CN103345008A - 柔性曲面微透镜阵列、其制作方法及应用 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种柔性曲面微透镜阵列及其制作方法和应用，其中制作方法包括如下步骤：1、取一柔性透明基板，用酒精清洗及异丙醇淋洗后吹干，烘烤后自然冷却；2、对基板表面进行氧气等离子体处理；3、将正光刻胶均匀涂覆于处理好的柔性透明基板的上表面；4、将基板置于掩膜板下方，对基板上表面的正光刻胶进行紫外曝光、显影以在基板上表面形成多个呈阵列状的圆柱形光刻胶块；5、将带有阵列状圆柱形光刻胶块的柔性透明基板置于真空烘箱内，加热熔融、自然冷却；6、将带有微透镜阵列的柔性透明基板的两侧边分别固定在夹具的两个夹板上。本发明制备柔性透明基板所需设备少，且不需要精密且昂贵的设备，加工方法简单，制作成本低。

Description

柔性曲面微透镜阵列、其制作方法及应用

技术领域

本发明涉及一种微透镜阵列制作技术领域，尤其涉及一种柔性曲面微透镜阵列的制作及应用。

背景技术

以昆虫复眼为代表的生物复眼通常具有体积小，视场角大，对高速移动物体敏感等优点。目前已有一些基于微透镜阵列的仿生复眼成像系统被提出。但受到制作工艺的限制，这些复眼成像系统大多为平面结构，很大程度上丧失了曲面复眼结构的突出优点--大视场角。在自然界中，生物复眼是由聚集在一起的一簇“小眼”所构成，通常整个复眼呈曲面结构。通过这些小眼可以将整个视场分成若干部分，每个小眼对应一定的视场角，只负责观察视场中的一部分。位于小眼后面的感光细胞将每个小眼观察到的情况采集下来，接合在一起就形成了整个视场的完整像。要想实现类似生物曲面复眼的成像功能，最简捷的办法是采用制作在球面基底上的均一微透镜阵列结构。微透镜阵列可将视场进行分割，每个微透镜构成一个成像通道，对应于不同的视场角，其作用相当于一个小眼。整个阵列分别对视场的不同部分成像，所有成像结果可通过位于透镜阵列之后的光探测器进行采集，最后形成完整的目标像。

虽然国外一些研究团队提出了一些在曲面上制作微透镜阵列的方法，但是这些方法由于设备、工艺复杂，在很大程度上限制了它的应用范围。目前采用的制作方法之一为激光光刻制造法，Daniela Radtke等人（期刊论文，题目：Laser lithographic fabrication andcharacterizationof a spherical artificialcompound eye期刊：OPTICS EXPRESS，Vol.15,No.6，19March2007）提出了一种通过激光直接在在球面上光刻的方式来制作曲面微透镜阵列，这种方法能制作出较为完美的曲面微透镜阵列，但是该方法需要较为精密且昂贵的可旋转移动激光发射源，因此制作成本很高。另一种方法为热成型法，PuboQu等人(期刊论文，题目:A simple route tofabricate artificial compoundeye structures期刊:Optics Express,Vol.20,No.5，27February2012)提出了一种利用热玻璃球将平面模板加热变形成曲面的制作工艺。该小组首先通过激光光刻和湿法刻蚀的方法在平面玻璃基底上制作出凹形微透镜阵列，然后用PMMA倾覆到该玻璃基底，固化PMMA制作出PMMA材质的微透镜阵列，最后加热球形热热玻璃至130摄氏度，将PMMA热压成曲面，从而形成球面微透镜阵列。该方法工艺步骤多，需要的设备也较多，热压工艺实施起来也有一定的难度。

公开号为CN101676798的中国专利申请公开了一种制作微透镜阵列的方法，该制备方法为：在透明衬底上匀一层光刻胶；对该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块；熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状；去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率的微透镜阵列结构。该专利的主要目的是制作多层的透镜阵列，且为平面结构的微透镜阵列。

发明内容

为弥补上述不足，本发明利用柔性透明基板，结合传统的光刻和热熔法制作微透镜阵列，并通过机械弯曲的方式，将柔性透明基板弯曲成曲面形状，形成曲面微透镜阵列。该方法所需设备少，且不需要精密且昂贵的设备，加工方法简单，制作成本低。

本发明解决其技术问题采用的技术方案如下：一种柔性曲面微透镜阵列的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）取一具有平整表面的柔性透明基板，将该基板用酒精清洗及异丙醇淋洗后吹干，85～90℃烘烤8～10分钟后自然冷却，备用；柔性透明基板大小应适中，不宜过大，否则由于柔性透明基板的柔韧性，影响后续旋涂的光刻胶的平整性。

2）对柔性透明基板表面进行氧气等离子体处理；所述进行氧气等离子体处理，具体为，用反应离子刻蚀机（RIE）对基板进行氧离子轰击，从而在基板表面形成活性氧离子，增加基板的表面能，增加后续光刻胶的粘附性，在显影过程中不易出现脱胶现象。对基板进行氧气等离子体处理的真空度为25Pa，功率为60W，轰击时间为30秒。

3）将正光刻胶均匀涂覆于处理好的柔性透明基板的上表面，之后将柔性透明基板置于烘箱中以85～90℃烘烤8～10分钟，从而蒸发出光刻胶内含有的多余溶剂；优选的，光刻胶采用旋转涂覆方式均匀涂覆于基板上表面。优选的，正光刻胶涂覆的厚度为20～23μm，采用两次甩胶来实现，每次甩胶的旋涂参数为首先以1200转/分钟甩胶45秒，紧接着以2000转/分钟甩胶30秒，如此甩胶两次；第一次甩胶完成后，在烘台上以85摄氏度烘烤2分钟，然后再继续甩第二层胶，两次甩胶后，将柔性透明基板置于烘箱中以85～90℃烘烤8～10分钟。

4）取出柔性透明基板，将基板置于掩膜板下方，掩模板上具有多个圆形遮光区域，相邻圆形遮光区域之间的间隙为透光区域，多个圆形遮光区域形成阵列状；对基板上表面的正光刻胶进行紫外曝光、显影以在基板上表面形成多个呈阵列状的圆柱形光刻胶块；具体的曝光时间和剂量，本领域一般是根据所涂覆光刻胶的厚度及曝光所用光强度确定的。

5）将带有阵列状圆柱形光刻胶块的柔性透明基板置于真空烘箱内，加热熔融基板上的光刻胶块、自然冷却，每个圆柱形光刻胶块会受热融化，在表面张力的作用下，自动热熔形成凸球面微透镜；

6）将带有微透镜阵列的柔性透明基板的两侧边分别固定在夹具的两个夹板上，两个夹板之间具有夹角，经夹具固定的柔性透明基板由于自身的柔韧性，其表面自然弯曲形成曲面。所述夹角优选为45～80度。

所述柔性透明基板的尺寸优选为长2.5～4.0cm、宽2.5～4.0cm，柔性透明基板的厚度优选为250μm，柔性透明基板太大会由于柔韧性太大而自己弯曲了，不便于获得预设的弯曲弧度。柔性透明基板优选为PET片材。

优选的，所述正光刻胶为正光刻胶AZ4620，步骤（5）将带有阵列状圆柱形光刻胶块的柔性透明基板置于真空烘箱内，加热至128℃，加热时间115秒，使基板上的光刻胶块熔融、自然冷却，每个圆柱形光刻胶块热熔形成凸球面微透镜。

优选的，步骤（4）对基板上表面的正光刻胶进行紫外曝光后，将基板置于显影液中，位于掩膜板透光区域下方的光刻胶被显影液溶除时保留1～2微米厚的光刻胶，位于掩膜板遮光区域下方的光刻胶不会被显影液溶除，因而形成圆柱形光刻胶块。显影液可以为质量百分比5%的氢氧化钠溶液。显影过程中透光区域不完全显影并保留有1-2微米厚的正光刻胶，有利于遮光区域形成的圆柱形光刻胶块在其后的热熔中受到表面张力的影响而形成透镜形状。

作为一种优选方案，步骤（4）中，掩膜板上的多个圆形遮光区域形成的阵列为非均一矩形阵列，从而在基板上形成非均一微透镜矩形阵列，掩膜板上的非均一矩形阵列包括的多个纵列中，位于同一纵列的多个圆形遮光区域具有相同的半径，位于矩形阵列中央的纵列的圆形遮光区域具有最大的半径，与中央纵列平行的两侧边列的圆形遮光区域半径最小，各纵列之间的圆形遮光区域的半径由中央纵列向两侧边列逐渐变小。这种优选方案制备的非均一微透镜阵列相比于均一微透镜阵列具有如下特点：使用均一微透镜阵列时，靠近微透镜阵列侧边的透镜往往成像效果不佳，不能在COMS传感器芯片上有效聚焦，这是因为微透镜阵列中的透镜越是靠近微透镜阵列侧边，其透镜中心沿视场方向到COMS传感器芯片的距离就越小，导致该距离往往难以与透镜焦长匹配，这样不仅降低了视场边缘的成像质量，而且也阻碍了整个成像系统视场角的进一步增大。而采用优选的非均一微透镜阵列为解决这些问题提供了一种有效方案，采用本发明制备的非均一微透镜阵列，可以大大提高靠近阵列侧边的透镜中心沿视场方向到COMS传感器芯片的距离与透镜焦长之间的匹配度，从而大大提高了边缘视场的成像质量，使进一步扩大成像系统的视场角提供了可能。

本发明第二方面还提供一种采用如上文所述的制作方法制备的柔性曲面微透镜阵列，具有表面为曲面的柔性透明基板、设于柔性透明基板上表面的微透镜阵列，微透镜阵列中相邻两个微透镜之间存在间隙，微透镜为凸球面微透镜。

优选的，所述微透镜阵列为非均一微透镜矩形阵列。

进一步的，所述非均一微透镜矩形阵列包括的多个纵列中，位于同一纵列的多个微透镜具有相同的曲率半径，位于微透镜矩形阵列中央的纵列的微透镜具有最大的曲率半径，与中央纵列平行的两侧边列的微透镜曲率半径最小，各纵列之间的微透镜的曲率半径由中央纵列向两侧边列逐渐变小。

进一步的，所述柔性曲面微透镜阵列具有由长为2.5～4.0cm、宽为2.5～4.0cm的具有平整表面的PET基板经弯曲形成的具有曲面表面的柔性透明基板，柔性透明基板的厚优选为250μm，所述柔性透明基板优选为PET基板。

本发明第三方面还提供一种微透镜成像系统，该系统具有如上文所述的柔性曲面微透镜阵列，及设在柔性曲面微透镜阵列下方的用以接收微透镜阵列所汇聚的光线的COMS传感器芯片。

本发明的技术方案具有如下有益效果：本发明不需要昂贵且复杂的激光刻蚀技术、且采用简单的机械法就可形成曲面，采用更为简单的加工方法即可制作出较好的曲面微透镜阵列，所需设备少，适合大批量生产，而且成本低。相比传统的平面微透镜阵列，本发明制作的曲面微透镜阵列具有类似昆虫复眼所具有的广视角特点。本发明可进一步制作出曲面非均一微透镜阵列，有利于COMS传感器芯片更好的接收到微透镜汇聚的光线，具有全视角的特点。

附图说明

图1是实施例1制作均一柔性曲面微透镜阵列的各步骤示意图；

图2是实施例1所用掩膜板的俯视示意图；

图3是一种可选择的掩膜板的俯视示意图；

图4是一种均一柔性曲面微透镜阵列的结构示意图；

图5是带有图4的微透镜阵列的微透镜成像系统聚光示意图；

图6是实施例2制作非均一柔性曲面微透镜阵列的各步骤示意图；

图7是实施例1所用掩膜板的俯视示意图；

图8是另一种可选择的掩膜板的俯视示意图；

图9是一种非均一柔性曲面微透镜阵列的结构示意图；

图10是带有图9的微透镜阵列的微透镜成像系统聚光示意图。

部分附图标记说明：基板1；光刻胶块2.3、2.7；微透镜2.4、2.8、2.9、2.10、2.11；紫外光3；掩膜板4.1、4.2、4.3、4.4；CMOS传感器芯片5；夹板6。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的技术方案作进一步说明：

实施例1（为制备均一柔性曲面微透镜阵列的实施例）

参见图1，图1仅是示意性的表示制备的过程，图1中的微透镜个数并不代表对实际制备的微透镜阵列的具体微透镜数目的限制，在实践中，具体的微透镜阵列的列数可以根据需要而定。本发明的均一柔性曲面微透镜阵列按照如下步骤进行制备：

步骤A1：取一具有平整表面的柔性透明基板1（具体可选择PET基板），基板尺寸可为2.5cm×2.5cm，基板厚度可为约250μm。将该基板用酒精清洗及异丙醇淋洗后吹干，90℃烘烤10分钟后自然冷却，对柔性透明基板表面进行氧气等离子体处理，以增加柔性透明基板表面能，增加后续光刻胶与基板的接触强度。

其中，进行氧气等离子体处理，具体是用反应离子刻蚀机（RIE）对基板进行氧离子轰击，真空度为25Pa，功率为60W，轰击时间为30秒。

步骤A2：将正光刻胶AZ4620采用旋转涂抹方式均匀涂覆于处理好的PET基板的上表面，采用两次甩胶，每次甩胶的旋涂参数为首先以1200转/分钟甩胶45秒，紧接着以2000转/分钟甩胶30秒，如此甩胶两次；第一次甩胶完成后，在烘台上以85摄氏度烘烤2分钟，然后再继续甩第二层胶，两次甩胶后，正光刻胶的涂覆厚度约为20～23微米，之后将PET基板置于烘箱中以90℃烘烤10分钟，蒸发出光刻胶内所含有的多余溶剂；

步骤A3：取出柔性透明基板，将基板置于掩膜板4.1下方，对基板上表面的光刻胶2进行紫外光曝光。参见附图2，掩模板4.1上具有多个圆形遮光区域4.11，每个圆形遮光区域的半径相同，相邻圆形遮光区域之间的间隙为透光区域4.12，多个圆形遮光区域形成均一矩形阵列状。在具体应用中，掩膜板上均一矩形阵列的具体列数根据需要可以增减，附图2仅是一个示例，例如若需要制备出3行5列的均一微透镜阵列，可以采用图3所示的掩膜板4.3。

步骤A4：之后将基板置于显影液中进行显影，位于掩膜板透光区域下方的光刻胶2.2会被显影液溶除，溶除时保留1～2微米厚的光刻胶，而位于掩膜板遮光区域下方的光刻胶2.1不会被显影液溶除，因而形成多个具有相同尺寸的均一圆柱形光刻胶块2.3。显影液可以采用质量百分比5%的氢氧化钠溶液。

步骤A5：将带有阵列状圆柱形光刻胶块2.3的柔性透明基板置于真空烘箱内，加热至128℃，加热时间115秒左右，使基板上的光刻胶块熔融、自然冷却，在表面张力的作用下，每个圆柱形光刻胶块热熔形成凸球面微透镜2.4，形成均一微透镜阵列。

步骤A6：将带有均一微透镜阵列的柔性透明基板的两侧边分别固定在夹具的两个夹板6上，两个夹板之间具有夹角θ，经夹具固定的柔性透明基板1由于自身的柔韧性，其表面自然弯曲形成曲面。

按照上述步骤A1～A6，最终制备出均一柔性曲面微透镜阵列。

所制备的均一柔性曲面微透镜阵列可应用于微透镜成像系统中，该微透镜成像系统在均一柔性曲面微透镜阵列下方设置用以接收微透镜阵列所汇聚的光线的COMS传感器芯片。附图4示出了一种均一柔性曲面微透镜阵列，该微透镜阵列可通过上述步骤A1-A6制备而成，该微透镜阵列具有多个具有相同或大致相同曲率半径的凸球面微透镜2.9，进一步在该微透镜阵列下方设置用以接收微透镜阵列所汇聚光线的COMS传感器芯片5，从而可进一步制得微透镜成像系统，参见图5，图5示出了带有图4的均一柔性曲面微透镜阵列的成像系统汇聚光线的示意图。

实施例2（为制备非均一柔性曲面微透镜阵列的实施例）

参见图6，本发明的非均一柔性曲面微透镜阵列按照如下步骤进行制备。

步骤B1：取一具有平整表面的柔性透明基板1（具体可选择PET基板），基板尺寸可为3.5cm×3.5cm，基板厚度可为约250μm。将该基板用酒精清洗及异丙醇淋洗后吹干，90℃烘烤10分钟后自然冷却，对柔性透明基板表面进行氧气等离子体处理，以增加柔性透明基板表面能，增加后续光刻胶与基板的接触强度。

步骤B2：将正光刻胶AZ4620采用旋转涂抹方式均匀涂覆于处理好的PET基板的上表面，采用两次甩胶，每次甩胶的旋涂参数为首先以1200转/分钟甩胶45秒，紧接着以2000转/分钟甩胶30秒，如此甩胶两次；第一次甩胶完成后，在烘台上以85摄氏度烘烤2分钟，然后再继续甩第二层胶，两次甩胶后，正光刻胶的涂覆厚度约为20～23微米，之后将PET基板置于烘箱中以90℃烘烤10分钟，蒸发出光刻胶内所含有的多余溶剂；

步骤B3：取出柔性透明基板，将基板置于掩膜板4.2下方，对基板上表面的光刻胶2进行紫外光曝光。参见附图7，该掩模板上具有多个圆形遮光区域4.24，相邻圆形遮光区域之间的间隙为透光区域4.25，多个圆形遮光区域形成非均一矩形阵列状；掩膜板上的非均一矩形阵列中包括的多个纵列中，位于同一纵列的多个圆形遮光区域具有相同的半径，位于矩形阵列中央的纵列4.23的圆形遮光区域具有最大的半径，与中央纵列平行的两侧边列4.21、4.22的圆形遮光区域半径最小，各纵列之间的圆形遮光区域的半径由中央纵列向两侧边列逐渐变小。在具体应用中，掩膜板上非均一矩形阵列的具体列数根据需要可以增减，附图7仅是一个示例，例如若需要制备出3行5列的非均一微透镜阵列，可以采用图8所示的掩膜板4.4。

步骤B4：之后将基板置于显影液中进行显影，位于掩膜板曝光区域下方的光刻胶2.6会被显影液溶除，溶除时保留1～2微米厚的光刻胶，而位于掩膜板遮光区域下方的光刻胶2.5不会被显影液溶除，因而形成多个具有不同底面半径的非均一圆柱形光刻胶块2.7。显影液可以采用质量百分比5%的氢氧化钠溶液。

步骤B5：将带有非均一阵列状圆柱形光刻胶块2.7的柔性透明基板置于真空烘箱内，加热至128℃，加热时间116秒左右，使基板上的光刻胶块熔融、自然冷却，在表面张力的作用下，每个圆柱形光刻胶块热熔形成凸球面微透镜2.8，形成非均一微透镜阵列。形成的非均一微透镜阵列具有如下特点：非均一微透镜矩形阵列中包括的多个纵列中，位于同一纵列的多个微透镜具有相同的曲率半径，位于微透镜矩形阵列中央的纵列的微透镜具有最大的曲率半径，与中央纵列平行的两侧边列的微透镜曲率半径最小，各纵列之间的微透镜的曲率半径由中央纵列向两侧边列逐渐变小。

步骤B6：将带有非均一微透镜阵列的柔性透明基板的两侧边分别固定在夹具的两个夹板6上，两个夹板之间具有夹角θ，经夹具固定的柔性透明基板1由于自身的柔韧性，其表面自然弯曲形成曲面。

按照步骤B1～B6，最终制备出非均一柔性曲面微透镜阵列。

所制备的非均一柔性曲面微透镜阵列可应用于微透镜成像系统中，该微透镜成像系统在非均一柔性曲面微透镜阵列下方设置用以接收微透镜阵列所汇聚的光线的COMS传感器芯片，附图9示出了一种非均一柔性曲面微透镜阵列，该微透镜阵列可通过上述步骤B1-B6制备而成，该微透镜阵列中，微透镜2.11所在列为中央纵列，微透镜2.10所在列为侧边列，中央纵列的微透镜2.11具有最大的曲率半径，与中央纵列平行的侧边列的微透镜2.10的曲率半径最小，各纵列之间的微透镜的曲率半径由中央纵列向侧边列逐渐变小。进一步在该微透镜阵列下方设置用以接收微透镜阵列所汇聚光线的COMS传感器芯片5，从而可进一步制得微透镜成像系统。参见图10，图10示出了带有图9的非均一柔性曲面微透镜阵列的成像系统汇聚光线的示意图。从图10中可以看出，这种带有非均一柔性曲面微透镜阵列的成像系统，其COMS传感器芯片可更好的接收到微透镜汇聚的光线。

Claims (10)

1.一种柔性曲面微透镜阵列的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）取一具有平整表面的柔性透明基板，将该基板用酒精清洗及异丙醇淋洗后吹干，85～90℃烘烤8～10分钟后自然冷却，备用；

2）对柔性透明基板表面进行氧气等离子体处理；

3）将正光刻胶均匀涂覆于处理好的柔性透明基板的上表面，之后将柔性透明基板置于烘箱中以85～90℃烘烤8～10分钟；

4）取出柔性透明基板，将基板置于掩膜板下方，掩模板具有多个圆形遮光区域，相邻圆形遮光区域之间的间隙为透光区域，多个圆形遮光区域形成阵列状；对基板上表面的正光刻胶进行紫外曝光、显影以在基板上表面形成多个呈阵列状的圆柱形光刻胶块；

5）将带有阵列状圆柱形光刻胶块的柔性透明基板置于真空烘箱内，加热熔融基板上的光刻胶块、自然冷却，每个圆柱形光刻胶块热熔形成凸球面微透镜；

6）将带有微透镜阵列的柔性透明基板的两侧边分别固定在夹具的两个夹板上，两个夹板之间具有夹角，经夹具固定使柔性透明基板表面自然弯曲形成曲面。

2.根据权利要求1所述的柔性曲面微透镜阵列的制作方法，其特征在于，所述柔性透明基板为PET片材。

3.根据权利要求1所述的柔性曲面微透镜阵列的制作方法，其特征在于，所述正光刻胶为正光刻胶AZ4620，步骤（5）将带有阵列状圆柱形光刻胶块的柔性透明基板置于真空烘箱内，加热至128℃，加热时间115秒，使基板上的光刻胶块熔融、自然冷却，每个圆柱形光刻胶块热熔形成凸球面微透镜。

4.根据权利要求1所述的柔性曲面微透镜阵列的制作方法，其特征在于，步骤（4）对基板上表面的正光刻胶进行紫外曝光后，将基板置于显影液中，位于掩膜板透光区域下方的光刻胶被显影液溶除时保留1～2微米厚的光刻胶，位于掩膜板遮光区域下方的光刻胶形成圆柱形光刻胶块。

5.根据权利要求1所述的柔性曲面微透镜阵列的制作方法，其特征在于，步骤（4）中，掩膜板上的多个圆形遮光区域形成的阵列为非均一矩形阵列，从而在基板上形成非均一微透镜矩形阵列，掩膜板上的非均一矩形阵列包括的多个纵列中，位于同一纵列的多个圆形遮光区域具有相同的半径，位于中央的纵列的圆形遮光区域具有最大的半径，与中央纵列平行的两侧边列的圆形遮光区域半径最小，各纵列之间的圆形遮光区域的半径由中央纵列向两侧边列逐渐变小。

6.一种采用权利要求1～5任一项所述的制作方法制备的柔性曲面微透镜阵列，其特征在于，具有表面为曲面的柔性透明基板、设于柔性透明基板上表面的微透镜阵列，微透镜阵列中相邻两个微透镜之间存在间隙，微透镜为凸球面微透镜。

7.根据权利要求6所述的柔性曲面微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列为非均一微透镜阵列。

8.根据权利要求7所述的柔性曲面微透镜阵列，其特征在于，所述非均一微透镜阵列为非均一微透镜矩形阵列，该非均一微透镜矩形阵列包括的多个纵列中，位于同一纵列的多个微透镜具有相同的曲率半径，位于微透镜矩形阵列中央的纵列的微透镜具有最大的曲率半径，与中央纵列平行的两侧边列的微透镜曲率半径最小，各纵列之间的微透镜的曲率半径由中央纵列向两侧边列逐渐变小。

9.根据权利要求6～8任一项所述的柔性曲面微透镜阵列，其特征在于，所述柔性曲面微透镜阵列具有由长为2.5～4.0cm、宽为2.5～4.0cm的具有平整表面的PET基板经弯曲形成的具有曲面表面的柔性透明基板。

10.一种微透镜成像系统，其特征在于，该系统具有如权利要求6～9任一项所述的柔性曲面微透镜阵列，及设在柔性曲面微透镜阵列下方的用以接收微透镜阵列所汇聚的光线的COMS传感器芯片。

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