风口（12）处，且覆盖整个出风口（12），所述改性活性炭（50）固定在本体（10）的内壁上。
2.根据权利要求1所述的一种空气净化器，其特征在于，所述本体（10）的内腔中设有2~10个光氢离子发生器（30）。
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140326 |