CN103471505A - 过孔的检测方法和检测装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种过孔的检测方法和检测装置，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：向所述过孔的内壁发射入射光线；接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。本发明提供的检测方法利用了光的干涉原理，实现了对过孔的实时检测，更重要的是，该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

Description

过孔的检测方法和检测装置

技术领域

本发明涉及显示面板加工领域，特别涉及一种过孔的检测方法和检测装置。

背景技术

目前在对显示面板进行加工时，为了部件之间的连线方便，会在显示面板上的膜层中形成一些过孔，导线通过过孔将部件连接起来，其中，膜层会包括若干个子膜层。

在对过孔进行刻蚀的过程中，相邻的子膜层的交界处容易出现过度刻蚀的现象，进而会在过孔的内壁出现倒角（undercut）的问题，因此，在对过孔加工完成后需要对过孔的内壁进行检测。其中，对过孔的检测包括对过孔的内壁平整度的检测以及对过孔的内壁倾斜角的检测。

图1为过孔的结构示意图，图2为合格过孔的内壁的示意图，如图1和图2所示，在衬底基材3上形成有膜层2，过孔设置于膜层2中，具体地，贯穿膜层2形成该过孔。其中膜层2包括多个材料相同子膜层21，合格过孔的内壁1是平整的，内壁1与衬底基材3呈一定的内壁倾斜角。其中，衬底基材3可为金属膜层或基板。图3为过孔的内壁出现倒角的示意图，如图3所示，在衬底基材3上形成有膜层2，在内壁1上出现缺口4，即内壁1上产生了倒角的问题，使得内壁1不平整。

在现有技术中，在对过孔的内壁平整度进行检测以及过孔的内壁倾斜角进行检测时，需要先将带有过孔的产品进行切割取样，然后进行扫描电镜（scanning electron microscope，简称SEM）测试，进而检测出过孔的内壁平整度为平整或不平整，或者检测出过孔的内壁倾斜角等于预先设定角或不等于预先设定角。

由上述内容可知，现有的过孔检测技术无法实时的检测过孔，只能是在对过孔加工完成后才能进行检测，更重要的是现有的过孔检测技术是一种破坏性检测技术，需要将带有过孔的产品进行切割取样后再进行检测，从而破坏了待测试的产品，使得产品完全报废，造成不必要的损失。

发明内容

本发明提供一种过孔的检测方法和检测装置，该检测方法能实现对过孔的实时检测，更重要的是该检测方法不用破坏待检测的产品。

为实现上述目的，本发明提供一种过孔的检测方法，其中，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：

向所述过孔的内壁发射入射光线；

接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；

根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；

根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。

可选地，所述向所述过孔的内壁发射入射光线之前，还包括：获取所述过孔的坐标位置。

可选地，所述内壁参数包括：内壁平整度，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括：

判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹；

若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则检测出所述内壁平整度为平整；

若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则检测出所述内壁平整度为不平整。

可选地，所述内壁参数包括内壁倾斜角，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括：

根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N；

根据所述干涉条纹的总数，通过

计算出所述内壁倾斜角，其中λ为入射光线的波长，n为膜层的折射率，L为发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度。

可选地，所述向所述过孔的内壁发射入射光线之前还包括：

调整发射所述入射光线的光源的位置，使得发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。

可选地，所述根据所述干涉条纹的总数，通过

计算出所述内壁倾斜角之后，还包括：

判断所述内壁倾斜角是否等于预先设定角；

若判断出所述内壁倾斜角等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角合格；

若判断出所述内壁倾斜角不等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角不合格。

为实现上述目的，本发明还提供一种过孔的检测装置，其中所述过孔设置于膜层中，所述检测装置包括：

发射装置，用于向所述过孔的内壁发射入射光线；

接收装置，用于接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；

生成装置，用于根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；

检测子装置，用于根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。

可选地，所述内壁参数包括：内壁平整度，所述检测子装置包括：

第一判断装置，用于判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹；

第一判定装置，用于若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为平整；

第二判定装置，用于若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为不平整。

可选地，所述内壁参数包括内壁倾斜角，所述检测子装置包括：

获取模块，用于根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N；

计算模块，用于根据所述干涉条纹的总数，通过

计算出所述内壁倾斜角，其中λ为入射光线的波长，n为膜层的折射率，L为发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度。

可选地，所述检测装置还包括：

调整装置，用于调整发射所述入射光线的光源的位置，使得发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。

可选地，所述检测装置还包括：

第二判断装置，用于判断所述内壁倾斜角是否等于预先设定角；

第三判定装置，用于若判断出所述内壁倾斜角等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角合格；

第四判定装置，用于若判断出所述内壁倾斜角不等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角不合格。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供一种过孔的检测方法和检测装置，该检测方法利用光的干涉原理，实现了对过孔的实时检测，更重要的是该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

附图说明

图1为过孔的结构示意图；

图2为合格过孔的内壁的示意图；

图3为过孔的内壁出现倒角的示意图；

图4为本发明实施例一提供的检测方法的流程图；

图5为本发明实施例一提供的检测方法的原理图；

图6为本发明提供一种过孔的检测方法的流程图；

图7为图2所示内壁对应的干涉图样的示意图；

图8为图3所示内壁对应的干涉图样的示意图；

图9为利用本发明实施例二提供的过孔检测方法对衬底基材上的过孔进行定点测试的示意图；

图10为本发明实施例三提供的一种过孔的检测方法的流程图；

图11为发射到内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L的示意图；

图12为利用本发明实施四提供的过孔的检测装置进行检测的示意图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的过孔的检测方法和检测装置进行详细描述。

图4为本发明实施例一提供的检测方法的流程图，图5为本发明实施例一提供的检测方法的原理图，如图4和图5所示，其中，过孔设置于膜层2中，具体地，贯穿膜层2形成该过孔，该检测方法包括：

步骤101：向所述过孔的内壁发射入射光线。

其中，本步骤101可以由发射装置执行，发射装置用于向内壁1发射出若干条平行的入射光线，发射装置为面光源。

步骤102：接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线。

入射光线发射到内壁1上后，部分入射光线会经过内壁1的上表面进行反射，形成第一反射光线；另一部分的入射光线会射入至膜层2内，在膜层2的下表面进行反射，再通过内壁1的下表面射出，形成第二反射光线。

其中，本步骤102可以由接收装置执行，通过调整接收装置的位置，使得接收装置能接收到第一反射光线和第二反射光线。

步骤103：根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样。

由于第一反射光线和第二反射光线均是由入射光线经过反射形成，则第一反射光线和第二反射光线为相干光，因此第一反射光线和第二反射光线可以产生干涉现象，进而形成干涉图样。

步骤104：根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。

通过干涉图样检测出过孔的内壁参数，而内壁参数可直接反映出过孔是否合格。

需要说明的是，本发明提供的过孔的检测方法不仅可以在过孔刻蚀完成后进行检测，而且还能在过孔刻蚀的过程中进行检测，因此本发明提供的检测方法可用来实现对过孔刻蚀过程的监控。

本发明实施例一提供了一种过孔的检测方法，该检测方法利用了光的干涉原理形成干涉图样，从而获得过孔的内壁参数，本实施例一提供的过孔的检测方法实现了对过孔的实时检测，更重要的是该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

实施例二

图6为本发明提供一种过孔的检测方法的流程图，如图6所示，其中，过孔设置于膜层中，该检测方法包括：

步骤201：获取所述过孔的坐标位置。

步骤202：向所述过孔的内壁发射入射光线。

步骤203：接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线。

步骤204：据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样。

步骤205：判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹。

若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则执行步骤205；若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则执行步骤206。

步骤206：判定所述内壁平整度为平整，流程结束。

由于合格过孔的内壁高度呈现的是均匀的、逐渐的变化，则此时产生的干涉图样为直的、等间距的干涉条纹。图7为图2所示内壁对应的干涉图样的示意图，如图7所示，该干涉图样由明暗相间的直条纹组成，且条纹总数为M，M为正整数，而且相邻条纹的间距是相等的。其中，相邻条纹的间距指的是一条亮条纹中心线与相邻的一条暗条纹的中心线的距离。需要说明的是，图7只是干涉图样的示意图，图7中的明条纹数量和暗条纹的数量不作为参考。

因此，当干涉图样中未包括弯曲的干涉图样时，则可判定出内壁平整度为平整。

步骤207：判定所述内壁平整度为不平整。

而不合格过孔在不平整处的内壁的高度会产生突变，从而导致此时产生的干涉图样中包含有弯曲的干涉条纹。图8为图3所示内壁对应的干涉图样的示意图，如图8所示，该干涉图样中干涉条纹总数为M，且该干涉图样中包含了至少一条弯曲的干涉条纹,具体的，第K条条纹和第K+1条条纹弯曲，其中M和K均为正整数。由于图3所示的内壁有缺口，使得由内壁反射出的第一反射光线和由膜层反射出的第二反射光线的光程差，与经合格过孔的内壁反射出的第一反射光线和由膜层反射出的第二反射光线的光程差不同，因此导致了干涉图样中第K条条纹和第K+1条条纹的弯曲。

因此，当干涉图样中包括弯曲的干涉图样时，则可判定出内壁平整度为不平整。

步骤208：判断所述内壁的不平整处为缺口还是凸起，流程结束。

本发明还能根据干涉图样的弯曲方向来判断内壁的不平整处为缺口还是凸起。下面结合图3和图8进行详细的阐述。其中，图3所示过孔的内壁的底端对应图8中干涉图样的第一条条纹，该第一条条纹为暗条纹，随着内壁的高度的升高，在图8中逐渐出现明暗相间的干涉条纹，内壁的顶端对应图8中干涉图样的第M条条纹。需要说明的是，第M条条纹可能为暗条纹也可能为亮条纹，图8所示的是第M条条纹为暗条纹的情况。在图8中，若弯曲的干涉条纹向内壁的高度减小的方向弯曲，则判断出该弯曲的干涉条纹对应于内壁上的不平整处为缺口，若干涉条纹向内壁的高度增大的方向弯曲，则判断出该弯曲的干涉条纹对应于内壁上的不平整处为凸起。以在图8所示的情况为例，内壁的高度减小的方向即是向右方向，而高度内壁的高度增大的方向即为向左方向，则由于图8中第K条条纹和第K+1条条纹的弯曲均向右弯曲，则对应于图3中的不平整处为缺口，即可判断过孔出现倒角的问题。

在对过孔进行刻蚀时，采用本发明实施例二提供的检测方法可以按照设定的时间间隔获取相应的干涉图样，根据干涉图样中是否包含弯曲的干涉条纹来判断过孔的内壁平整度。因此，本发明实施例二提供的过孔的检测方法可用于实时监测过孔的刻蚀过程，从而实现对过孔的实时检测。

在实际应用中，本发明实施例二提供的过孔检测方法可对衬底基材上的过孔进行定点测试，图9为利用本发明实施例二提供的过孔检测方法对衬底基材上的过孔进行定点测试的示意图，如图9所示，将带有过孔的显示面板置于一个二维坐标系中，具体的，以显示面板的一个角点作坐标原点，因此可以对显示面板上的每一个过孔进行坐标标识，即每一个过孔对应一个坐标，如图中坐标点（X1，Y1），按照预先设定的检测顺序，对显示面板上的过孔进行检测。在对每个过孔检测完后的，将该过孔的坐标以及对应的检测结果传输至后台的数据处理模块。数据处理模块可根据过孔的坐标和对应的内壁平整度，利用数据图像处理技术生成该显示面板的上所有过孔的检测结果的最终示意图，该最终示意图直观的显示出不合格的过孔的坐标，检测人员可根据该最终示意图直接知晓不合格过孔的位置，以便对不合格的过孔作进一步的处理和研究。

本发明实施例二提供了一种过孔的检测方法，该检测方法利用了光的干涉原理形成干涉图样，从而获得过孔的内壁平整度，内壁平整度直接反映出过孔是否合格，本实施例二提供的过孔的检测方法实现了对过孔的内壁平整度的实时检测，更重要的是该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

实施例三

图10为本发明实施例三提供的一种过孔的检测方法的流程图，如图10所示，其中，过孔设置于膜层中，该检测方法包括：

步骤301：调整发射所述入射光线的光源的位置，使得发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。

图11为发射到内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L的示意图，如图11所示，由于提供入射光线的光源为面光源，因此可使得内壁1上的某一个区域都被入射光线照射，且该区域在水平方向上对应的宽度为L。

实现发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L的方法有多种，可选地，步骤301包括：

步骤3011：对过孔进行色差分析，找到内壁的最底端。

由于膜层与衬底基材的颜色有明显的不同，因此在膜层最底端与衬底基材的交接处有明显的色差，同时，内壁的最底端也与衬底基材的交界处有明显的色差，通过色差分析可以很容易找到内壁的最底端。

步骤3012：调整入射光线的位置，使得入射光线发射到内壁的最底端。

在找到内壁最底端后，通过调整入射光线的位置，使得在内壁上只有最底端被入射光线照射到，同时由于提供入射光线的光源为面光源，因此衬底基材会部分被入射光线发射到。需要说明的是，本实施例中的光源为实施例一中的发射装置。

步骤3013：调整产生入射光线的光源的位置，使得光源水平移动设定宽度L。

由于光源水平移动设定宽度L，则光源发射出入射光线会发射到内壁上的部分位置，且发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度也为设定宽度L。

步骤302：向所述过孔的内壁发射入射光线。

光源的位置调整好后，再向过孔发射入射光线，且此时发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度必然等于设定宽度L。

步骤303：接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线。

步骤304：据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样。

步骤305：根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N。

第一反射光线和第二反射光线的产生的干涉图样，且该干涉图样中包含了N条干涉条纹。

步骤306：根据所述干涉条纹的总数，通过

计算出所述内壁倾斜角，其中，λ为入射光线的波长，n为膜层的折射率，L为发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度。

下面结合图11对内壁倾斜角的计算公式进行详细描述，首先根据入射光线的波长λ、膜层的折射率n以及干涉条纹的总数N可以计算出第N条干涉条纹对应的内壁的高度d，其中

又因为

通过上述两个式子可以算出内壁倾斜角

步骤307：判断所述内壁倾斜角是否等于预先设定角。

若判断出所述内壁倾斜角等于预先设定角，则执行步骤308；若判断出所述内壁倾斜角不等于预先设定角，则执行步骤309。

步骤308：判定所述内壁倾斜角合格，流程结束。

步骤309：判定所述内壁倾斜角不合格，流程结束。

本发明实施例三与上述实施例二的检测方法的不同之处在于，上述实施例二是通过判断对干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹来检测内壁平整度，从而实现对过孔的检测；而本实施例三是通过干涉图样中干涉条纹的总数来计算出内壁倾斜角，从而实现对过孔的检测。因此，在一定条件下，在检测内壁倾斜角的同时可检测内壁平整度，或者在检测内壁平整度的同时可检测内壁倾斜角。

本发明实施例三提供了一种过孔的检测方法，该检测方法利用了光的干涉原理形成干涉图样，并根据干涉图样中的干涉条纹总数计算出内壁倾斜角，内壁倾斜角直接反映出过孔是否合格，本实施例三提供的过孔的检测方法实现了对过孔的内壁倾斜角的实时检测，更重要的是该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

实施例四

图12为利用本发明实施四提供的过孔的检测装置进行检测的示意图，如图12所示，该检测装置包括：发射装置5、接收装置6、生成装置7和检测子装置8。

其中，发射装置5用于向过孔的内壁1发射入射光线；接收装置6用于接收由内壁1反射形成的第一反射光线和由膜层2反射形成的第二反射光线；生成装置7用于根据第一反射光线和第二反射光线生成干涉图样；检测子装置8用于根据干涉图样检测过孔的内壁参数。

本发明实施例四提供的过孔的检测装置在对过孔进行检测时可采用上述实施例一中提供的检测方法得以实现，具体检测过程可参见上述实施例一中的描述，此处不再赘述。

本发明实施例四提供了一种过孔的检测装置，该检测装置利用了光的干涉原理形成干涉图样，从而获得过孔的内壁参数，本实施例四提供的过孔的检测装置实现了对过孔的实时检测，更重要的是在利用该检测装置对过孔进行检测时不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

实施例五

本发明实施例五提供了一种的过孔的检测装置，检测装置包括：发射装置、接收装置、生成装置和检测子装置，检测子装置包括：第一判断装置、第一判定装置和第二判装置。

其中，发射装置用于向过孔的内壁发射入射光线；接收装置用于接收由内壁反射形成的第一反射光线和由膜层反射形成的第二反射光线；生成装置用于根据第一反射光线和第二反射光线生成干涉图样；第一判断装置用于判断干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹；第一判定装置用于若判断出干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则判定内壁平整度为平整；第二判定装置用于若判断出干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则判定内壁平整度为不平整。

本发明实施例五提供的过孔的检测装置在对过孔进行检测时可采用上述实施例二中提供的检测方法得以实现，具体检测过程可参见上述实施例二中的描述，此处不再赘述。

本发明实施例五提供了一种过孔的检测装置，该检测装置利用了光的干涉原理形成干涉图样，从而获得过孔的内壁平整度，内壁平整度直接反映出过孔是否合格，本实施例五提供的过孔的检测装置实现了对过孔的内壁平整度的实时检测，更重要的是在利用该检测装置对过孔进行检测时不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

实施例六

本发明实施例六提供了一种的过孔的检测装置，检测装置包括：发射装置、接收装置、生成装置和检测子装置，检测子装置包括：获取模块和计算模块。

其中，发射装置用于向过孔的内壁发射入射光线；接收装置用于接收由内壁反射形成的第一反射光线和由膜层反射形成的第二反射光线；生成装置用于根据第一反射光线和第二反射光线生成干涉图样；获取模块用于根据干涉图样获取干涉图样中干涉条纹的总数N；计算模块用于根据干涉条纹的总数，通过计算出内壁倾斜角，其中λ为入射光线的波长，n为膜层的折射率，L为发射到内壁上的入射光线的水平宽度。

可选地，该检测装置还包括：调整装置，该调装置用于调整发射装置的位置，使得发射到内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。

可选地，该检测装置还包括：第二判断装置、第三判定装置和第四判定装置。

其中，第二判断装置用于判断内壁倾斜角是否等于预先设定角；第三判定装置用于若判断出内壁倾斜角等于预先设定角，则判定内壁倾斜角合格；第四判定装置，用于若判断出内壁倾斜角不等于预先设定角，则判定内壁倾斜角不合格。

本发明实施例六提供的过孔的检测装置在对过孔进行检测时可采用上述实施例三中提供的检测方法得以实现，具体检测过程可参见上述实施例三中的描述，此处不再赘述。

本发明实施例六提供了一种过孔的检测装置，该检测装置利用了光的干涉原理形成干涉图样，并根据干涉图样中的干涉条纹总数计算出内壁倾斜角，内壁倾斜角直接反映出过孔是否合格，本实施例六提供的过孔的检测装置实现了对过孔的内壁平整度的实时检测，更重要的是在利用该检测装置对过孔进行检测时不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种过孔的检测方法，其特征在于，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：

向所述过孔的内壁发射入射光线；

接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；

根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；

根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。

2.根据权利要求1所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述向所述过孔的内壁发射入射光线之前，还包括：

获取所述过孔的坐标位置。

3.根据权利要求1所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述内壁参数包括：内壁平整度，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括：

判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹；

若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为平整；

若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为不平整。

4.根据权利要求1所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述内壁参数包括内壁倾斜角，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括：

根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N；

根据所述干涉条纹的总数，通过

计算出所述内壁倾斜角，其中λ为入射光线的波长，n为膜层的折射率，L为发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度。

5.根据权利要求4所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述向所述过孔的内壁发射入射光线之前还包括：

调整发射所述入射光线的光源的位置，使得发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。

6.根据权利要求4所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述根据所述干涉条纹的总数，通过

计算出所述内壁倾斜角之后，还包括：

判断所述内壁倾斜角是否等于预先设定角；

若判断出所述内壁倾斜角等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角合格；

若判断出所述内壁倾斜角不等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角不合格。

7.一种过孔的检测装置，其特征在于，所述过孔设置于膜层中，所述检测装置包括：

发射装置，用于向所述过孔的内壁发射入射光线；

接收装置，用于接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；

生成装置，用于根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；

检测子装置，用于根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。

8.根据权利要求7所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述内壁参数包括：内壁平整度，所述检测子装置包括：

第一判断装置，用于判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹；

第一判定装置，用于若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为平整；

第二判定装置，用于若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为不平整。

9.根据权利要求7所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述内壁参数包括内壁倾斜角，所述检测子装置包括：

获取模块，用于根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N；

计算模块，用于根据所述干涉条纹的总数，通过

计算出所述内壁倾斜角，其中λ为入射光线的波长，n为膜层的折射率，L为发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度。

10.根据权利要求9所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括：

调整装置，用于调整发射所述入射光线的光源的位置，使得发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。

11.根据权利要求9所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括：

第二判断装置，用于判断所述内壁倾斜角是否等于预先设定角；

第三判定装置，用于若判断出所述内壁倾斜角等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角合格；

第四判定装置，用于若判断出所述内壁倾斜角不等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角不合格。

Images