CN103477845B

CN103477845B - 一种石斛兰冷库催花的方法

Info

Publication number: CN103477845B
Application number: CN201310436743.9A
Authority: CN
Inventors: 王燕君; 刘伟; 谭志勇; 张乐萍; 王亚平; 闻真珍; 刘运权
Original assignee: DONGGUAN INSTITUTE OF FOOD FOR FLOWERS; South China Agricultural University
Current assignee: DONGGUAN INSTITUTE OF FOOD FOR FLOWERS; South China Agricultural University
Priority date: 2013-09-23
Filing date: 2013-09-23
Publication date: 2014-12-17
Anticipated expiration: 2033-09-23
Also published as: CN103477845A

Abstract

本发明公开了一种利用冷库进行春石斛催花的方法，选择止叶展开的植株，在风机水帘大棚栽培60天，促使假鳞茎达到完全成熟状态；再进行冷库低夜温处理30天，日间置于具有于风机水帘的标准大棚培养。处理结束后于风机水帘大棚培养约68~72天后开始开花，植株催花率100%，平均每假鳞茎开花节数6.2~7.3个，花数14.5~17.5朵，花期42~50天。本发明解决了传统催花中基地建设选址困难，运输过程成本高且损耗大且不同年份之间催花品质不一等诸多问题。

Description

一种石斛兰冷库催花的方法

技术领域

本发明涉及植物栽培技术领域，尤其涉及一种春石斛催花的方法。

背景技术

石斛兰（Dendrobium）为兰科石斛属植物的统称，园艺学上根据其开花时间、花朵着生部位及叶片宿存情况等分为春石斛和秋石斛两类。石斛花形、花姿优美，艳丽多彩，种类繁多，花期长，深受各国人民喜爱和关注，在国际花卉市场上占有重要的位置，为世界四大观赏兰之一。春石斛更为著名的观赏盆花，不少品种兼具洋兰的艳丽和国兰的清香，市场潜力巨大。

春石斛常在春季开花，花期长达1～2个月。世界各地均有一定市场，而以欧美、日韩需求较多。国内各地市场亦有相当规模。

由于春节是我国花卉需求最高的时期，且该时期消费者在花卉上的消费较高，因而要使春石斛能够提前开花，成为“应节”花卉，才能有更好的市场。为解决这一问题，传统的方法是高山催花，条件是在十月初高山催花基地的夜温达到14℃或更低，这就要求催花地要有较高的海拔，加之催化基地建设的其他要求，往往会距栽培生产基地较远，运输和损耗大幅度提高了成品花卉的成本，且由于自然温度会出现各年之间的差异，造成不同年份催花效果的差异，进而影响到不同年份花卉品质。通过冷库催花，可以有效解决这一问题，并降低损耗，保证不同年份花卉品质的一致性，具有良好的推广前景。

发明内容

本发明的目的是提供一种新的科学的利用冷库进行石斛兰催花的方法，解决了石斛兰尤其是春石斛高山基地催花所带来的运输和损耗问题，保证了不同年份成花品质的一致。

本发明目的通过以下技术方案来予以实现：

一种石斛兰冷库催花的方法，选择止叶完全展开的的石斛兰植株；

第一阶段：在风机水帘大棚栽培60天，期间控制光照强度20000lx；湿度50～80%；温度25～32度，施植物生长调节剂S3307，促使假鳞茎达到完全成熟状态；

第二阶段：夜间冷库低温处理30天，日间维持正常生长栽培条件；夜间冷库处理温度为5～10℃；日间正常的栽培条件为风机水帘大棚栽培，控制光照强度20000lx；湿度60～80%，温度15～28度，且日温最高勿超30℃；

第三阶段：在风机水帘大棚栽培，控制光照强度20000lx；湿度60～80%，温度15～28度，且日温最高勿超30℃，直至开花；

所述的假鳞茎完全成熟的石斛兰植株为春石斛品种甜心。

所述第一阶段的假鳞茎成熟时间为止叶完全展开后再培养60天，且栽培环境光照强度为20000lx；温度25～32℃。

所述第一阶段的培养过程中施用S3307，使用时间为止叶展开30天后开始，每10天1次，连续施用3次，使用浓度为15～25mg/L，方法为叶面喷施。

所述第二阶段的夜间冷库低温处理时长为每天13小时。

所述第三阶段的风机水帘大棚栽培的温度为15-28度，光照强度20000lx；湿度60～80%。

S3307，即烯效唑：(E)-1-对氯苯基-2-(1,2,4-三唑-1-基)-4,4-二甲基-1-戊烯-3-醇

本方法应用于石斛兰的花期调控。

本发明具有以下有益效果：

本发明解决了传统催花中基地建设选址困难，运输过程成本高且损耗大且不同年份之间催花品质不一等诸多问题。

春石斛催花过程中，需要一个夜温低于14℃的春化过程，且不同品种间存在一定的差异，该过程需要持续25～40天，在低温处理过程中，日间温度不能过高，长时间超过28℃，或经常出现30℃以上的高温，会使催花过程逆转，严重影响催化效果。本发明选择止叶完全展开的植株，通过环境控制及施用S3307促进假鳞茎完全成熟，再利用冷库提供春石斛花芽分化所需要的低温，通过水帘温室大棚控制日间温度并保持植株处于良好的生长环境，达到植株催花率100%，平均每假鳞茎开花节数6.2～7.3个，花数14.5～17.5朵/假鳞茎，花期42～50天的效果。

具体实施方式

下面结合具体实施例来进一步说明本发明。

实施例1

选取止叶完全展开的的石斛兰植株20株，未经第一阶段第二阶段处理，直接置于具有于风机水帘大棚培养，作为对照，与第三阶段环境条件相同。处理结束后112天后开始开花，植株开花率85%，平均每假鳞茎开花节数4.9个，节正常开花率为47.6%，花数12.7朵/假鳞茎，平均花期34.8天。

实施例2

选取止叶完全展开的的石斛兰植株20株，未经第一阶段处理，直接冷库低夜温处理30天，夜温10℃，处理时间为13小时/天；日间置于具有于风机水帘大棚培养。处理结束后于上述标准大棚培养68天后开始开花，植株催花率100%，平均每假鳞茎开花节数5.2个，节正常开花率为52.4%，花数9.5朵/假鳞茎，花期42天以上。

实施例3

选取止叶完全展开的的石斛兰植株20株，经第一阶段处理后，再冷库低夜温处理30天，夜温5℃，处理时间为13小时/天；日间置于风机水帘大棚培养。处理结束后于上述标准大棚培养72天后开始开花，植株催花率100%，平均每假鳞茎开花节数7.3个，节正常开花率为63.3%，花数17.5朵/假鳞茎，花期50天。

实施例4

选取止叶完全展开的的石斛兰植株20株，经第一阶段处理后，再冷库低夜温处理30天，夜温10℃，处理时间为13小时/天；日间置于具有于风机水帘大棚培养。处理结束后于上述标准大棚培养68天后开始开花，植株催花率100%，平均每假鳞茎开花节数6.2个，节正常开花率为62.4%，花数14.5朵/假鳞茎，花期42天以上。

实施例5

选取止叶完全展开的的石斛兰植株20株，经第一阶段处理后，再冷库低夜温处理30天，夜温5℃，处理时间为13小时/天；日间置于风机水帘并附加空调的大棚培养，控制温度为25℃。处理结束后77天后开始开花，植株催花率100%，平均每假鳞茎开花节数5.2个，节正常开花率为44.9%，花数11.7朵/假鳞茎，花期50天。

实施例6

选取止叶完全展开的的石斛兰植株20株，经第一阶段处理后，再冷库低夜温处理30天，夜温10℃，处理时间为13小时/天；日间置于风机水帘并附加空调的大棚培养，控制温度为25℃。处理结束后70天后开始开花，植株催花率100%，平均每假鳞茎开花节数7.0个，节正常开花率为64.4%，花数17.5朵/假鳞茎，花期43天。

以上所述并非对本新型的技术范围作任何限制，凡依据本发明技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明的技术方案的范围内。

Claims

1.一种石斛兰冷库催花的方法，其特征在于选择止叶完全展开的石斛兰植株，

第一阶段：在风机水帘大棚栽培60 天，期间控制光照强度20000lx；湿度50~80%；温度25~32 度，施植物生长调节剂S3307，促使假鳞茎达到完全成熟状态；

第二阶段：夜间冷库低温处理30 天，日间维持正常生长栽培条件；夜间冷库处理温度为5~10℃；日间正常的栽培条件为风机水帘大棚栽培，控制光照强度20000lx；湿度60~80%，温度15~28 度，且日温最高勿超30℃；

第三阶段：在风机水帘大棚栽培，控制光照强度20000lx；湿度60~80%，温度15~28 度，且日温最高勿超30℃，直至开花；

在第一阶段的培养过程中施用S3307，使用时间为止叶展开30 天后开始，每10 天1 次，连续施用3 次，使用浓度为15~25mg/L，方法为叶面喷施。

2.根据权利要求1 所述的一种石斛兰冷库催花的方法，其特征在于：所述的止叶完全展开的石斛兰植株为春石斛品种甜心。

3.根据权利要求1 所述的一种石斛兰冷库催花的方法，其特征在于：第二阶段的夜间冷库低温处理时长为每天13 小时，温度为5~10 度。

4.根据权利要求1 所述一种石斛兰冷库催花的方法，其特征在于应用于石斛兰的花期调控。