CN103105737A - 使用拼接的多光源的光刻装置 - Google Patents

使用拼接的多光源的光刻装置 Download PDF

Info

Publication number
CN103105737A
CN103105737A CN2011103536765A CN201110353676A CN103105737A CN 103105737 A CN103105737 A CN 103105737A CN 2011103536765 A CN2011103536765 A CN 2011103536765A CN 201110353676 A CN201110353676 A CN 201110353676A CN 103105737 A CN103105737 A CN 103105737A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
light source
lithographic equipment
splicing
courcess
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2011103536765A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103105737B (zh
Inventor
韩雨青
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN201110353676.5A priority Critical patent/CN103105737B/zh
Publication of CN103105737A publication Critical patent/CN103105737A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103105737B publication Critical patent/CN103105737B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

一种使用拼接的多光源的光刻装置,包括光源模块、掩模和镜头,光源模块具有多个光源、与多个光源对应的整形光学组件、光源组合元件和匀光部件,从各个光源出射的光经对应的整形光学组件整形后入射至光源组合元件后出射至匀光部件,经匀光部件匀光后作为光刻装置的光源模块的出射光。

Description

使用拼接的多光源的光刻装置
技术领域
本发明涉及光刻领域,尤其涉及使用拼接的多光源的光刻装置。
背景技术
随着光刻技术的发展,对曝光系统的照度要求要求越来越高、体积要求越来越小,单一的光源很难满足这样的发展要求,因此产生了集合多个光源的光能进行光刻的视场需求。
如美国专利US5991009中所公开的光刻机,如图1所示,采用了两个汞灯作为光源,使用光学透镜组,将光能合二为一用来曝光。该方案可以同时使用两个汞灯光源,与市场上大多数光刻机相比,具有照度上的明显优势,但是,同时其体积太大的缺点也较为明显。
发明内容
本发明提供了一种光刻装置,包括光源模块,掩模和镜头,其特征在于,所述光源模块具有多个光源、与多个光源对应的整形光学组件、光源组合元件和匀光部件,从各个光源出射的光经对应的整形光学组件整形后入射至光源组合元件后出射至匀光部件,经匀光部件匀光后作为光刻装置的光源模块的出射光。
其中,所述光源组合元件包含透射元件及反射元件。
其中,部分光源发出的光经反射元件反射后进入匀光部件,部分光源发出的光直接经整形光学组件整形后进入匀光部件。
其中,所述反射元件与光源一一对应。
其中,所述反射元件为直角棱镜。
其中,所述光源为出射光波长相同的汞灯、LED或LD,各个光源的功率可调,发光方向可调。
其中,所述反射元件为透反射元件,从一部分光源出射的光经透反射元件透射后入射至匀光部件,从另一部分光源出射的光经透反射元件反射后进入匀光部件。
其中,所述匀光部件为石英棒。
其中,所述石英棒为矩形、锥形或截面为六角形的石英棒。
根据本发明的光刻装置,其光源为利用匀光部件拼接多个光源而得到的组合光源,采用这种光源可以明显提高光刻装置的照度,从而提高产率,并且结构简单,有利于小型化的实现。
附图说明
关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。
图1所示为现有技术的光刻装置的结构示意图;
图2所示为根据本发明的第一实施方式的光刻装置的结构示意图;
图3所示为根据本发明的第二实施方式的光刻装置的结构示意图;
图4所示为根据本发明的第三实施方式的光刻装置的光源结构的示意图。
具体实施方式
下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。
第一实施方式
图1所示为根据本发明的第一实施方式的光刻装置的结构示意图,在该光刻装置中使用了多个光源,其中,从各个光源101所发出的光线通过光学元件或元件组103入射到直角棱镜102中,通过直角棱镜102再入射至作为匀光元件的石英棒104中,经过后续光学元件照射到掩模106上,最后经过镜头105,入射到硅片面上。
在本实施方式中采用了直角棱镜和石英棒的拼接方案,可以用于实现多个汞灯光源或者多个LED光源的拼接,从而制造相对高功率的光刻设备。
尽管在本实施方式中使用了4个光源作为示意,但不限于使用4个光源,根据不同硅片大小、石英棒尺寸、光源尺寸等,可以使用不同的数量作为光能来源,并可以根据要求对光源照射方向进行调解。
图1所示的石英棒为矩形,但并不限于这种形状,根据实际需要,可以使用不同形状的石英棒,例如,为了改变光束角度大小,可以使用入口和出口大小不等的石英棒,为了使经过匀光棒的光束获得更好的多极平衡性,可以使用截面为六角形的石英棒等。
第二实施方式
图2所示为根据本发明的第二实施方式的光刻装置的结构示意图。从各个光源201发出的光线经过光学透镜或透镜组202,入射至直角棱镜203中,再入射至起匀光作用的石英棒204中,然后通过后续光学元件对光束形状、角度进行调整后入射至掩模206上,再通过光学镜头205,照射到硅片207上,完成曝光。
本实施方式的光源选用LED或LD时,可以根据光源排布的方式,控制不同位置的LED或LD光源的功率,用来获得更好的均匀性。由于镜头205的瞳面上的均匀性与石英棒204出射端的光线角度分布直接相关,从而可以通过调整相应位置的LED、LD光源的功率,获得更好的瞳面均匀性。
尽管在图2中使用了8个光源作为示意,但本实施方式并不限于这种阵列排布方式和数量,也可以其中部分光源使用棱镜或反射元件使其进入石英棒,部分不使用而是在经过透镜或透镜组202之后直接进入石英棒。
根据实际需要,可以使用不同形状的石英棒,例如,为了改变光束角度大小,可以使用入口和出口大小不等的石英棒,为了使经过匀光棒的光束获得更好的多极平衡性,可以使用截面为六角形的石英棒等。
第三实施方式
图3所示为根据本发明的第三实施方式的用于光刻装置的光源的结构示意图。从各个光源301出射的光经透镜或透镜组302进行整形后入射至起光束组合作用的棱镜303后,经由棱镜303全反射或直接透射而入射至起匀光作用的石英棒304。调整两个光源装置的相对位置、角度等,可以在石英棒出端获得不同NA、面积的光束,适应不同的光刻需要。
当然,尽管本实施方式中采用了两个光源作为示意,但是本实施方式并不限于两个光源,可以根据需要适当增加光源数目。此外,根据实际需要,可以使用不同形状的石英棒,例如,为了改变光束角度大小,可以使用入口和出口大小不等的石英棒,为了使经过匀光棒的光束获得更好的多极平衡性,可以使用截面为六角形的石英棒等。
本说明书中所述的只是本发明的较佳具体实施例,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的限制。凡本领域技术人员依本发明的构思通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在本发明的范围之内。

Claims (11)

1.一种使用拼接的多光源的光刻装置,包括光源模块,掩模和镜头,其特征在于,所述光源模块具有多个光源、与多个光源对应的整形光学组件和匀光部件,从各个光源出射的光经对应的整形光学组件整形后入射至匀光部件,经匀光部件匀光后作为光刻装置的光源模块的出射光。
2.根据权利要求1所述使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述整形光学组件包含透射元件及反射元件。
3.根据权利要求2所述使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述反射元件与光源一一对应。
4.根据权利要求3所述使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述反射元件为直角棱镜。
5.根据权利要求4所述使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述光源为出射光波长相同的汞灯、LED或LD,各个光源的功率可调,发光方向可调。
6.根据权利要求2所述的使用拼接的多光源的光刻装置,其中,部分光源发出的光经反射元件反射后进入匀光部件,部分光源发出的光直接经透射元件整形后进入匀光部件。
7.根据权利要求6所述使用拼接的多光源的光刻装置,其中所述反射元件为直角棱镜。
8.根据权利要求7所述使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述光源为出射光波长相同的汞灯、LED或LD,各个光源的功率可调,发光方向可调。
9.根据权利要求2所述的使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述反射元件为透反射元件,从一部分光源出射的光经透反射元件透射后入射至匀光部件,从另一部分光源出射的光经透反射元件反射后进入匀光部件。
10.根据权利要求1-9中任意一个所述的使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述匀光部件为石英棒。
11.根据权利要求10所述使用拼接的多光源的光刻装置,其中,所述石英棒为矩形、锥形或截面为六角形的石英棒。
CN201110353676.5A 2011-11-10 2011-11-10 使用拼接的多光源的光刻装置 Active CN103105737B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110353676.5A CN103105737B (zh) 2011-11-10 2011-11-10 使用拼接的多光源的光刻装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110353676.5A CN103105737B (zh) 2011-11-10 2011-11-10 使用拼接的多光源的光刻装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103105737A true CN103105737A (zh) 2013-05-15
CN103105737B CN103105737B (zh) 2016-06-01

Family

ID=48313698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201110353676.5A Active CN103105737B (zh) 2011-11-10 2011-11-10 使用拼接的多光源的光刻装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103105737B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017092719A3 (zh) * 2015-11-30 2017-07-20 上海微电子装备(集团)股份有限公司 自由光瞳照明方法及照明系统
CN107885042A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 多光谱光源耦合装置
CN108333790A (zh) * 2018-03-14 2018-07-27 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 一种用于流动显示的直接纹影成像系统
CN108931888A (zh) * 2017-05-24 2018-12-04 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻机的照明系统

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5091744A (en) * 1984-02-13 1992-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system
US20020114157A1 (en) * 2001-02-20 2002-08-22 Prokia Technology Co., Ltd. Illuminating apparatus including a plurality of light sources that generate primary color light components
JP2006278907A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Ushio Inc 光照射装置および光照射装置における光源ユニットの交換方法
US20070139791A1 (en) * 2004-06-29 2007-06-21 Anvik Corporation Illumination system optimized for throughput and manufacturability
CN101216676A (zh) * 2007-12-28 2008-07-09 上海微电子装备有限公司 一种用于微光刻的照明光学系统
CN101586748A (zh) * 2009-04-09 2009-11-25 上海微电子装备有限公司 一种照明装置
CN101963766A (zh) * 2009-07-23 2011-02-02 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻机的掩模预对准装置及方法
CN201804203U (zh) * 2010-08-04 2011-04-20 福州高意通讯有限公司 一种投影显示系统

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5091744A (en) * 1984-02-13 1992-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system
US20020114157A1 (en) * 2001-02-20 2002-08-22 Prokia Technology Co., Ltd. Illuminating apparatus including a plurality of light sources that generate primary color light components
US20070139791A1 (en) * 2004-06-29 2007-06-21 Anvik Corporation Illumination system optimized for throughput and manufacturability
JP2006278907A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Ushio Inc 光照射装置および光照射装置における光源ユニットの交換方法
CN101216676A (zh) * 2007-12-28 2008-07-09 上海微电子装备有限公司 一种用于微光刻的照明光学系统
CN101586748A (zh) * 2009-04-09 2009-11-25 上海微电子装备有限公司 一种照明装置
CN101963766A (zh) * 2009-07-23 2011-02-02 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻机的掩模预对准装置及方法
CN201804203U (zh) * 2010-08-04 2011-04-20 福州高意通讯有限公司 一种投影显示系统

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017092719A3 (zh) * 2015-11-30 2017-07-20 上海微电子装备(集团)股份有限公司 自由光瞳照明方法及照明系统
CN107885042A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 多光谱光源耦合装置
CN108931888A (zh) * 2017-05-24 2018-12-04 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻机的照明系统
CN108931888B (zh) * 2017-05-24 2020-12-18 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻机的照明系统
CN108333790A (zh) * 2018-03-14 2018-07-27 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 一种用于流动显示的直接纹影成像系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN103105737B (zh) 2016-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7310186B2 (en) Uniform multiple light source etendue
CN204786017U (zh) 一种导光照明自适应激光前照灯
CN103543609B (zh) 用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统
KR102144597B1 (ko) 광원 장치 및 노광 장치
US20100284201A1 (en) Illuminator using non-uniform light sources
CN105511087A (zh) 基于复眼透镜的激光显示匀场整形装置
CN100590346C (zh) 一种led路灯
CN102566294A (zh) 一种光刻照明光学系统
CN103105737A (zh) 使用拼接的多光源的光刻装置
CN108803244A (zh) 照明装置及照明方法和一种光刻机
CN202083837U (zh) 激光投影显示系统
KR101110516B1 (ko) 노광용 광원
CN101216676B (zh) 一种用于微光刻的照明光学系统
CN203363832U (zh) 一种同时包含多种光束效果的舞台灯具系统
KR101440874B1 (ko) 엘이디 광원을 이용한 시준 기능을 갖는 노광용 광학모듈
CN105207058A (zh) 白光激光模组、激光显示系统和激光投影系统
CN102221785A (zh) 一种使用汞灯光源的光刻照明装置
CN104166312B (zh) 一种多光源大视场拼接照明系统
CN113759650A (zh) 一种车辆地毯灯、车辆地毯灯系统组件和设计方法
CN211826877U (zh) 照明系统及投影装置
CN112346271A (zh) 一种hud背光照明系统
CN101154054B (zh) 基板曝光装置及照明装置
CN205353467U (zh) 基于复眼透镜的激光显示匀场整形装置
KR102315115B1 (ko) 조명 장치 및 방법, 노광 장치 및 방법, 및 디바이스 제조 방법
CN107450274A (zh) 照明光学系统及采用该照明光学系统的光刻设备

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 201203 Shanghai Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area Zhang Road No. 1525

Patentee after: Shanghai microelectronics equipment (Group) Limited by Share Ltd

Address before: 201203 Shanghai Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area Zhang Road No. 1525

Patentee before: Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.