CN103617170B - 曝光机文件自动检查系统 - Google Patents

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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

本发明涉及一种曝光机文件自动检查系统，系统包括：光刻曝光机文件建立条件信息模块、光罩信息模块、曝光机文件建立/导出模块和数据处理模块；光罩信息模块中存储有光罩信息，曝光机文件建立/导出模块中存储有曝光机文件，曝光机文件建立条件信息模块中存储有建立曝光机文件时所需条件的参数信息；数据处理模块调取光罩信息模块中存储的光罩信息，并根据该光罩信息调取存储于曝光机文件建立/导出模块中的曝光机文件，数据处理模块同时调取曝光机文件建立条件信息模块中的参数信息后，将曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的参数信息进行比对，并将比对结果进行输出。本发明系统能够提高曝光机文件的正确率和工作效率。

Description

曝光机文件自动检查系统
技术领域
本发明涉及一种半导体工艺制程检查系统，尤其涉及一种曝光机文件自动检查系统。
背景技术
随着半导体技术的发展，半导体器件的结构越来越复杂，使得其制备工艺也变得越来越复杂。
通常在半导体器件的制备过程中，会经历很多次的光刻工艺，每一次的光刻工艺都包含一次曝光制程，所以，在半导体器件的制造过程中，会经过十几次甚至几十次的曝光制程。在每一次的曝光制程中，都需要先确定曝光制程的相关参数，而以一套曝光机文件40层来计算，需要输出确认的参数大致上有四千多个，并且这些参数通常是包含有正负号的精确到小数点后三位的数字。如果在输入参数时出现任何差错，就会导致曝光制程出现问题，具体体现在以下几个方面：
（1）曝光机拒绝对晶圆进行加工（reject wafer）；
（2）晶圆返工重跑；
（3）整个产品线上的晶圆进行报废。
可以看出，如果在曝光制程中稍有差错，轻则造成晶圆的加工停滞或者返工，重则引起大量的晶圆报废，这无论是在成本上和生产进度都是不利的，所以确保曝光参数的输入准确性是十分必要也是十分有现实意义的。
目前，对于曝光参数的输入和建立大多为工程师手动进行，并且在信息输入之后并没有相关的检查机制，这样就会导致工程师可能在庞大的输入数据压力下出错。
虽然业界已经有ASML厂家研发出一种使曝光机文件脱离于其曝光机本身以及服务器而生成的软件，但是由于其内部参数定义及其复杂，操作人员需要花费很多时间去掌握其使用方法，并且运算速度相对较慢，需要花费很多的时间，所以在实际生产过程中并不是十分具有实用性。
发明内容
鉴于上述问题，本发明提供一种曝光机文件自动检查系统。
本发明解决技术问题所采用的技术方案为：
一种曝光机文件自动检查系统，其中，所述系统包括：光刻曝光机文件建立条件信息模块、光罩信息模块、曝光机文件建立/导出模块和数据处理模块；
所述光罩信息模块中存储有光罩信息，所述曝光机文件建立/导出模块中存储有曝光机文件，所述曝光机文件建立条件信息模块中存储有建立曝光机文件时所需条件的参数信息；
所述数据处理模块调取光罩信息模块中存储的光罩信息，并根据该光罩信息调取存储于所述曝光机文件建立/导出模块中的曝光机文件，所述数据处理模块同时调取曝光机文件建立条件信息模块中的参数信息后，将曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的所述参数信息进行比对，并将比对结果进行输出。
所述的曝光机文件自动检查系统，其中，当所述曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的所述参数信息一致，所述数据处理模块输出比对结果正确；
当所述曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的所述参数信息不一致，所述数据处理模块输出比对结果不正确。
所述的曝光机文件自动检查系统，其中，所述系统还包括操作终端，通过所述操作终端将所述曝光机文件输入至所述曝光机文件建立/导出模块中。
所述的曝光机文件自动检查系统，其中，通过所述操作终端对所述比对结果进行显示。
所述的曝光机文件自动检查系统，其中，所述数据处理模块中设置有批量处理单元，通过所述批量处理单元同时调取若干个曝光机文件。
所述的曝光机文件自动检查系统，其中，采用宏处理单元作为所述批量处理单元。
所述的曝光机文件自动检查系统，其中，通过所述操作终端，采用Excel VBA工具对所述宏处理单元写入宏命令。
上述技术方案具有如下优点或有益效果：
本发明的曝光机文件自动检查系统通过光刻曝光机文件建立条件信息模块、光罩信息模块和曝光机文件建立/导出模块将原本完全独立的光刻曝光机建立条件信息、光罩信息和曝光机文件三者相互联系起来，并通过数据处理模块将上述三个模块内的信息进行整合和比对，以实现对曝光机文件的自动检查，从而及时发现错误的曝光机文件，便于对错误的曝光机文件进行及时的修改，避免了因错误的曝光机文件进行产品加工而产生的返工等问题，进而提高了曝光机文件的正确率和工作效率。
附图说明
参考所附附图，以更加充分的描述本发明的实施例。然而，所附附图仅用于说明和阐述，并不构成对本发明范围的限制。
图1是本发明曝光机文件自动检查系统的内部结构示意图；
图2是本发明实施例中数据处理模块的结构示意图。
具体实施方式
本发明提供一种曝光机文件自动检查系统，可用于技术节点为大于等于130nm、90nm、65/55nm、45/40nm、32/28nm或小于等于22nm等的工艺中；本发明同时可用于Logic、Memory、RF、HV、Analog/Power、MEMS、CIS、Flash、eFlash或Package等技术平台中。
本发明的主要思想是通过曝光机文件自动检查系统将DS（design service）光罩信息、光刻曝光机文件建立条件信息和曝光机文件这三个完全独立的信息相互关联起来，并运用自动化的系统来对曝光机文件进行检查。
下面对本发明系统进行详细说明。
本发明的曝光机文件自动检查系统包括：操作终端、光刻曝光机文件建立条件信息模块、光罩信息模块、曝光机文件建立/导出模块、数据处理模块。其中，操作终端用于让工程师对曝光机文件自动检查系统进行启动、停止以及其它相关的操作选择，操作终端还能够将系统内的信息进行显示；光刻曝光机文件建立条件信息模块中存放有用于建立曝光机文件相关条件参数的信息；光罩信息模块中存放有针对不同曝光工艺所需要光罩的光罩信息；曝光机文件建立/导出模块用于建立或产生曝光机文件以及导出建立的曝光机文件，该曝光机文件建立/导出模块的终端优选为曝光机台自带的服务器；数据处理模块用于进行相关比对等运算操作。
上述的若干模块之间的信息传递关系通过如下方式实现：
通过操作终端启动曝光机文件自动检查系统，数据处理模块调取光罩信息模块中的光罩信息，并根据该光罩信息调取存储于曝光机文件建立/导出模块中的曝光机文件，同时调取曝光机文件建立条件信息模块中的参数信息，然后，数据处理模块将曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的参数信息进行比对，并将比对结果进行输出，输出的比对结果由一个普通的输出终端进行输出，如普通微型机等。
当数据处理模块将曝光机文件建立所需要更改的参数与从曝光机文件建立条件信息模块中调取的参数信息进行比对后，如果该曝光机文件建立所需要更改的参数与从曝光机文件建立条件信息模块中调取的参数信息一致，那么输出正确的结果，即经过检查后，可以确定建立的曝光机文件为正确；反之，如果该曝光机文件建立所需要更改的参数与从曝光机文件建立条件信息模块中调取的参数信息不一致，那么则输出错误的结果，即经过检查后，可以确定建立的曝光机文件为错误。
这样，通过上述系统就能对工程师人为建立的曝光机文件进行自动化的检查，以及时发现工程师在建立大量的曝光机文件时可能建立的错误的曝光机文件，然后及时采取相应的措施以避免更大的损失。
进一步的，可将批处理的理念应用于上述系统中，使得可以同时对多个已建立的曝光机文件一起进行检查，并且检查结果也会一同进行输出，为了达到上述功能，在本发明的曝光机文件自动检查系统中的数据处理模块中还设置有一个批量处理单元，该批量处理单元能够同时将多个曝光机文件进行调取，并且依次对多个曝光机文件进行检查后，对该多个曝光机文件的检查结果一同进行输出。对于该批量处理单元可优选采用宏处理单元。可以采用带有宏运算功能的工具对该宏处理单元进行宏命令的写入，其中，可优选采用Excel VBA工具进行宏命令的写入。
下面通过一实施例对本发明具有批量处理能力的曝光机文件自动检查系统的使用方法进行说明。
通过操作终端对建立曝光机文件相关条件的参数信息进行整理，产生宏运行模板文件，然后将光罩信息输入到该模板文件中，工程师根据建立曝光机文件相关条件的参数信息和光罩信息手动输入曝光机文件（即建立曝光机文件），然后运行宏，以对建立的曝光机文件进行检查，在运行宏的过程中可以选取若干曝光机文件进行检查，最后通过宏运行模板反馈出检查结果。
综上所述，本发明的曝光机文件自动检查系统通过对DS光罩信息、曝光机文件建立条件参数信息和曝光机文件三者进行关联，使得对建立的曝光机文件进行自动化检查成为可能。并且，由于本系统还能够对曝光机文件进行批量的检查，并能够对检查的结果进行批量地输出，这可以使工程师对大量的曝光机文件中的错误文件和正确文件一目了然，从而可以方便、及时地对错误的曝光机文件进行发现和处理，提高了曝光机文件建立的正确率和工作效率。
对于本领域的技术人员而言，阅读上述说明后，各种变化和修正无疑将显而易见。因此，所附的权利要求书应看作是涵盖本发明的真实意图和范围的全部变化和修正。在权利要求书范围内任何和所有等价的范围与内容，都应认为仍属本发明的意图和范围内。

Claims (8)

1.一种曝光机文件自动检查系统，其特征在于，所述系统包括：光刻曝光机文件建立条件信息模块、光罩信息模块、曝光机文件建立/导出模块和数据处理模块；
所述光罩信息模块中存储有光罩信息，所述曝光机文件建立/导出模块中存储有曝光机文件，所述曝光机文件建立条件信息模块中存储有建立曝光机文件时所需条件的参数信息；
所述数据处理模块调取光罩信息模块中存储的光罩信息，并根据该光罩信息调取存储于所述曝光机文件建立/导出模块中的曝光机文件，所述数据处理模块同时调取曝光机文件建立条件信息模块中的参数信息后，将调取的存储于所述曝光机文件建立/导出模块的曝光机文件中的参数信息与调取的所述曝光机文件建立条件参数的信息进行比对，并将比对结果进行输出。
2.如权利要求1所述的曝光机文件自动检查系统，其特征在于，当调取的存储于所述曝光机文件建立/导出模块的所述曝光机文件中的参数信息与调取的所述曝光机文件建立条件参数的信息一致，所述数据处理模块输出比对结果正确；
当调取的存储于所述曝光机文件建立/导出模块的所述曝光机文件中的参数信息与调取的所述曝光机文件建立条件参数的信息不一致，所述数据处理模块输出比对结果不正确。
3.如权利要求1所述的曝光机文件自动检查系统，其特征在于，所述系统还包括操作终端，用以控制所述曝光机自动检查系统运行状态。
4.如权利要求1所述的曝光机文件自动检查系统，其特征在于，所述系统还包括输出终端，通过所述输出终端对所述比对结果进行显示；
其中，所述输出终端为一微型机。
5.如权利要求1所述的曝光机文件自动检查系统，其特征在于，所述数据处理模块中设置有批量处理单元，通过所述批量处理单元根据所述光罩信息同时调取若干个与之对应的曝光机文件。
6.如权利要求5所述的曝光机文件自动检查系统，其特征在于，采用宏处理单元作为所述批量处理单元。
7.如权利要求6所述的曝光机文件自动检查系统，其特征在于，通过操作终端，采用Excel VBA工具对所述宏处理单元写入宏命令。
8.如权利要求1所述的曝光机文件自动检查系统，其特征在于，所述曝光机文件建立/导出模块为曝光机台自带的服务器。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105589837B (zh) * 2014-10-22 2019-03-08 北京广利核系统工程有限公司 一种电子文档的自动查错方法
CN112631079A (zh) * 2019-10-08 2021-04-09 长鑫存储技术有限公司 照明条件自动校正的方法、装置、设备和存储介质
CN114637167B (zh) * 2020-12-15 2023-06-09 上海新微技术研发中心有限公司 光罩综合管理及应用系统

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1530752A (zh) * 2003-02-20 2004-09-22 数字技术股份有限公司 用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法
CN101655666A (zh) * 2008-08-19 2010-02-24 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻方法及系统
CN102109772A (zh) * 2011-01-28 2011-06-29 上海宏力半导体制造有限公司 光刻工艺中自动批量建立层间误差测量程式的方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6757645B2 (en) * 1997-09-17 2004-06-29 Numerical Technologies, Inc. Visual inspection and verification system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1530752A (zh) * 2003-02-20 2004-09-22 数字技术股份有限公司 用于提供基于任务的自动化的光刻掩模缺陷适印性分析的系统和方法
CN101655666A (zh) * 2008-08-19 2010-02-24 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻方法及系统
CN102109772A (zh) * 2011-01-28 2011-06-29 上海宏力半导体制造有限公司 光刻工艺中自动批量建立层间误差测量程式的方法

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