CN103526181B - Lpcvd自动补水系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了LPCVD自动补水系统，包括湿氧SiO2工艺炉管，所述湿氧SiO2工艺炉管上连接有补水系统；所述补水系统包括储水罐，该储水罐通过水蒸气输出管与湿氧SiO2工艺炉管相连接，在储水罐上端还设置有高纯氮气输入管，储水罐上还设置有进水口，在进水口上安装有补水装置，储水罐下方设置有加热器，加热器上还设置有重力控制装置，重力控制装置与补水装置相连接。本发明提供一种LPCVD自动补水系统，能够更好的控制补水的时间与补水量，避免发生补水不及时导致的SiO2成膜速率降低以及物理性质变差，提高了SiO2膜的生产效率与成品率，降低了生产成本，促进了企业的健康发展。
Description
技术领域
本发明涉及一种补水系统，具体的说是涉及一种湿氧SiO2工艺炉管上使用的LPCVD自动补水系统。
背景技术
湿氧SiO2工艺主要是通过使用LPCVD制作SiO2薄膜，其中在工艺炉管上连接的补水装置是必不可少的，补水装置会源源不断的提供加工过程中所需要的水分，目前做湿氧SiO2工艺所需要的水汽需要通过工作人员定期像补水系统中加入高纯水，但是有时候由于各种外因或人为因素，导致没有及时加水的情况发生，而加水不及时将会影响SiO2成膜的速率降低以及膜的物理性质变差，大大降低了SiO2膜的生产效率与成品率，进而提高了生产成本，加重了企业的负担，不利于企业的发展。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种LPCVD自动补水系统，能够更好的控制补水的时间与补水量，避免发生补水不及时导致的SiO2成膜速率降低以及物理性质变差，提高了SiO2膜的生产效率与成品率，降低了生产成本，促进了企业的健康发展。
为解决以上技术问题，本发明的技术方案是：
LPCVD自动补水系统，包括湿氧SiO2工艺炉管，所述湿氧SiO2工艺炉管上连接有补水系统；所述补水系统包括储水罐，该储水罐通过水蒸气输出管与湿氧SiO2工艺炉管相连接，在储水罐上端还设置有高纯氮气输入管，储水罐上还设置有进水口，在进水口上安装有补水装置，储水罐下方设置有加热器，加热器上还设置有重力控制装置，重力控制装置与补水装置相连接。
进一步的，上述补水装置包括进水管，在进水管的端部固定在进水口上，在进水管上设置有两个球阀，在两个球阀之间还设置有隔膜阀，在隔膜阀上设置有空气管道，空气管道上还设置有一个球阀，空气管道上的球阀与隔膜阀之间还安装有电磁阀，补水装置通过该电磁阀与重力控制装置相连。
作为优选，所述空气管道中有高压空气，进水管中有高纯水。
再进一步的，上述重力控制装置包括设置在加热器下方的重力计，重力计上连接有重力控制器，该重力控制器还同时连接在电磁阀上。
作为优选，所述水蒸气输出管的下端管口设置在储水罐内部，且靠近储水罐上端面。
作为优选，所述高纯氮气输入管连接在高纯氮气源上，该高纯氮气输入管下端设置在储水罐内部，且靠近储水罐底面。
与现有技术相比，本发明有以下有益效果：
本发明设置有重力控制装置，能够通过储水罐中水量的多少来自行判断是否需要添加高纯水，以及调整添加高纯水的速度，利用重力控制装置来代替人工加水，能够很好的掌握加水的时间，从而大大提高了SiO2膜的生产效率与成品率，同时进一步降低了生产成本，同时还促进了企业的健康发展；本发明设置有补水装置，能够通过球阀来调整各个管路中液体或气体的固定流量，从而避免了在添加高纯水的过程中进水管不会因过大的冲击力而从进水口脱离，也保证了重力控制装置的精准性；本发明结构简单，使用方便，生产跟加工的成本较低，能够很好的进行大规模的生产与使用。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图上附图标记为：1—球阀；2—进水管；3—隔膜阀；4—重力控制器；5—进水口；6—重力计；7—加热器；8—储水罐；9—水蒸气输出管；10—高纯氮气输入管；11—电磁阀；12—空气管道。
具体实施方式
本发明的核心思路是，提供一种LPCVD自动补水系统，能够更好的控制补水的时间与补水量，避免发生补水不及时导致的SiO2成膜速率降低以及物理性质变差，提高了SiO2膜的生产效率与成品率，降低了生产成本，促进了企业的健康发展。
为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的详细说明。
实施例
如图1所示，LPCVD自动补水系统，包括湿氧SiO2工艺炉管，所述湿氧SiO2工艺炉管上连接有补水系统；所述补水系统包括储水罐8，该储水罐8通过水蒸气输出管9与湿氧SiO2工艺炉管相连接，在储水罐8上端还设置有高纯氮气输入管10，储水罐8上还设置有进水口5，在进水口5上安装有补水装置，储水罐8下方设置有加热器7，加热器7上还设置有重力控制装置，重力控制装置与补水装置相连接。
上述补水装置包括进水管2，在进水管2的端部固定在进水口5上，在进水管2上设置有两个球阀1，在两个球阀1之间还设置有隔膜阀3，在隔膜阀3上设置有空气管道12，空气管道12上还设置有一个球阀1，空气管道12上的球阀1与隔膜阀3之间还安装有电磁阀11，补水装置通过该电磁阀11与重力控制装置相连。
作为优选，所述空气管道12中有高压空气，进水管2中有高纯水。
上述重力控制装置包括设置在加热器7下方的重力计6，重力计6上连接有重力控制器4，该重力控制器4还同时连接在电磁阀11上。
作为优选，所述水蒸气输出管9的下端管口设置在储水罐8内部，且靠近储水罐8上端面。
作为优选，所述高纯氮气输入管10连接在高纯氮气源上，该高纯氮气输入管10下端设置在储水罐8内部，且靠近储水罐8底面。
使用时，先在重力控制器中对最低加水重量与最高停止重量进行设定，然后开启设备，重力控制器在高纯水重量达到或低于最低加水重量时控制电磁阀开启，使得高压空气通过电磁阀触碰隔膜阀，隔膜阀在空气压力的作用下开启，高纯水通过进水管由进水口注入储水罐中，接着重力计将储水罐中高纯水的重量实时反馈到重力控制器中，重力控制器随着高纯水重量的增加逐步关小电磁阀的开启大小，进而逐步见底高纯水的流量，当储水罐中高纯水达到停止重量时重力控制器关闭电磁阀，进而完成隔膜阀的关闭。
以上仅是本发明的优选实施方式，应当指出的是，上述优选实施方式不应视为对本发明的限制，本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的精神和范围内，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (5)
1.LPCVD自动补水系统，包括湿氧SiO2工艺炉管，其特征在于，所述湿氧SiO2工艺炉管上连接有补水系统；所述补水系统包括储水罐(8)，该储水罐(8)通过水蒸气输出管(9)与湿氧SiO2工艺炉管相连接，在储水罐(8)上端还设置有高纯氮气输入管(10)，储水罐(8)上还设置有进水口(5)，在进水口(5)上安装有补水装置，储水罐(8)下方设置有加热器(7)，加热器(7)上还设置有重力控制装置，重力控制装置与补水装置相连接，所述补水装置包括进水管(2)，在进水管(2)的端部固定在进水口(5)上，在进水管(2)上设置有两个球阀(1)，在两个球阀(1)之间还设置有隔膜阀(3)，在隔膜阀(3)上设置有空气管道(12)，空气管道(12)上还设置有一个球阀(1)，空气管道(12)上的球阀(1)与隔膜阀(3)之间还安装有电磁阀(11)，补水装置通过该电磁阀(11)与重力控制装置相连。
2.根据权利要求1所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述空气管道(12)中有高压空气，进水管(2)中有高纯水。
3.根据权利要求2所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述重力控制装置包括设置在加热器(7)下方的重力计(6)，重力计(6)上连接有重力控制器(4)，该重力控制器(4)还同时连接在电磁阀(11)上。
4.根据权利要求3所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述水蒸气输出管(9)的下端管口设置在储水罐(8)内部，且靠近储水罐(8)上端面。
5.根据权利要求4所述的LPCVD自动补水系统，其特征在于，所述高纯氮气输入管(10)连接在高纯氮气源上，该高纯氮气输入管(10)下端设置在储水罐(8)内部，且靠近储水罐(8)底面。
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