CN103423748A - 一种立式垃圾焚烧炉 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种立式垃圾焚烧炉,包括焚烧炉本体,焚烧炉本体侧壁上设有垃圾进口,焚烧炉本体底端设有垃圾出口,焚烧炉本体内部设有垃圾粉碎室、焚烧室和烟雾处理室,垃圾粉碎室内设有粉碎器,粉碎器靠近垃圾进口处,垃圾粉碎室位于焚烧室一侧,烟雾处理室位于焚烧室顶端,焚烧室内设有燃烧机,焚烧炉本体一侧上端设有烟雾出口。本发明的有益效果是:结构设计合理,垃圾先通过粉碎机进行粉碎,然后再进入燃烧室进行燃烧,使得垃圾燃烧充分,燃烧后的烟雾进入烟雾处理室,通过磁过滤器进行过滤,将有害物质吸收,排出的烟雾不污染环境。
Description
技术领域
本发明涉及一种焚烧炉,尤其涉及一种立式垃圾焚烧炉。
背景技术
垃圾处理问题一直是全世界关注的重大环境问题。传统的垃圾处理方式主要有填埋和焚烧两种方式。填埋会占用大量宝贵的土地资源,同时污染环境,因而这种简单的处理方式已基本不再采用。与填埋处理相比,垃圾焚烧是一种较好的处理方式。但是现有的焚烧炉在焚烧过程中,容易产生有毒物质,对坏境造成了污染,同时在燃烧过程中,垃圾容易出现燃烧不充分的现象。
因此,为解决上述问题,特提供一种新的技术方案来满足需求。
发明内容
本发明提供一种立式垃圾焚烧炉。
本发明采用的技术方案是:
一种立式垃圾焚烧炉,包括焚烧炉本体,所述焚烧炉本体侧壁上设有垃圾进口,所述焚烧炉本体底端设有垃圾出口,所述焚烧炉本体内部设有垃圾粉碎室、焚烧室和烟雾处理室,所述垃圾粉碎室内设有粉碎器,所述粉碎器靠近垃圾进口处,所述垃圾粉碎室位于焚烧室一侧,所述烟雾处理室位于焚烧室顶端,所述焚烧室内设有燃烧机,所述焚烧炉本体一侧上端设有烟雾出口。
所述烟雾处理室内设有磁过滤器。
所述焚烧炉本体顶端设有检修口。
所述烟雾出口与烟雾处理室连通。
本发明的有益效果是:结构设计合理,垃圾先通过粉碎机进行粉碎,然后再进入燃烧室进行燃烧,使得垃圾燃烧充分,燃烧后的烟雾进入烟雾处理室,通过磁过滤器进行过滤,将有害物质吸收,排出的烟雾不污染环境。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
图1为本发明的结构示意图。
其中:1、焚烧炉本体,2、垃圾进口,3、垃圾出口,4、垃圾粉碎室,5、焚烧室,6、烟雾处理室,7、粉碎器,8、燃烧机,9、烟雾出口,10、磁过滤器,11、检修口。
具体实施方式
为了加深对本发明的理解,下面将结合实施例和附图对本发明作进一步详述,该实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定。
如图1所示,本发明的一种立式垃圾焚烧炉,包括焚烧炉本体1,焚烧炉本体1侧壁上设有垃圾进口2,焚烧炉本体1底端设有垃圾出口3,焚烧炉本体1内部设有垃圾粉碎室4、焚烧室5和烟雾处理室6,垃圾粉碎室4内设有粉碎器7,粉碎器7靠近垃圾进口2处,垃圾粉碎室4位于焚烧室5一侧,烟雾处理室6位于焚烧室5顶端,焚烧室5内设有燃烧机8,焚烧炉本体1一侧上端设有烟雾出口9,烟雾出口9与烟雾处理室6连通。
烟雾处理室6内设有磁过滤器10。
焚烧炉本体1顶端设有检修口11。
本发明的有益效果是:结构设计合理,垃圾先通过粉碎机进行粉碎,然后再进入燃烧室进行燃烧,使得垃圾燃烧充分,燃烧后的烟雾进入烟雾处理室,通过磁过滤器进行过滤,将有害物质吸收,排出的烟雾不污染环境。
Claims (4)
1.一种立式垃圾焚烧炉,包括焚烧炉本体,其特征在于:所述焚烧炉本体侧壁上设有垃圾进口,所述焚烧炉本体底端设有垃圾出口,所述焚烧炉本体内部设有垃圾粉碎室、焚烧室和烟雾处理室,所述垃圾粉碎室内设有粉碎器,所述粉碎器靠近垃圾进口处,所述垃圾粉碎室位于焚烧室一侧,所述烟雾处理室位于焚烧室顶端,所述焚烧室内设有燃烧机,所述焚烧炉本体一侧上端设有烟雾出口。
2.根据权利要求1所述的一种立式垃圾焚烧炉,其特征在于:所述烟雾处理室内设有磁过滤器。
3.根据权利要求1所述的一种立式垃圾焚烧炉,其特征在于:所述焚烧炉本体顶端设有检修口。
4.根据权利要求1所述的一种立式垃圾焚烧炉,其特征在于:所述烟雾出口与烟雾处理室连通。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2013
- 2013-08-21 CN CN2013103662485A patent/CN103423748A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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Application publication date: 20131204 |