CN103299154A - 对用于校正介质对光信号的作用的设备进行配置的方法和系统、用于校正该作用的方法、设备和系统 - Google Patents

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CN103299154A CN2011800610098A CN201180061009A CN103299154A CN 103299154 A CN103299154 A CN 103299154A CN 2011800610098 A CN2011800610098 A CN 2011800610098A CN 201180061009 A CN201180061009 A CN 201180061009A CN 103299154 A CN103299154 A CN 103299154A
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Abstract

本发明涉及对用于校正介质（412）对已传播穿过该介质（412）的光信号（414）的作用的设备（100）进行配置的方法和系统（400），该设备（100）包括至少一个光学元件（1061-106n），至少一个光学元件（1061-106n）的空间相位剖面可被单独调整。配置系统和方法包括将在介质（412）的输出处获得的参考信号（410）和失真信号（414）传播穿过校正设备（100）。测量干扰参数，并通过修改校正设备（100）的光学元件（1061-106n）中的每个的相位剖面来优化干扰参数。本发明还涉及用于校正介质对已传播穿过所述介质的光信号的作用的方法和系统。

Description

对用于校正介质对光信号的作用的设备进行配置的方法和系统、用于校正该作用的方法、设备和系统
技术领域
本发明涉及对用于校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的设备进行配置的方法和系统。本发明还涉及用于校正所述作用的方法、设备和系统。
背景技术
传播穿过介质（更具体地光学介质，例如光纤）的光信号遭受由该介质向信号施加的修改。介质的输出处的信号是输入到介质的光信号的失真或模糊版本。由介质施加的修改必须被校正以恢复由光信号传送的信息。
现在，不存在有效且完全校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的方法或系统。
一些研究者关注的技术包括计算介质的完整的透射矩阵并且使用该矩阵校正失真的信号以取回由初始光信号传送的信息。这种技术因为涉及一系列测量并且需要重要的计算功率而耗时。而且，所涉及的计算可能引入错误。
本发明的发明人已经在数学上证明，包括由静态传播介质分离的若干反射元件的设备可用于实现光信号的任何空间变换（Programmable Unitary Spatial Modes Manipulation（可编程的酉空间模式操作），Jean-Francois Morizur，Lachlan Nicholls，Pu Jian，SeijiArmstrong，Nicolas Treps，Boris Hage，Magnus Hsu，Warwick Bowen，Jiri Janousek，Hans-A.Bachor）。
发明目的
本发明的一个目的是克服前述的缺点。
本发明的另一目的是提供能够有效校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的方法和系统。
另一目的还提供能够校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的工业适用方法和系统。
另一目的还提供能够以更快且更便宜的方式校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的方法和系统。
本发明的又一目的是提供能够完全校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的方法和系统。
发明内容
如在所附权利要求中确切描述地公开了本发明。
这些目的通过一种用于对设备进行配置以校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的方法实现，该设备包括至少一个光学元件，至少一个光学元件的空间相位剖面可被单独调整，该方法包括对如下步骤进行若干次迭代：
-将第一光信号传播穿过介质，该传播步骤提供所谓的失真信号；
-将失真信号传播穿过该设备；
-将被称为参考信号的第二光信号传播穿过设备，参考信号与第一信号相同；
-优化失真信号与参考信号之间的干扰，该优化步骤包括对于至少一个光学元件进行下列步骤的至少一次迭代：
-对失真信号与参考信号之间的至少一个干扰参数进行测量；以及
-根据干扰参数修改至少一个光学元件的相位剖面。
“介质”表示一种介质或媒质的组合，每种介质是天然或人工的介质。
包括其相位剖面可被单独调整的独立部分的单个光学元件可用于执行若干连续反射或相位变化，以避免使用若干这种光学元件。
根据本发明的方法能够对设备进行配置以有效地且完全地校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用。
本发明提供了易于实现的方法。
的确，校正设备的配置完全是基于传播穿过校正设备的失真信号的，并且不包括对介质的透射矩阵的任何计算。因此，避免了可能由这种计算操作而导致的错误，并且根据本发明的方法与现有技术相比是工业适用的、较便宜且花费较少时间。
参考信号可在与失真信号的方向相反的方向上传播穿过设备。
测量干扰参数的步骤包括为每个光学元件测量如下参数的步骤：
-用于每个光学元件的一个或若干区域的干扰参数；和/或
-用于每个光学元件的每个像素的干扰参数；和/或
-用于全部光学元件的干扰参数。
在本申请中，像素被定义成能够修改相位剖面的光学元件的最小区域。
因此，对于每个光学元件，能够关注光学元件的与其相位剖面的像素相对应的部分或光学元件的较宽区域。这种特征减少了校正设备的配置时间。
干扰参数可包括与由失真信号与参考信号之间的相位差相关的参数。
更具体地，干扰参数可包括与在光学元件的每个像素或区域处的干扰信号的相位有关的参数。
在根据本发明的方法的具体实施方式中，对于光学元件，干扰参数可包括与干扰信号的强度相关的参数，更具体地，对于光学元件的每个像素或区域，干扰参数可包括光强度，或者由参考信号和失真信号的干扰所获得的干扰信号的总光强度。用于光学元件的干扰信号的总光强度对应于为光学元件的全部区域或像素测量的强度之和。
的确，失真信号与参考信号之间的干扰的光强度可用于测量这两个信号之间的功率和相位差。
在这个特征的具体实施方式中，根据本发明的方法可包括实时振荡参考信号和/或第一信号的总相位的步骤。
这种调制使失真信号与参考信号之间的干扰的强度实时振荡。对于干扰强度被测量的光学元件的每个区域，可计算参考信号与失真信号之间相对于其它区域的局部相位差。
在优选的实施方式中，在光学元件的每个像素或区域处的干扰信号的相对于参考像素或预定相位参考的相位被用于决定对这个像素或区域的相位剖面的必要修改。
修改光学元件的空间相位剖面的步骤可包括对由所述光学元件的至少一个区域和/或至少一个像素向光信号施加的相位延迟进行修改。
根据本发明的方法的特征是，在传播穿过介质和校正设备之前，可对参考信号、第一信号或参考信号和第一信号进行空间调制。
在此特征的具体实施方式中，根据本发明的方法可包括调制参考信号和/或第一信号的强度剖面的步骤。
根据本发明的方法还可包括从两个或更多个空间分离的不相干光源产生参考信号和第一信号的步骤。事实上，该不相干等效于全部源的空间调制。
这种空间调制能够配置设备，更具体地配置每个光学元件的空间相位剖面，从而校正任何复杂介质对任何光信号的任何作用。事实上，如果参考信号和第一信号未被空间调制，则参考信号和第一信号的空间剖面将保持静止。然后可根据仅一个空间剖面来配置该校正设备，并且能够校正仅用于一个空间剖面的失真信号。
根据本发明的方法还可包括用于测量可见度参数的步骤。
事实上，应用于参考信号或失真信号的整体相位调制能够测量参考信号与失真信号之间的干扰可见度参数。当两个光信号之间测量的干扰可见度参数无论测量位置如何均保持相等时，例如可在校正设备之前、之后或之中，在给定的位置处测量这种干扰可见度参数。
在根据本发明的方法的优选实施方式中，在参考信号传播穿过校正设备之前对参考信号进行相位调制。为每个光学元件的每个像素测量干扰参数。测量出的干扰参数是干扰信号的强度。
当参考信号被调制时，在光学元件的每个像素处测量的干扰信号的强度实时振荡。
计算这些振荡与在像素处测量的具有高强度的参考振荡之间的相位差。
通过修改由光学元件的每个像素施加的相位延迟，相位差减少至0，并且针对光学元件所测量的全部振荡的干扰信号被同步。这种同步增加了参考信号与失真信号之间的干扰的可见度。
可针对每个光学元件并且一个接一个地（不管次序）单独地进行优化步骤。
根据本发明的方法还可包括从唯一的光信号生成第一信号和参考信号的步骤。该光信号可被分成两个光信号，一个为第一信号，而另一个为参考信号。
本发明还涉及一种用于校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的设备，其包括至少一个光学元件，至少一个光学元件的空间相位剖面可被单独调整，该设备根据本发明的方法进行配置。
在根据本发明的设备的具体实施方式中，两个光学元件通过透镜和自由空间传播的组合分离。
在根据本发明的设备的具体实施方式中，至少一个光学元件是空间光调制器或可变形镜。
本发明还涉及一种用于校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的方法，所述方法实现一种设备，该设备包括至少一个光学元件，至少一个光学元件的相位剖面可单独被调整，该方法包括：
-根据本发明的方法配置设备的配置阶段；以及
-通过校准设备校正所述信号的校正阶段。
根据本发明的校正方法还可包括至少一个调整步骤，调整步骤用于在校正阶段中在介质中发生变化的情况下调整设备的配置。
在根据本发明的方法的具体实施方式中，通过使用配置方法，控制光信号规律地通过系统被发送以重新调整该设备。
此控制光信号可不同于在配置阶段中使用的光信号。
在根据本发明的方法的具体实施方式中，控制光信号通过设备的输出被发送，并且在复杂介质的输入处被反射。因此，控制光穿过校正设备、介质、再次穿过介质并且最后再次穿过校正设备。在配置阶段之后，设备对介质的作用进行校正。在介质中发生的附加小变化可使用校准方法通过控制光进行校正。
本发明还涉及一种对用于校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的设备进行配置的系统，该设备包括至少一个光学元件，至少一个光学元件的空间相位剖面能够被单独调整，该系统包括：
-用于将第一光信号传播穿过介质的装置，该介质因此提供所谓的失真信号；
-用于将失真信号传播穿过该设备的装置；
-用于将被称为参考信号的第二光信号传播穿过该设备的装置，参考信号与第一信号相同；
-用于在每个光学元件的位置处测量失真信号与参考信号之间的干扰参数的装置；以及
-用于修改光学元件中的至少一个的相位剖面以增加干扰参数的装置。
用于传播参考信号的装置可适于将参考信号在与失真信号的方向相反的方向上传播穿过设备。
根据本发明的系统还可包括用于在将所述信号传播穿过校正设备之前对参考信号或失真信号引入总体相位调制的调制装置。
根据本发明的系统还可包括在参考信号、第一信号、或这两个信号在介质或校正设备中被发送之前对参考信号、第一信号、或这两个信号的空间剖面进行调制的元件。
测量装置可包括一个CCD照相机或用于每个光学元件的一个CCD照相机。这种CCD照相机可被配置成为光学元件的每个像素测量干扰参数。
根据本发明的系统还可包括反射装置以将由失真信号和参考信号的干扰获得的干扰信号的一部分透射至CCD照相机。
用于修改光学元件的相位剖面的装置可包括用于每个光学元件的至少一个致动器，更具体地用于每个光学元件的每个区域或像素的致动器。这种致动器可被集成至光学元件。
本发明还涉及一种用于校正介质对已传播穿过所述介质的光信号的作用的系统，该系统包括：
-校正设备，包括至少一个光学元件，所述至少一个光学元件的空间相位剖面能够被单独地调整；以及
-根据本发明的配置系统。
本发明还涉及一种计算机程序，该计算机程序包括指令以在所述计算机程序由计算机或计算装置执行时实现根据本发明的配置方法的步骤。
这种计算机程序能够：
-在计算机或计算装置上对校正给定介质对光信号的作用进行模拟以确定给定的校正设备的至少一个光学元件的相位剖面；以及
-在通过模拟确定了相位剖面之后，配置校正设备的至少一个光学元件。
因此，对于给定的介质和给定的校正设备，可首先在计算机上通过模拟确定校正设备的每个光学元件的相位剖面。当校正令人满意时，设置每个光学元件的相位剖面并且设备准备使用。
根据本发明的方法、设备、系统和计算机程序还可用于向光信号施加给定的变形。
在这种情况下，给定的变形是由第一信号传播穿过的介质所施加的变形。由此在介质的输出处获得的失真信号被用作根据本发明的方法、设备、系统和计算机程序中的参考信号。
与第一信号相同的第二信号被用作待由根据本发明的方法、设备、系统和计算机程序修改的信号，使得所述第二信号被修改为与失真信号相同。
以另一种方式，在这个情况中，参考信号和第二信号被转换。
附图说明
本发明的新的、创造性的特征的信任特性在所附的权利要求中阐明。然而，本发明自身及其优选的使用模式、其它目标和优点将在结合附图阅读时参考示例性的详细实施方式的下面详细描述更好地理解，在附图中：
图1示意性地描绘了校正设备的实施例；
图2是根据本发明的配置方法的实施方式的框图；
图3是根据本发明的校正方法的实施方式的框图；
图4示意性地描绘了根据本发明的校正系统的实施方式；
图5示意性地描绘了用于测量用于光学元件的每个像素的干扰信号的振幅的装置；以及
图6示意性地描绘了在配置之前和之后为光学元件的每个像素测量的干扰信号的振幅。
具体实施方式
在下面的说明书中，若干附图所共有的元件用共同的标示符表示。
本发明的详细描述
图1示意性地示出了校正设备的实施例。
校正设备100包括至少一个输入102和至少一个输出104。
在输入102与输出104之间，校正设备100包括若干光学元件1061-106n。每个光学元件106具有可调整的空间相位剖面。例如，每个光学元件106可以是空间相位调制器（SLM）或可变形镜（DM）。每个光学元件106与另一个光学元件106通过自由空间传播和透镜（未示出）分离，该自由空间传播和透镜执行光学变换。
在被配置时，失真信号被输入到校正设备100并且一个接一个地传播经过光学元件106。在最后一个光学元件106n之后，失真信号被校正并且校正设备提供失真信号的校正版本。
在校正设备的另一实施方式中，若干光学元件1061-106n可被单个光学元件，即光学相位调制器或可变形镜的独立部分所取代。
图2是根据本发明的配置方法的实施方式的框图。
配置方法200包括生成光信号的第一步骤202。
在步骤203处，使用声光调制器、简单的斩波器或其它装置对光信号的空间分布进行调制以改变光的空间分布。空间调制可以是任意的。
在步骤204处，将光信号分成被称为第一信号和参考信号的两个相同的光信号。
在步骤206处，将第一信号传播穿过介质，因此在介质的输出处获得失真信号。
在步骤208处，对参考信号进行相位调制。
在步骤210处，在相反的方向将失真信号和参考信号传播穿过校正设备，即光学元件。
失真信号和被调制的参考信号传播穿过每个光学元件在每个光学元件处，更具体地在每个光学元件的每个像素处，生成干扰信号。
在步骤212处，对失真信号与被调制的参考信号之间的干扰执行优化。
优化步骤212包括为校正设备的光学元件的每个像素测量干扰参数（即，参考信号的光强度）的步骤214。对于每个像素，所测量的干扰信号的强度因参考信号的相位调制而振荡。因此，对于给定的光学元件，存在与像素一样多的振荡信号。
优化步骤212还包括用于修改所考虑的光学元件的空间相位剖面以同步所测量的振荡信号的步骤216。
用于光学元件的同步可按如下执行。在光学元件的所有像素中选择参考像素。对于光学元件的每个像素：
-测量干扰信号的相位；
-通过对所测量的相位与参考像素的相位进行比较，确定相位延迟；
-修改由像素施加的空间相位以减少/消去所述相位延迟。
取代选择参考像素，可选择参考相位并且可通过将每个像素的参考信号的相位与参考相位进行比较来确定用于每个像素的相位延迟。
不管顺序为校正设备的每个光学元件实现步骤214和216。此条件在步骤218处被验证，步骤218确保为校正设备的全部光学元件实现步骤214和216。
当为校正设备的全部光学元件实现了步骤214和216时，在步骤220处计算第二干扰参数，即，干扰可见度。
在步骤222处，测试干扰可见度值。
如果干扰可见度的值令人满意，则配置方法结束并且设备准备使用。
取代可见度，可使用其它测量作为终止参数，诸如系统的输出图像的对照、输出图像的局部对照、期望强度分布的逼真度、期望相位剖面的逼真度、期望强度和相位剖面的逼真度、输出图像的对称、输出图像的不对称、在设备的不同点处测量的相位差、在设备的不同点处测量的强度分布。
相反地，即，如果干扰可见度的值不令人满意，例如小于预定阈值，则重复优化步骤212直到获得干扰可见度的令人满意的值。
图3是根据本发明的校正方法的实施方式的框图。
图3中所示的校正方法300包括配置阶段302，即配置如图1所示的设备100的校正设备并且根据图2所示的配置方法200实现。
在配置阶段302之后，校正方法300还包括校正阶段304。
校正阶段包括用于通过配置设备校正失真信号的步骤306。
校正阶段还包括在校正步骤期间在介质上发生改变的情况下调整设备的配置的步骤308。然后校正步骤306停止。实现调整步骤308。当调整步骤308完成时，继续进行校正步骤308。
图4示意性地示出了根据本发明的校正系统400。
图4所示的校正系统400包括源402，源402提供被空间调制的光信号404。光信号404通过半反射镜406被分成两个相等且相同的光信号。因此，获得了第一光信号408和参考光信号410。
第一光信号408传播穿过介质412，并且在介质412的输出处获得失真的光信号414。
参考信号410因两个反射镜418和420而进入相位调制器516中。
失真信号414从输入102经过校正设备100传播至输出104并且从第一光学元件1061经过全部的光学元件106至最后一个光学元件106n。
调制的参考信号410从输出104经过校正设备100传播至输入102并且从最后一个光学元件106n经过全部的光学元件106至第一个光学元件1061。
失真信号414和调制的参考信号410的传播导致校正设备中（例如，每个光源元件106处）的干扰信号。
系统400包括用于每个光学元件的优化模块4181至418n。
每个优化模块418i包括CCD照相机420i和至少一个致动器422i，CCD照相机420i为光学元件106i的每个像素测量干扰信号的振幅，至少一个致动器422i适于修改光学元件106i的每个像素的相位剖面。
致动器422i实现由光学元件106i的每个像素所施加的相位延迟的随机修改。
一个接一个地为每个光学元件106实现优化。例如，为第一光学元件1061、然后为第二光学元件1062等实现优化。当为每个元件实现了一个优化步骤时，完成第一优化循环。然后实现第二优化循环等等。
当达到干扰可见度的期望值（例如，0.95）时，停止优化。
在光学元件106上实现优化的次序是不重要的。
图5是用于为光学元件的每个像素测量干扰信号的振幅的装置的示意性表示。
考虑全部光学元件106包括相同数量的像素，例如p个像素。
CCD照相机422i适于且被配置成为光学元件106i的像素5021-502p的每个像素502测量干扰信号的强度。
以相同的方式为光学像素106i的每个像素502j测量干扰信号的强度。
失真信号414在与光学元件106i相关联的半反射镜504i上被反射。失真信号的与光学元件106i的像素502j交叉的部分4141被投射到CCC照相机422i。第二部分4142继续传播至光学元件106i+1。
来自光学元件106i+1且将要与光学元件106i的像素502j交叉的调制的参考信号410在半反射镜504i上被反射。调制的参考信号410的一部分4101然后被反射至镜子506i，镜子506i又将调制的参考信号410的该部分4101反射至CCD照相机422i。第二部分4102继续传播至光学元件106i，更具体地，传播至光学元件106i的像素502j。
因此，对于每个光学元件106的每个像素502，由CCD照相机522测量干扰信号的强度。
图6示意性地示出了例如在图2所示的配置方法的步骤214处，为光学元件的每个像素测量的干扰信号的强度。
图6的曲线图602的振荡曲线6041、604j和604p示意性地表示在校准之前为光学元件106的像素1、j和p测量的干扰信号的强度。
在校准之前，振荡强度曲线604未被同步化，并且总强度（即，为每个像素所测量的强度之和）未振荡。这意味着干扰可见度参数的值为0。
图6的曲线图606的振荡曲线6041、604j和604p示意性地表示在校准之后为像素1、j和p所测量的干扰信号的强度。
在校准之后，振荡振幅曲线604被良好地同步化，并且总强度（即，为每个像素测量的强度之和）是最大的。
该设备被良好地配置并且能够校正失真信号和恢复初始信号。
本发明尤其适于校正光纤对光纤信号的作用。
替换实施方式
在给出的实施例中，根据本发明的方法、设备和系统被具体地示出和描述为校正介质对光信号的作用。然而，根据本发明的方法、设备和系统还可用于向光信号应用给定的变形。
在这种使用中，介质被用于应用给定的变形并且：
-用于配置校正设备100的方法200和系统400是等同的，并且当设备在使用时，即在设备已被配置之后，例如当在方法300中使用该设备时，校正设备的输入102和输出104转换；或者
-实际上使用设备100，参考信号410和失真信号414在方法200和300中以及在系统400中转换，即，失真信号414用作参考信号并且参考信号用作失真信号。
尽管本发明已经主要参考优选实施方式具体示出和描述，但是将理解，可进行形式上和细节上的各种变化而不背离本发明的精神和范围。

Claims (20)

1.一种用于对设备（100）进行配置以校正介质（412）对已传播穿过所述介质（412）的光信号的作用的方法（200），所述设备（100）包括至少一个光学元件（1061-106n），所述至少一个光学元件（1061-106n）的空间相位剖面能够被单独调整，所述方法（100）包括如下步骤：
-将第一光信号（408）传播（206）穿过所述介质（412），该传播步骤（206）提供所谓的失真信号（414）；
-将所述失真信号（414）传播（210）穿过所述设备（100）；
-将被称为参考信号的第二光信号（410）传播（210）穿过所述设备（100），所述参考信号（410）与所述第一信号（408）相同；
-优化（212）所述失真信号（414）与所述参考信号（410）之间的干扰，该优化步骤（212）包括对于至少一个光学元件（1061-106n）进行下列步骤的至少一次迭代：
-对所述失真信号（414）与所述参考信号（410）之间的至少一个干扰参数进行测量（214）；以及
-根据所述干扰参数修改（216）至少一个光学元件（1061-106n）的相位剖面。
2.根据权利要求1所述的方法，其中测量干扰参数的步骤（214）包括为每个光学元件测量如下参数的步骤：
-用于每个光学元件（1061-106n）的若干区域的干扰参数；和/或
-用于每个光学元件（1061-106n）的每个像素（5021-502p）的干扰参数；和/或
-用于全部光学元件（1061-106n）的干扰参数。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中干扰参数包括与由所述参考信号（410）和所述失真信号（414）的干扰所获得的干扰信号的强度相关的参数（6041-604p）。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中修改光学元件（1061-106n）的空间相位剖面的步骤（216）包括对由所述光学元件（1061-106n）的至少一个区域和/或至少一个像素（5021-502p）向光信号施加的相位延迟进行修改。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括：在所述参考信号（410）传播穿过所述设备（100）之前对所述参考信号（410）进行相位调制的步骤（208）。
6.根据权利要求5所述的方法，还包括：测量所述参考信号（410）与所述失真信号（414）之间的干扰可见度参数的步骤（220）。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中一个接一个地为所述校正设备（100）的每个光学元件（1061-106n）实现优化步骤（212）。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括从唯一的光信号（404）生成所述第一信号（408）和所述参考信号（410）的步骤（202）。
9.如权利要求8所述的方法，包括对所述唯一的光信号（408）进行空间调制的步骤（201）。
10.一种计算机程序，包括在计算机或计算装置执行所述计算机程序时实现根据前述权利要求中任一项所述的方法中的步骤的指令。
11.一种用于校正介质（412）对已传播穿过所述介质（412）的光信号的作用的设备（100），包括至少一个光学元件（1061-106n），所述至少一个光学元件（1061-106n）的空间相位剖面能够被单独调整，所述设备（100）根据权利要求1至9中任一项所述的方法（200）配置。
12.根据权利要求11所述的设备（100），其中至少一个光学元件（1061-106n）是空间光调制器或可变形镜。
13.一种用于校正介质（412）对已传播穿过所述介质（412）的光信号的作用的方法（300），所述方法（300）实现设备（100），所述设备（100）包括至少一个光学元件（1061-106n），所述至少一个光学元件（1061-106n）的相位剖面能够被单独调整，所述方法包括：
-根据权利要求1至9中任一项所述的方法（200）配置所述设备的配置阶段（302）；以及
-通过所述校准设备（100）校正所述信号的校正阶段（304）。
14.根据权利要求13所述的方法，还包括至少一个调整步骤（308），所述调整步骤（308）用于在所述校正阶段（304）中在所述介质（412）中发生变化的情况下调整所述设备（100）的配置。
15.一种系统（400），对用于校正介质（412）对已传播穿过所述介质（412）的光信号的作用的设备（100）进行配置，所述设备（100）包括至少一个光学元件（1061-106n），所述至少一个光学元件（1061-106n）的空间相位剖面能够被单独调整，所述系统（400）包括：
-用于将第一光信号（408）传播穿过所述介质（412）的装置（406），所述介质（412）由此提供所谓的失真信号（414）；
-用于将所述失真信号（414）传播穿过所述设备（100）的装置；
-用于将被称为参考信号的第二光信号（410）传播穿过所述设备（100）的装置（406、418、420），所述参考信号（410）与所述第一信号相同；
-用于在每个光学元件（1061-106n）的位置处测量所述失真信号（414）与所述参考信号（410）之间的干扰参数的装置（4201-420n；504i、506i）；以及
-用于修改所述光学元件（1061-106n）中的至少一个的相位剖面以增加所述干扰参数的装置（4221-422n）。
16.根据权利要求15所述的系统，还包括用于在所述参考信号（410）传播穿过校正设备（100）之前对所述参考信号（410）进行调制的调制装置（416）。
17.根据权利要求15或16所述的系统，其中测量装置包括用于每个光学元件（1061-106n）的CCD照相机（4201-420n）。
18.根据权利要求15至17中任一项所述的系统，其中修改装置包括用于每个光学元件（1061-106n）的至少一个致动器（4221-422n）。
19.一种用于校正介质对已传播穿过所述介质的光信号的作用的系统，所述系统包括：
-校正设备（100），包括至少一个光学元件，所述至少一个光学元件的空间相位剖面能够被单独地调整；以及
-根据权利要求15至18中任一项所述的配置系统（400），以配置所述设备（100）。
20.使用以下各项来向光信号施加给定的变形的用途：
根据权利要求1至9中任一项所述的方法，和/或根据权利要求15-18中任一项所述的用于配置设备的系统；
根据权利要求10所述的计算机程序；
根据权利要求11-12中任一项所述的设备；
根据权利要求13-14中任一项所述的方法；和/或
根据权利要求19所述的系统，
其中：
-由所述介质施加的变形是所述给定的变形；
-所述失真信号是所述参考信号；以及
-所述第二信号是待变形的信号。
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