CN103340125B - 一种双膜覆盖沟形温室种植方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种双膜覆盖沟形温室种植模式及配套点播机，属于农艺方法及配套机具领域。双膜覆盖沟形温室种植模式，是在铺膜播种后再覆盖一层膜，第一层膜是下膜，覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上。第二层膜是上膜，覆盖在沟面上，使小沟内的空间封闭成为一个小温室。和双膜覆盖沟形温室种植模式配套的双膜覆盖沟形温室点播机，包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器。双膜覆盖沟形温室种植模式其上膜在沟和埂间形成小温室，保墒和增温效果明显，幼苗在从下膜膜孔出来后在小温室有生长空间，没有缓苗问题，为提前收获和增产增收创造了条件。

Description

一种双膜覆盖沟形温室种植方法

技术领域：本发明属于一种农业种植模式以及与其配套的铺膜播种机。

背景技术：现有的双模覆盖种植模式是在铺膜点种后再覆盖一层膜，两次铺膜作业一次完成。目的是防止点种膜孔漏气跑墒，影响出苗。这种种植模式在出苗后必须揭去上膜，防止影响幼苗生长。但是这种作业方式使幼苗从温暖的膜下环境突然来到温度较低的自然环境会感冒，需要一段缓苗时间，延长了生长期，影响了产量提高。

发明内容：本发明的目的是提供一种双膜覆盖沟形温室种植方法，在这种模式下幼苗出土后对自然环境有平稳的过渡，消除缓苗。因其提高地温快还可以提前播种，延长生长期。配套点播机保证了该种植模式顺利实现。为达此目的采用了这样的技术方案：

双膜覆盖沟形温室种植方法，其第一层膜是下膜，覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上，第二层膜是上膜，覆盖在沟面上，使小沟内的空间封闭成为一个小温室，两次铺膜作业由配套点播机一次完成；配套点播机包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器，在机架前端安装的地表整形机构是一个由开沟铲及其两侧刮土板组成的开沟扶埂器，其开沟铲两翼后面有和前进方向平行的沟壁成形板，两侧刮土板出土端后面有和前进方向平行的土埂成形板，须开出倒梯形断面的小沟，沟壁顶部高出地面，形成小埂，沟底距地面高度3-10厘米，沟底距埂面高度8-20厘米，沟底宽度10厘米；开沟扶埂器后面是下膜铺膜机构，其位置使膜覆盖在开好倒梯形断面小沟的种植带上；接着是出土间隙上带有筛网的膜上覆土滚筒，其在机架上的安装位置和铺好的下膜对正，使土壤落到对准沟底的下膜上。然后是点种器，其位置使点种器的鸭嘴穿透覆土和地膜，把种子点播到种床上。最后是上膜铺膜机构和上膜覆土滚筒，其位置使上膜覆盖在点过种的沟面上。

出土间隙上带筛网的膜上覆土滚筒中部的半径变小，半径变小的量等于土埂上表面到地面的高度。覆土滚筒靠近取土圆盘的外侧端头有一个凹形存土槽，固定在滚筒内壁的导土螺旋片带有折弯的挡土边，其进土端与凹形存土槽相接。

覆土滚筒的筒壁上的出土间隙与开沟扶埂器开出的小沟相对，覆土的重量使下膜压向沟底，使下膜覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上。

双膜覆盖沟形温室种植方法，其上膜在沟和埂间形成小温室，保墒和增温效果明显，提高地温快，有利于提前播种期。保墒效果好，可省去播前水。因此这种模式既省水省工又有利提高地温。幼苗在从下膜膜孔出来后在小温室有生长空间，在此期间用打孔器在上膜打透气孔，幼苗在温室内逐渐适应外界环境，没有缓苗问题，为提前收获和增产增收创造了条件。

附图说明：图1是双膜覆盖沟形温室点播机的结构示意图。图2是开沟扶埂器和沟、埂形状的示意图。图3是带筛网的膜上覆土滚筒结构示意图。

具体实施方式：下面结合附图作进一步的说明

双膜覆盖沟形温室种植方法，是在铺膜播种后再覆盖一层膜，两次铺膜作业由配套点播机一次完成。第一层膜是下膜，覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上，种子点播在沟底的膜下面。第二层膜是上膜，覆盖在沟面上，使小沟内的空间封闭成为一个小温室。倒梯形断面的小沟的沟壁顶部高出地面，形成小埂，沟底距地面高度3-10厘米，沟底距埂面高度8-20厘米，沟底宽度10厘米。

和双膜覆盖沟形温室种植模式配套的双膜覆盖沟形温室点播机，包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器，在机架1前端安装的地表整形机构是一个由开沟铲及其两侧刮土板组成的开沟扶埂器2，后面是下膜铺膜机构4，接着是带筛网的膜上覆土滚筒5，和点种器6，最后是上膜铺膜机构7和上膜覆土滚筒8。

由开沟铲10及其两侧刮土板9组成开沟扶埂器2，开沟铲两翼后面有和前进方向平行的沟壁成形板11，两侧刮土板出土端后面有和前进方向平行的土埂成形板12。保证沟形整齐，下膜铺膜机构4将膜3覆盖在开好倒梯形断面小沟的种植带上。

带筛网的膜上覆土滚筒和铺好的下膜对正，滚筒中部的半径变小，半径变小的量等于土埂上表面到地面的高度，使覆土滚筒不会破坏小埂的形状。覆土滚筒靠近取土圆盘的外侧端头有一个凹形存土槽13，滚筒转动时槽内的土不会流失。固定在滚筒内壁的导土螺旋片14带有折弯的挡土边，其进土端与存土槽相接。随着滚筒转动导土螺旋片把存土槽内的土导向滚筒里面。覆土滚筒的筒壁上与开沟扶埂器所开的沟相对的位置有出土间隙15，出土间隙上设有筛土网。细碎的土壤从筛土网落到对准沟底的下膜上，将下膜压向沟底成为覆土带。后面的点种器的鸭嘴穿透覆土和地膜把种子点播到合墒的种床上。再后面的上膜铺膜机构将上膜覆盖在点过种的小沟上，形成封闭的小温室。

Claims (3)

1.一种双膜覆盖沟形温室种植方法，其特征是：第一层膜是下膜，覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上，第二层膜是上膜，覆盖在沟面上，使小沟内的空间封闭成为一个小温室，两次铺膜作业由配套点播机一次完成；配套点播机包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器，在机架(1)前端安装的地表整形机构是一个由开沟铲(10)及其两侧刮土板(9)组成的开沟扶埂器(2)，其开沟铲两翼后面有和前进方向平行的沟壁成形板(11)，两侧刮土板出土端后面有和前进方向平行的土埂成形板(12)，须开出倒梯形断面的小沟，沟壁顶部高出地面，形成小埂，沟底距地面高度3-10厘米，沟底距埂面高度8-20厘米，沟底宽度10厘米；开沟扶埂器后面是下膜铺膜机构(4)，其位置使膜(3)覆盖在开好倒梯形断面小沟的种植带上；接着是出土间隙上带有筛网的膜上覆土滚筒(5)，其在机架上的安装位置和铺好的下膜对正，使土壤落到对准沟底的下膜上；然后是点种器(6)，其位置使点种器的鸭嘴穿透覆土和地膜把种子点播到种床上；最后是上膜铺膜机构(7)和上膜覆土滚筒(8)，其位置使上膜覆盖在点过种的沟面上。

2.如权利要求1所述的一种双膜覆盖沟形温室种植方法，其特征是：出土间隙上带筛网的膜上覆土滚筒(5)中部的半径变小，半径变小的量等于土埂上表面到地面的高度；覆土滚筒靠近取土圆盘的外侧端头有一个凹形存土槽(13)，固定在滚筒内壁的导土螺旋片(14)带有折弯的挡土边，其进土端与凹形存土槽相接。

3.如权利要求1所述的一种双膜覆盖沟形温室种植方法，其特征是：覆土滚筒的筒壁上的出土间隙(15)与开沟扶埂器开出的小沟相对，覆土的重量使下膜压向沟底，使下膜覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上。