CN103566787A - 用于高均质机的均质阀 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及高均质机的技术领域,尤其涉及一种用于高均质机的均质阀。这种用于高均质机的均质阀包括包括阀座、冲击挡圈和阀杆,所述阀座上的前端设有冲击挡圈,所述阀座设有上下2个,所述阀座之间设有阀杆。这种用于高均质机的均质阀的结构简单,生产的产品粒径均匀、扩散性能优良,稳定性好,可靠性高,并能够适应工业环境下的各种情况。
Description
技术领域
本发明涉及一种高均质机的技术领域,尤其涉及一种用于高均质机的均质阀。
背景技术
高速胶体磨和高压均质机能在颜料、染料生产中已经全面应用,高压均质机在工作时,在密封管道内流动的理想液体具有三种能量:压力能、动能和势能,他们可以互相转变,在现有技术中,用于高压均质机的均质阀,其结构在使用中,在液流中,如果某一点的压力低于饱和蒸汽压时,液体就开始沸腾形成气泡,这些气泡混杂在液体中产生空气穴,使液体不成为连续流动的状态。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:现有技术中的均质阀在使用中容易导致液体不成为连续流动的状态的问题,提供一种用于高均质机的均质阀。
为了克服背景技术中存在的缺陷,本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:这种用于高均质机的均质阀包括包括阀座、冲击挡圈和阀杆,所述阀座上的前端设有冲击挡圈,所述阀座设有上下2个,所述阀座之间设有阀杆。
根据本发明的另一个实施例,进一步包括所述阀座上设有凹槽,阀座形状为“7”字状。
本发明的有益效果是:这种用于高均质机的均质阀的结构简单,生产的产品粒径均匀、扩散性能优良,稳定性好,可靠性高,并能够适应工业环境下的各种情况。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的结构示意图。
其中:1、阀座,2、冲击挡圈,3、阀杆。
具体实施方式
图1是本发明的结构示意图,图中包括包括阀座1、冲击挡圈2和阀杆3,所述阀座1上的前端设有冲击挡圈2,所述阀座1设有上下2个,所述阀座1之间设有阀杆3。
阀座1上设有凹槽,阀座1形状为“7”字状。
物质高压低速进入均质阀,流经阀座1和阀杆3窄小空间间隙进入低压区,阀座1之间设有空隙,经巨大压力,将物料撞击于挡圈2上,在挡圈2的作用下,把物料颗粒破碎成极细微粒。
这种用于高均质机的均质阀的结构简单,生产的产品粒径均匀、扩散性能优良,稳定性好,可靠性高,并能够适应工业环境下的各种情况。
Claims (2)
1.一种用于高均质机的均质阀,包括阀座(1)、冲击挡圈(2)和阀杆(3),其特征在于:所述阀座(1)上的前端设有冲击挡圈(2),所述阀座(1)设有上下2个,所述阀座(1)之间设有阀杆(3)。
2.如权利要求1所述的用于高均质机的均质阀,其特征在于:所述阀座(1)上设有凹槽,阀座(1)形状为“7”字状。
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---|---|---|---|
CN201210263743.9A CN103566787A (zh) | 2012-07-29 | 2012-07-29 | 用于高均质机的均质阀 |
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CN103566787A true CN103566787A (zh) | 2014-02-12 |
Family
ID=50040016
Family Applications (1)
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CN201210263743.9A Pending CN103566787A (zh) | 2012-07-29 | 2012-07-29 | 用于高均质机的均质阀 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN103566787A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108533829A (zh) * | 2018-06-08 | 2018-09-14 | 安拓思纳米技术(苏州)有限公司 | 一种酵母菌破碎专用阀 |
CN110813115A (zh) * | 2019-10-23 | 2020-02-21 | 齐鲁工业大学 | 一种用于高压均质机的均质阀 |
CN110975728A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-10 | 李回秀 | 一种高压均质机的均质阀 |
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2012
- 2012-07-29 CN CN201210263743.9A patent/CN103566787A/zh active Pending
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CN110813115A (zh) * | 2019-10-23 | 2020-02-21 | 齐鲁工业大学 | 一种用于高压均质机的均质阀 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140212 |