CN103213326A - 新型耐磨耐用瓦楞辊 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种新型耐磨耐用瓦楞辊,包括:辊筒基体和设置在所述辊筒基体两端的辊轴,所述辊轴与所述辊筒基体同轴设置,所述辊筒基体的外部设有多个瓦楞齿,所述瓦楞齿的外表面上设有碳化钛涂层,所述碳化钛涂层的外表面上设有氮化铝钛涂层,所述氮化铝钛涂层的外表面上设有碳化钨涂层,所述碳化钛涂层、氮化铝钛涂层和碳化钨涂层的厚度从内向外依次递增。通过上述方式,本发明具有很好的耐磨性能,充分满足企业的需求。
Description
技术领域
本发明涉及压辊技术领域,特别是涉及一种新型耐磨耐用瓦楞辊。
背景技术
瓦楞辊是瓦楞纸板生产设备中最重要的组成部分,它一般都采用48CrMoA钢,经表面热处理和冷处理或表面冷处理后,其硬度一般都在HRC55以上。瓦楞辊是单面机的重要关键零件。瓦楞辊上的外齿是瓦楞辊最重要的部分,现有的瓦楞辊外齿在耐磨耐用性能方面还有待改进。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种新型耐磨耐用瓦楞辊,能够解决现有技术中存在的问题,具有很好的耐磨性能,充分满足企业的需求。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种新型耐磨耐用瓦楞辊,包括:辊筒基体和设置在所述辊筒基体两端的辊轴,所述辊轴与所述辊筒基体同轴设置,所述辊筒基体的外部设有多个瓦楞齿,所述瓦楞齿的外表面上设有碳化钛涂层,所述碳化钛涂层的外表面上设有氮化铝钛涂层,所述氮化铝钛涂层的外表面上设有碳化钨涂层,所述碳化钛涂层、氮化铝钛涂层和碳化钨涂层的厚度从内向外依次递增。
在本发明一个较佳实施例中,所述碳化钛涂层的厚度为0.07~0.12mm。
在本发明一个较佳实施例中,所述氮化铝钛涂层的厚度为0.13~0.20mm。
在本发明一个较佳实施例中,所述碳化钨涂层的厚度为0.18~0.25mm。
本发明的有益效果是:本发明揭示的新型耐磨耐用瓦楞辊,具有很好的耐磨性能,充分满足企业的需求。
附图说明
图1是本发明新型耐磨耐用瓦楞辊一较佳实施例的结构示意图;
图2是所述瓦楞齿外部的涂层结构示意图;
附图中各部件的标记如下:1、辊筒基体,2、辊轴,3、瓦楞齿,4、碳化钛涂层,5、氮化铝钛涂层,6、碳化钨涂层。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1和图2,本发明实施例包括:
一种新型耐磨耐用瓦楞辊,包括:辊筒基体1和设置在所述辊筒基体1两端的辊轴2,所述辊轴2与所述辊筒基体1同轴设置,所述辊筒基体1的外部设有多个瓦楞齿3,所述瓦楞齿3的外表面上设有碳化钛涂层4,所述碳化钛涂层4的外表面上设有氮化铝钛涂层5,所述氮化铝钛涂层5的外表面上设有碳化钨涂层6,所述碳化钛涂层4、氮化铝钛涂层5和碳化钨涂层6的厚度从内向外依次递增。
通过碳化钛涂层4、氮化铝钛涂层5和碳化钨涂层6的结合,使得本发明具有很好的耐磨性能。
所述碳化钛涂层4的厚度为0.07~0.12mm。
所述氮化铝钛涂层5的厚度为0.13~0.20mm。
所述碳化钨涂层6的厚度为0.18~0.25mm。
本发明揭示的新型耐磨耐用瓦楞辊,具有很好的耐磨性能,充分满足企业的需求。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种新型耐磨耐用瓦楞辊,其特征在于,包括:辊筒基体和设置在所述辊筒基体两端的辊轴,所述辊轴与所述辊筒基体同轴设置,所述辊筒基体的外部设有多个瓦楞齿,所述瓦楞齿的外表面上设有碳化钛涂层,所述碳化钛涂层的外表面上设有氮化铝钛涂层,所述氮化铝钛涂层的外表面上设有碳化钨涂层,所述碳化钛涂层、氮化铝钛涂层和碳化钨涂层的厚度从内向外依次递增。
2.根据权利要求1所述的新型耐磨耐用瓦楞辊,其特征在于,所述碳化钛涂层的厚度为0.07~0.12mm。
3.根据权利要求1所述的新型耐磨耐用瓦楞辊,其特征在于,所述氮化铝钛涂层的厚度为0.13~0.20mm。
4.根据权利要求1所述的新型耐磨耐用瓦楞辊,其特征在于,所述碳化钨涂层的厚度为0.18~0.25mm。
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2013
- 2013-03-27 CN CN 201310099695 patent/CN103213326A/zh active Pending
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130724 |