CN103500043A - 一种无须搭桥的防污ogs触摸屏及其形成方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种无须搭桥的防污OGS触摸屏，其包括透明基板、位于所述透明基板触摸面侧的防污层以及位于所述透明基板感应面侧依次形成的图案化的黑矩阵层、图案化的第一ITO层、绝缘层、图案化的第二ITO层和保护层。另一方面，本发明还提供一种无须搭桥的防污OGS触摸屏的形成方法。本发明的无须搭桥的防污OGS触摸屏及其形成方法，只用ITO层及保护层和防污镀层就能完成既能多点触摸的感应层又能完成防污镀层的保护层的单玻璃技术。具有超薄、逼真的视觉效果、触控体验佳的优点。

Description

一种无须搭桥的防污OGS触摸屏及其形成方法
技术领域
本发明涉及触摸屏应用技术领域，特别涉及一种无须搭桥的防污OGS触摸屏及其形成方法。
背景技术
单玻璃全贴合技术（One Glass Solution，OGS)是在保护玻璃上直接形成ITO氧化铟锡导电膜及传感器的技术。一块玻璃同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用。从技术层面来看,OGS技术较之目前主流的G/G触控技术具备以下优势:结构简单,轻、薄、透光性好；由于省掉一片玻璃基板以及贴合工序,利于降低生产成本、提高产品良率。目前比较主流的OGS触摸屏基本上都是金属搭桥式传感器（sensor），虽然此技术能够达到产品质量的保证，但是金属镀膜以及相应黄光工艺无疑是成本倍增、质量控制的难题。金属搭桥线在光线照射下还是能够清晰看见金属连接线发白的现象，影响了终端客户使用的玩机心情。
图1所示为现有OGS触摸屏的结构示意图，其包括透明基板10、在透明基板10上依次形成的图案化的黑矩阵层20、ITO层30、绝缘层40和保护层50，此种OGS触摸屏生产流程为：a.在透明基板10的感应面印刷或黄光车间制作黑矩阵层（BM层）；b.转至镀膜车间在感应面溅射ITO层；c.转至黄光车间在感应面进行ITO 光刻或激光刻线；d.感应面进行PI搭桥；e.至镀膜车间进行感应面金属钼铝钼（Mo-Al-Mo）镀膜；f. 对钼铝钼层进行光刻或激光刻线；g.感应面镀膜或印刷保护层。
现有此种OGS技术为金属桥接形成回路的电容触摸屏技术，虽然此技术能够达到产品质量的保证，但是生产成本投入大，良率一般，整体看上去有矩阵一样的金属连接线，给终端客户带来不舒服的感觉。
发明内容
本发明提出一种无须搭桥的防污OGS触摸屏及其形成方法，只用ITO层及保护层和防污镀层就能完成既能多点触摸的感应层又能完成防污镀层的保护层的单玻璃技术。具有超薄、逼真的视觉效果、触控体验佳的优点。本发明所采用的技术方案具体是这样实现的：
一方面，本发明提供了一种无须搭桥的防污OGS触摸屏，其包括透明基板、位于所述透明基板触摸面侧的防污层以及位于所述透明基板感应面侧依次形成的图案化的黑矩阵层、图案化的第一ITO层、绝缘层、图案化的第二ITO层和保护层。
优选地，所述黑矩阵层采用印刷或者光刻工艺形成。
优选地，所述第一ITO层和所述第二ITO层均采用磁控溅射工艺形成。
优选地，所述图案化的第一ITO层和所述第二ITO层采用光刻或者激光刻线工艺形成。
优选地，所述防污层采用磁控溅射工艺形成。
另一方面，本发明还提供一种无须搭桥的防污OGS触摸屏的形成方法，其包括步骤：
1）在透明基板的感应面侧采用印刷或者光刻工艺制作图案化的黑矩阵层；
2）接着在具有图案化的黑矩阵层上形成第一ITO层；
3）对第一ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第一ITO层；
4）在图案化的第一ITO层上形成绝缘层；
5）在绝缘层上形成第二ITO层；
6）在透明基板的触摸面侧形成防污层；
7）对第二ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第二ITO层；
8）在透明基板的感应面侧溅射或者印刷保护层。
优选地，所述步骤6）中采用溅射工艺形成防污层。
本发明的无须搭桥的防污OGS触摸屏及其形成方法，只用ITO层及保护层和防污镀层就能完成既能多点触摸的感应层又能完成防污镀层的保护层的单玻璃技术。具有超薄、逼真的视觉效果、触控体验佳的优点。
附图说明
图1是现有OGS触摸屏的结构示意图。
图2是本发明具体实施例的无须搭桥的防污OGS触摸屏的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明，使本发明的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。
图2是本发明具体实施例的无须搭桥的防污OGS触摸屏的结构示意图。如图2所示，本发明具体实施例的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其包括透明基板100、位于透明基板100触摸面侧的防污层700以及位于透明基板100感应面侧依次形成的图案化的黑矩阵层200、图案化的第一ITO层300、绝缘层400、图案化的第二ITO层500和保护层600。
本发明具体实施例中，优选地，黑矩阵层200采用印刷或者光刻工艺形成，第一ITO层300和第二ITO层500均采用磁控溅射工艺形成，图案化的第一ITO层300和第二ITO层500采用光刻或者激光刻线工艺形成，防污层700采用磁控溅射工艺形成。
本发明具体实施例的无须搭桥的防污OGS触摸屏的形成方法，其包括步骤：
1）在透明基板的感应面侧采用印刷或者光刻工艺制作图案化的黑矩阵层；
2）接着在具有图案化的黑矩阵层上形成第一ITO层；
3）对第一ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第一ITO层；
4）在图案化的第一ITO层上形成绝缘层；
5）在绝缘层上形成第二ITO层；
6）在透明基板的触摸面侧形成防污层；
7）对第二ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第二ITO层；
8）在透明基板的感应面侧溅射或者印刷保护层。
优选地，所述步骤6）中采用溅射工艺形成防污层。
本发明的无须搭桥的防污OGS触摸屏及其形成方法，只用ITO层及保护层和防污镀层就能完成既能多点触摸的感应层又能完成防污镀层的保护层的单玻璃技术。具有超薄、逼真的视觉效果、触控体验佳的优点。同时，本发明是一种能在感应面（不需要搭桥导通）多点触控、触控面防指纹油污的OGS触摸屏。本发明不仅降低生产成本，而且量产化良率高，触摸面的防指纹、防污镀层，终端用户再也不用花几十元去贴膜了。另外，本发明还具有以下有益效果：1.只用单层的保护玻璃就可以完成触控的功能；2.Sensor做在保护玻璃上；3.真正的单层结构，不搭桥，没有矩阵排列的金属桥接线；3.最简单的生产工艺；4.生产良率高，满足最大的尺寸生产能力；5.最薄，最轻的结构；6.最好的光学效果；7.最低材料成本；8.最大的触控面板产出能力；9.使用终端最好的触控体验及视觉效果；10.多点触控，玩游戏有更好的体验。
在以上的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是以上描述仅是本发明的较佳实施例而已，本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，因此本发明不受上面公开的具体实施的限制。同时任何熟悉本领域技术人员在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (7)

1.一种无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，包括透明基板、位于所述透明基板触摸面侧的防污层以及位于所述透明基板感应面侧依次形成的图案化的黑矩阵层、图案化的第一ITO层、绝缘层、图案化的第二ITO层和保护层。
2.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述黑矩阵层采用印刷或者光刻工艺形成。
3.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述第一ITO层和所述第二ITO层均采用磁控溅射工艺形成。
4.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述图案化的第一ITO层和所述第二ITO层采用光刻或者激光刻线工艺形成。
5.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述防污层采用磁控溅射工艺形成。
6.一种无须搭桥的防污OGS触摸屏的形成方法，其特征在于，包括步骤：
1）在透明基板的感应面侧采用印刷或者光刻工艺制作图案化的黑矩阵层；
2）接着在具有图案化的黑矩阵层上形成第一ITO层；
3）对第一ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第一ITO层；
4）在图案化的第一ITO层上形成绝缘层；
5）在绝缘层上形成第二ITO层；
6）在透明基板的触摸面侧形成防污层；
7）对第二ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第二ITO层；
8）在透明基板的感应面侧溅射或者印刷保护层。
7.根据权利要求6所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏的形成方法，其特征在于，所述步骤6）中采用溅射工艺形成防污层。
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